[發明專利]一種激光-電化學沉積制備仿生超疏水金屬表面的系統及方法有效
| 申請號: | 201811277219.0 | 申請日: | 2018-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN109226973B | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發明(設計)人: | 顧秦銘;張朝陽;朱浩;徐坤;朱帥杰;蔣雯;王安斌 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | B23K26/362 | 分類號: | B23K26/362;B23H3/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 電化學 沉積 制備 仿生 疏水 金屬表面 系統 方法 | ||
1.一種激光-電化學沉積制備仿生超疏水金屬表面的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:搭建皮秒激光燒蝕、電化學拋光、電化學沉積連續加工系統;
步驟二:利用皮秒激光燒蝕方法,在待加工材料基板上進行紋理化,加工出微米陣列結構;采用皮秒激光燒蝕方法在待加工材料基板上進行紋理化,其中,紋理化過程通過程序控制;紋理化圖案為點陣列或者十字交叉直線陣列;皮秒激光燒蝕紋理化過程在加工點陣列時,激光能量密度為0.91~26.23J/cm2,單點掃描時間為1~10ms,掃描間距為10~50μm,掃描次數為1~30次;在加工十字交叉直線陣列時,激光能量密度為0.91~26.23J/cm2,掃描速度為50~500mm/s,掃描間距為10~70μm,掃描次數為10~30次;
步驟三:利用電化學拋光方法,去除步驟二燒蝕過程中粘附在微米結構上的納米顆粒、熔渣;
步驟四:利用浸蝕方法,對步驟三電化學拋光后微米結構表面進行活化處理;
步驟五:利用電化學沉積方法,在步驟四活化后的微米陣列結構表面沉積出納米棱錐結構。
2.根據權利要求1所述的激光-電化學沉積制備仿生超疏水金屬表面的方法,其特征在于,所述步驟三中,采用電化學拋光方法,將紋理化后的基板作陽極、鉛塊作陰極,拋光液為Na2CO3、KOH和C12H25NaO4S水溶液,在電流密度25mA/cm2條件下,拋光60s,拋光后的基板用去離子水沖洗后干燥。
3.根據權利要求1所述的激光-電化學沉積制備仿生超疏水金屬表面的方法,其特征在于,所述步驟四中,采用浸蝕方法,對步驟三電化學拋光后微米結構表面進行活化處理,浸蝕溶液為10wt%HCl,時間為40s,浸蝕后的基板用去離子水沖洗。
4.根據權利要求1所述的激光-電化學沉積制備仿生超疏水金屬表面的方法,其特征在于,所述步驟五中,采用電化學沉積方法,將清洗后的基板作陰極、鎳塊作為陽極,沉積液為NiCl2·6H2O、H3BO3和C2H10Cl2N2水溶液,其中NiCl2·6H2O用作Ni2+離子源,H3BO3用作pH緩沖劑,C2H10Cl2N2用作結晶改良劑;用10wt%NH4OH調節沉積液pH值范圍為3~4,溫度控制在55~65℃;然后在電流密度18mA/cm2條件下沉積300s,沉積出平均直徑100nm的Ni棱錐結構;最后,電流密度調為50mA/cm2,沉積50s,沉積出平均直徑100nm的Ni棱錐結構。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的激光-電化學沉積制備仿生超疏水金屬表面的方法,其特征在于,還包括:步驟六:空化處理后得到超疏水金屬表面,其中,空化時間為2~3周。
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