[發(fā)明專利]量子點(diǎn)薄膜的制備方法和量子點(diǎn)發(fā)光二極管的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811289692.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111129355B | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉煒浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | TCL科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/56 | 分類號(hào): | H01L51/56;H01L51/50 |
| 代理公司: | 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414 | 代理人: | 方良 |
| 地址: | 516006 廣東省惠州市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 量子 薄膜 制備 方法 發(fā)光二極管 | ||
1.一種量子點(diǎn)薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
提供量子點(diǎn)溶液,所述量子點(diǎn)溶液中含有表面結(jié)合有表面配體的量子點(diǎn);
將所述量子點(diǎn)溶液沉積在基底上,得到初始量子點(diǎn)薄膜;
將所述初始量子點(diǎn)薄膜進(jìn)行加熱處理以使所述表面配體裂解和蒸發(fā),所述初始量子點(diǎn)薄膜中的目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量小于1%后,置于含有水和/或氧的氣氛中進(jìn)行紫外光照處理,得到所述量子點(diǎn)薄膜;其中,所述目標(biāo)元素為不含碳元素和所述量子點(diǎn)元素的剩余表面配體元素。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述加熱處理的溫度為100-200℃;和/或
所述加熱處理的時(shí)間為5-50min。
3.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述紫外光照處理的時(shí)間為5-20min;
和/或,所述含有水的氣氛具體是指相對(duì)濕度為65-85%的氣氛。
4.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在進(jìn)行所述紫外光照處理之前,還包括對(duì)所述加熱處理后的初始量子點(diǎn)薄膜中的量子點(diǎn)表面配體含量進(jìn)行檢測(cè),且在所述初始量子點(diǎn)薄膜中的目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量小于1%以后,再進(jìn)行紫外光照處理。
5.如權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,對(duì)所述加熱處理后的初始量子點(diǎn)薄膜中的量子點(diǎn)表面配體含量進(jìn)行檢測(cè)的方法為掃描電鏡分析法或透射電鏡分析法。
6.如權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,對(duì)所述加熱處理后的初始量子點(diǎn)薄膜中的量子點(diǎn)表面配體含量進(jìn)行檢測(cè),且在所述初始量子點(diǎn)薄膜中的目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量小于1%以后,再進(jìn)行紫外光照處理的步驟包括:
對(duì)第一次加熱處理后的初始量子點(diǎn)薄膜中的量子點(diǎn)表面配體含量進(jìn)行檢測(cè)后,如果所述目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量小于1%,則將所述第一次加熱處理后的量子點(diǎn)薄膜直接置于含有水和/或氧的氣氛中進(jìn)行紫外光照處理;
對(duì)第一次加熱處理后的初始量子點(diǎn)薄膜中的量子點(diǎn)表面配體含量進(jìn)行檢測(cè)后,如果所述目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量等于或大于1%,則進(jìn)行第二次加熱處理,對(duì)所述第二次加熱處理后的量子點(diǎn)薄膜中的量子點(diǎn)表面配體含量進(jìn)行檢測(cè),如果所述目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量小于1%,則將所述第二次加熱處理后的量子點(diǎn)薄膜置于含有水和/或氧的氣氛中進(jìn)行紫外光照處理;如果所述目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量等于或大于1%,則繼續(xù)重復(fù)上述加熱處理和量子點(diǎn)表面配體含量檢測(cè)的步驟至所述目標(biāo)元素的質(zhì)量百分含量小于1%后,進(jìn)行紫外光照處理。
7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的制備方法,其特征在于,所述表面配體選自硫醇、羧酸、胺基化合物、烷基磷、烷基氧膦和烷基磷酸中的至少一種;和/或
所述量子點(diǎn)選自CdSe、CdS、ZnSe、ZnS、PbSe、PbS、CdTe、CdZnSe、CdSeS、PbSeS、ZnCdTe、CdS/ZnS、CdZnS/ZnS、CdZnSe/ZnSe、CdSeS/CdSeS/CdS、CdSe/CdZnSe/CdZnSe/ZnSe、CdZnSe/CdZnSe/ZnSe、CdS/CdZnS/CdZnS/ZnS、CuInS2、CuInSe2、CsPbCl3、CsPbBr3和CsPbI3中的至少一種。
8.如權(quán)利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述硫醇選自一硫醇、二硫醇、巰基醇、巰基胺和巰基酸中的至少一種;和/或
所述胺基化合物包括油胺、辛胺、二辛胺、三辛胺、壬胺、二壬胺、三壬胺、癸胺、十一胺、十二胺、十三胺、十四胺、十五胺、十六胺、十七胺和十八胺中的至少一種;和/或
所述烷基磷酸選自十烷基磷酸、十一烷基磷酸、十二烷基磷酸、十三烷基磷酸、十四烷基磷酸、十五烷基磷酸、十六烷基磷酸和十八烷基磷酸中的至少一種;和/或
所述烷基磷選自三丁基膦、三戊基膦、三己基膦、三庚基膦、三辛基膦、三壬基膦和三癸基膦中的至少一種;和/或
所述烷基氧膦選自三丁基氧膦、三戊基氧膦、三己基氧膦、三庚基氧膦、三辛基氧膦、三壬基氧膦和三癸基氧膦中的至少一種。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
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