[發(fā)明專利]一種雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置及測(cè)量方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811276541.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109444056A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋宏;吳超鵬;申屠溢醇;王文鑫;萬(wàn)啟新;楊萍;方美芬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/27 | 分類號(hào): | G01N21/27;G01V8/10 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 邱啟旺 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光譜成像儀 衰減系數(shù) 水體 測(cè)量?jī)x 光端機(jī) 接收端 原位測(cè)量裝置 光譜反射率 寬光譜LED 光譜成像 雙目成像 水下目標(biāo) 測(cè)量 上位機(jī) 支架 光源 雙目 光學(xué)衰減系數(shù) 表面光譜 同步采集 圖像序列 準(zhǔn)確測(cè)量 反射率 物光譜 | ||
1.一種雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置,其特征在于,包括雙目光譜成像子系統(tǒng)、水下寬光譜LED光源(3)、水體衰減系數(shù)測(cè)量?jī)x(4)、控制單元(5)、接收端光端機(jī)(6)、上位機(jī)(7)、支架(8)等;其中,所述雙目光譜成像子系統(tǒng)包括兩臺(tái)參數(shù)完全相同的第一水下光譜成像儀(1)和第二水下光譜成像儀(2),兩者平行安裝在支架(8)的左右兩側(cè)且前端面位于同一平面上;所述第一水下光譜成像儀(1)和第二水下光譜成像儀(2)同步采集水下目標(biāo)物光譜圖像序列;所述水體衰減系數(shù)測(cè)量?jī)x(4)固定于支架(8)上,用于測(cè)量水體光學(xué)衰減系數(shù),所述第一水下光譜成像儀(1)、第二水下光譜成像儀(2)、水下寬光譜LED光源(3)和水體衰減系數(shù)測(cè)量?jī)x(4)均與控制單元(5)相連,控制單元(5)與接收端光端機(jī)(6)相連,接收端光端機(jī)(6)與上位機(jī)(7)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置,其特征在于,所述第一水下光譜成像儀(1)和第二水下光譜成像儀(2)均包括光譜成像儀密封艙(15)以及安裝在光譜成像儀密封艙(15)內(nèi)的成像鏡頭(11)、液晶可調(diào)諧濾光片(10)、圖像傳感器(9)、對(duì)焦控制電路(12)和集線器(13);所述圖像傳感器(9)、液晶可調(diào)諧濾光片(10)和成像鏡頭(11)依次布置在同一光軸上;所述圖像傳感器(9)、液晶可調(diào)諧濾光片(10)、對(duì)焦控制電路(12)均通過(guò)集線器(13)與控制單元(5)相連,對(duì)焦控制電路(12)控制成像鏡頭(11)進(jìn)行對(duì)焦。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置,其特征在于,所述成像鏡頭(11)采用電動(dòng)對(duì)焦鏡頭。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置,其特征在于,所述圖像傳感器(9)采用微光相機(jī)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置,其特征在于,所述圖像傳感器(9)與液晶可調(diào)諧濾光片(10)之間通過(guò)安裝轉(zhuǎn)像透鏡組擴(kuò)大成像視場(chǎng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置,其特征在于,所述控制單元(5)包括控制單元密封艙(19)以及安裝在控制單元密封艙(19)內(nèi)的發(fā)送端光端機(jī)(16)、電源管理模塊(17)和微型工控機(jī)(18);所述電源管理模塊(17)為整個(gè)雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置提供工作電壓;水體衰減系數(shù)測(cè)量?jī)x(4)、第一水下光譜成像儀(1)、第二水下光譜成像儀(2)以及發(fā)送端光端機(jī)(16)均與微型工控機(jī)(18)相連,所述發(fā)送端光端機(jī)(16)和接收端光端機(jī)(8)通過(guò)光纖相互通訊。
7.一種根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙目成像式水下光譜反射率原位測(cè)量裝置的測(cè)量方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)針對(duì)采用的水下寬光譜LED光源(3),測(cè)量光源出射光譜特性;結(jié)合光源自身輻射特性、水體的衰減系數(shù)和水下光場(chǎng)光譜輻照度實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)建立水下光場(chǎng)光譜輻照度分布模型E(x,y,z,λ),其中(x,y,z)為空間點(diǎn)坐標(biāo),λ為不同波長(zhǎng);
(2)使用標(biāo)準(zhǔn)光譜輻亮度計(jì)和積分球光源,在空氣中對(duì)第一水下光譜成像儀(1)和第二水下光譜成像儀(2)進(jìn)行定標(biāo),建立物體表面點(diǎn)的光譜圖像響應(yīng)I(x,y,z,λ)與表面光譜輻亮度L(x,y,z,λ)的定標(biāo)關(guān)系,即L(x,y,z,λ)=f(I(x,y,z,λ));
(3)由水體衰減系數(shù)測(cè)量?jī)x(4)測(cè)量得到水體的光譜衰減系數(shù)α(λk),k∈(1,n),λk為第k波段的中心波長(zhǎng),n為第一水下光譜成像儀(1)或第二水下光譜成像儀(2)的成像波段數(shù);
(4)微型工控機(jī)(18)控制第一水下光譜成像儀(1)和第二水下光譜成像儀(2)同步采集原始光譜圖像序列;
(5)從兩組光譜圖像中取出同一波段的兩張光譜圖像,使用SIFT算法對(duì)這兩張圖像作位置匹配,基于位置匹配結(jié)果即可得到同一個(gè)目標(biāo)點(diǎn)在兩組光譜圖像上的位置坐標(biāo);
(6)選擇第一水下光譜成像儀(1)或第二水下光譜成像儀(2)建立相機(jī)坐標(biāo)系,使用雙目立體視覺(jué)技術(shù)確定任一目標(biāo)點(diǎn)的三維空間坐標(biāo),計(jì)算目標(biāo)點(diǎn)與第一水下光譜成像儀(1)或第二水下光譜成像儀(2)的空間距離為D(x,y,z);
(7)根據(jù)步驟(3)得到的水體光譜衰減系數(shù),對(duì)光譜圖像進(jìn)行衰減補(bǔ)償,獲得水下目標(biāo)物體的真實(shí)光譜響應(yīng):
其中,I0(x,y,z,λk)為目標(biāo)點(diǎn)在λk波段的光譜圖像上的原始響應(yīng)強(qiáng)度,Ir(x,y,z,λk)為經(jīng)衰減補(bǔ)償后的光譜響應(yīng)強(qiáng)度;
(8)根據(jù)步驟(2)得到的光譜圖像響應(yīng)與物體表面光譜輻亮度的定標(biāo)關(guān)系,獲取目標(biāo)點(diǎn)的反射光譜輻亮度為L(zhǎng)r(x,y,z,λk)=f(Ir(x,y,z,λk));
(9)根據(jù)步驟(1)得到的水下寬光譜LED光源(3)在水下的光譜輻照度分布模型和和步驟(6)得到的空間三維信息,獲取目標(biāo)點(diǎn)的入射光譜輻照度為Er(x,y,z,λk);
(10)獲取水下目標(biāo)物表面光譜反射率為Rr(x,y,z,λk)=πLr(x,y,z,λk)/Er(x,y,z,λk)。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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