[發明專利]圖像獲取方法、圖像獲取裝置、結構光組件及電子裝置

有效

• 申請號: 201811288774.3
• 申請日: 2018-10-31
• 公開（公告）號: CN109167905B
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 張學勇
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: H04N5/225
• 分類號: H04N5/225;H04B10/564;H04B10/516;H04B10/50
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 黃德海

1.一種圖像獲取方法，其特征在于，所述圖像獲取方法包括：

控制結構光投射器朝顯示屏的顯示區發射結構光；

控制結構光攝像頭拍攝由所述結構光產生的散斑圖像；和

根據所述散斑圖像中的測量斑點和參考圖像中的參考斑點獲取深度圖像；

所述控制結構光攝像頭拍攝由所述結構光產生的散斑圖像，包括：

控制所述結構光攝像頭接收出射時經所述顯示區衍射并被目標物體反射后直接入射的結構光以得到所述散斑圖像，所述散斑圖像包括多個所述測量斑點，多個所述測量斑點包括激光僅被所述結構光投射器的衍射光學元件衍射并被所述目標物體反射形成的第一測量斑點，和激光經過所述衍射光學元件一次衍射再由所述顯示屏二次衍射并被所述目標物體反射形成的第二測量斑點。

2.根據權利要求1所述的圖像獲取方法，其特征在于，所述根據所述散斑圖像中的測量斑點和參考圖像中的參考斑點獲取深度圖像，包括：

根據所述散斑圖像中的所述第一測量斑點及所述第二測量斑點與所述參考圖像中的所述參考斑點獲取深度圖像。

3.根據權利要求2所述的圖像獲取方法，其特征在于，所述參考圖像中包括多個所述參考斑點，所述根據所述散斑圖像中的所述第一測量斑點及所述第二測量斑點與所述參考圖像中的所述參考斑點獲取深度圖像，包括：

計算所有所述測量斑點相對于所有所述參考斑點的偏移量；及

根據所述偏移量計算深度數據以得到所述深度圖像。

4.根據權利要求3所述的圖像獲取方法，其特征在于，所述圖像獲取方法還包括：

在標定所述參考圖像時，控制所述結構光攝像頭接收出射時經所述顯示區衍射并被標定物體反射后直接入射的結構光以得到所述參考圖像，所述參考圖像中包括多個所述參考斑點。

5.根據權利要求2所述的圖像獲取方法，其特征在于，所述參考圖像中包括多個所述參考斑點，多個所述參考斑點包括激光僅被所述衍射光學元件衍射并被標定物體反射形成的第一參考斑點和激光經過所述衍射光學元件一次衍射再由所述顯示屏二次衍射并被所述標定物體反射形成的第二參考斑點，所述根據所述散斑圖像中的所述第一測量斑點及所述第二測量斑點與所述參考圖像中的所述參考斑點獲取深度圖像，包括：

計算所述第一測量斑點相對于所述第一參考斑點的偏移量、以及所述第二測量斑點相對于所述第二參考斑點的偏移量；及

根據所述偏移量計算深度數據以得到所述深度圖像。

6.根據權利要求5所述的圖像獲取方法，其特征在于，所述圖像獲取方法還包括：

在標定所述參考圖像時，控制所述結構光攝像頭接收從所述結構光投射器出射后直接被所述標定物體反射并直接入射的結構光以得到第一參考圖像，所述第一參考圖像中包括多個所述參考斑點，多個所述參考斑點包括多個激光僅被所述衍射光學元件衍射并被所述標定物體反射形成的所述第一參考斑點；

在標定所述參考圖像時，控制所述結構光攝像頭接收出射時經所述顯示區衍射并被所述標定物體反射后直接入射的結構光以得到第二參考圖像，所述第二參考圖像中包括多個所述參考斑點，多個所述參考斑點包括激光僅被所述衍射光學元件衍射并被所述標定物體反射形成的所述第一參考斑點和激光經過所述衍射光學元件一次衍射再由所述顯示屏二次衍射并被所述標定物體反射形成的所述第二參考斑點；及

比對所述第一參考圖像與所述第二參考圖像以獲取所述第二參考斑點。

7.根據權利要求6所述的圖像獲取方法，其特征在于，所述圖像獲取方法還包括：

計算每個所述測量斑點與預設亮度之間的實際比值；及

將所述實際比值大于預設比值的所述測量斑點歸類為所述第一測量斑點，及將所述實際比值小于所述預設比值的所述測量斑點歸類為所述第二測量斑點。

8.根據權利要求7所述的圖像獲取方法，其特征在于，所述圖像獲取方法，還包括：

計算多個所述第二參考斑點的亮度的平均值與多個所述第一參考斑點的亮度的平均值之間的比值并作為所述預設比值，及計算多個所述第一參考斑點的亮度的平均值并作為所述預設亮度。