[發(fā)明專利]橫向三極管及其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811286465.2 | 申請日: | 2018-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN109449200A | 公開(公告)日: | 2019-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市富裕泰貿(mào)易有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/735 | 分類號: | H01L29/735;H01L29/06;H01L29/08;H01L29/10;H01L29/417;H01L23/373;H01L21/331 |
| 代理公司: | 深圳市知頂頂知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44504 | 代理人: | 馬世中 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 外延層 集電極 橫向三極管 發(fā)射極溝槽 導電類型 襯底 發(fā)射極多晶硅層 多晶硅層 高溫快速熱退火 第一導電類型 電流放大系數(shù) 集電極接觸 表面生長 底部連接 電流能力 一致性好 發(fā)射極 發(fā)射區(qū) 三極管 上表面 下表面 側(cè)壁 底壁 可調(diào) 制作 生長 貫穿 | ||
本發(fā)明公開了一種橫向三極管及其制作方法,該橫向三極管的形成過程包括:在襯底的上表面生長第二導電類型的第一外延層;形成貫穿第一外延層且底部連接襯底的發(fā)射極溝槽;在發(fā)射極溝槽的側(cè)壁和底壁的表面生長第一導電類型的第二外延層;在第一外延層內(nèi)形成集電極溝槽;形成位于發(fā)射極溝槽內(nèi)的發(fā)射極多晶硅層和位于集電極溝槽內(nèi)的集電極多晶硅層;進行高溫快速熱退火處理,形成位于第二外延層內(nèi)的第二導電類型的發(fā)射區(qū)和位于第一外延層內(nèi)的第二導電類型的集電極接觸區(qū);形成連接發(fā)射極多晶硅層的發(fā)射極和連接集電極多晶硅層的集電極;在襯底的下表面形成基極。該橫向三極管的電流放大系數(shù)便于調(diào)節(jié)、且三極管的參數(shù)的一致性好、電流能力可調(diào)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導體技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種橫向三極管及其制作方法。
背景技術(shù)
三極管,也稱雙極型晶體管,作為半導體基本元器件之一,其具有電流放大的功能,是電子電路的核心元件。三極管包括基區(qū)、發(fā)射區(qū)和集電區(qū),所述基區(qū)較薄,而發(fā)射區(qū)較厚且雜質(zhì)濃度大,所述發(fā)射區(qū)和所述基區(qū)之間形成有發(fā)射結(jié),所述集電區(qū)和所述基區(qū)之間形成有集電結(jié),從所述基區(qū)、發(fā)射區(qū)和集電區(qū)分別引出相應(yīng)的電極,即基極、發(fā)射極和集電極。三極管的性能通常與電流放大倍數(shù)、集電極與基極之間的擊穿電壓、集電極與發(fā)射極之間的擊穿電壓、發(fā)射極與集電極之間的飽和壓降等電性參數(shù)有關(guān)。
請參見圖1,圖中示出了常規(guī)的三極管的結(jié)構(gòu),其包括第一導電類型的襯底1’和生長在所述襯底1’上表面的第二導電類型的外延層2’,所述襯底1’與所述外延層2’之間形成有埋層31’,所述埋層31’通過磷橋32’與集電極33’連接;同時,所述外延層2’內(nèi)形成有第一導電類型的基區(qū)4’,所述基區(qū)4’通過一摻雜濃度更高的第一導電類型的基區(qū)接觸區(qū)41’與基極42’連接;所述基區(qū)4’內(nèi)還形成有第二導電類型的發(fā)射區(qū)5’,所述發(fā)射區(qū)5’與發(fā)射極51’連接。
三極管的電流放大系數(shù)通常受所述基區(qū)4’的濃度和厚度影響。上述常規(guī)的三極管中發(fā)射區(qū)5’必須要制作在基區(qū)4’內(nèi),發(fā)射區(qū)5’下方的基區(qū)4’的厚度為有效厚度,因此,三極管的電流放大系數(shù)同時還受所述發(fā)射區(qū)5’的深度的影響,從而使得調(diào)節(jié)所述三極管的電流放大系數(shù)變得比較困難。同時,所述基區(qū)4’與所述發(fā)射區(qū)5’之間構(gòu)成PN結(jié),由于所述基區(qū)4’和所述發(fā)射區(qū)5’通常都是通過高溫擴散的方式形成,所以在所述PN結(jié)的縱向和橫向上雜質(zhì)分布不均勻,存在濃度梯度,從而使得所述三極管的參數(shù)隨工藝的波動而波動,所述三極管的參數(shù)的一致性較差。另外,上述常規(guī)的三極管為平面型結(jié)構(gòu),電流流動路徑被限定在所述埋層31’上方的所述外延層2’中。通常所述三極管的電流能力受所述外延層2’的厚度的影響,而所述外延層2’的厚度和濃度又由所述三極管的耐壓來決定,所以,當所述三極管的耐壓固定,所述三極管的面積固定,則所述三極管的電流能力也基本固定。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種橫向三極管,該橫向三極管的電流放大系數(shù)便于調(diào)節(jié)、且三極管的參數(shù)的一致性好、電流能力可調(diào)。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用下述技術(shù)方案:該橫向三極管包括:
第一導電類型的襯底;
位于所述襯底的上表面的第二導電類型的第一外延層;
貫穿所述第一外延層且底部連接所述襯底的發(fā)射極溝槽;位于所述發(fā)射極溝槽的側(cè)壁和底壁的表面的第一導電類型的第二外延層,和填充在所述發(fā)射極溝槽內(nèi)的發(fā)射極多晶硅層;位于所述第二外延層內(nèi)且與所述發(fā)射極多晶硅層接觸的第二導電類型的發(fā)射區(qū);
位于所述第一外延層內(nèi)的集電極溝槽;填充在所述集電極溝槽內(nèi)的集電極多晶硅層;位于所述第一外延層內(nèi)且與所述集電極多晶硅層接觸的第二導電類型的集電極接觸區(qū);
位于所述第一外延層、發(fā)射極多晶硅層和集電極多晶硅層的上表面的介質(zhì)層;
貫穿所述介質(zhì)層且連接所述發(fā)射極多晶硅層的發(fā)射極和連接所述集電極多晶硅層的集電極;
位于所述襯底的下表面的基極。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





