[發(fā)明專(zhuān)利]淋幕式涂布裝置及淋幕式涂布系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811275420.5
• 申請(qǐng)日: 2018-10-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109317355B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉大佼;羅少軒;李念謙;張炤謙
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 怡定興科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B05C5/00
• 分類(lèi)號(hào): B05C5/00;B05C5/02;B05C11/10
• 代理公司: 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽(yáng)

本發(fā)明涉及一種淋幕式涂布裝置及淋幕式涂布系統(tǒng)，本發(fā)明所提出的淋幕式涂布系統(tǒng)具有一淋幕式涂布裝置以及一輸送帶，輸送帶通過(guò)淋幕式涂布裝置的狹縫的正下方。淋幕式涂布裝置具有一供料頭、兩個(gè)固定邊桿、及兩個(gè)活動(dòng)邊桿。供料頭具有一供料頭本體及一前述狹縫，狹縫形成于供料頭本體內(nèi)。固定邊桿位于狹縫兩旁且兩個(gè)固定邊桿的距離等于狹縫的寬度。活動(dòng)邊桿鄰接于狹縫并可沿狹縫的寬度方向移動(dòng)，由此可提供一寬度能隨時(shí)調(diào)整變化的淋幕。具體而言，通過(guò)活動(dòng)邊桿將淋幕分割成中間部分及兩側(cè)部分，而中間部分的的寬度能隨著活動(dòng)邊桿的間距對(duì)應(yīng)基材的形狀變化。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是關(guān)于一種淋幕式的涂布裝置，其能將液態(tài)材料涂布于一基材。

背景技術(shù)

晶片上涂布光阻劑(包含正、負(fù)二型光阻劑)為晶片制造的關(guān)鍵技術(shù)，而現(xiàn)有技術(shù)中有許多對(duì)基材(可為晶片)涂布涂料的方法，例如旋轉(zhuǎn)式涂布、噴霧式涂布、或狹縫式涂布等。其中，旋轉(zhuǎn)式涂布最常被應(yīng)用在對(duì)晶片涂布光阻劑，但旋轉(zhuǎn)式涂布的過(guò)程中，僅有不到一成的涂料會(huì)真正被涂布于基材，而損失九成以上的涂料，且若涂料的粘度較高時(shí)也無(wú)法使用旋轉(zhuǎn)式涂布裝置進(jìn)行涂布。而狹縫式涂布中，雖能減少涂液浪費(fèi)，也能使基材上的涂層能均勻涂布，但由于狹縫式涂布裝置復(fù)雜，而有造成產(chǎn)品成本過(guò)高的缺點(diǎn)。

另外一種涂布方法為淋幕式涂布，其是將涂料由涂布裝置的一狹縫排出，因而形成淋幕。而基材由淋幕下方通過(guò)，且在基材通過(guò)淋幕時(shí)淋幕即覆蓋于基材上。然而，現(xiàn)有技術(shù)的淋幕式涂布裝置中，所形成的淋幕寬度是固定的，因此僅能適用于特定寬度的基材。具體而言，為了使基材能完整地被涂料覆蓋，淋幕的寬度是大于基材的寬度，但若淋幕的寬度大于基材過(guò)多時(shí)又會(huì)造成涂料不被用于涂布于基材而形成浪費(fèi)，因此較佳的是淋幕寬度略大于基材的寬度。然而，許多基材并非矩形，而可能是圓形或是其他形狀，因此淋幕的寬度僅能略大于基材的最大寬度，而在基材其他寬度的部分仍會(huì)發(fā)生涂料的浪費(fèi)。

有鑒于此，提出一種更佳的改善方案，其為此業(yè)界亟待解決的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于，提出一種淋幕式涂布系統(tǒng)及淋幕式涂布裝置，其所形成的淋幕的寬度能隨基材的寬度即時(shí)變化調(diào)整。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明所提出的淋幕式涂布系統(tǒng)具有一淋幕式涂布裝置以及一輸送帶，其通過(guò)淋幕式涂布裝置的狹縫的正下方。

本發(fā)明所提出的淋幕式涂布裝置具有：

一供料頭，其具有：

一供料頭本體；

一前述的狹縫，其自該供料頭本體的一側(cè)面向該供料頭本體內(nèi)延伸；及

一入料口，其自該供料頭本體的另一側(cè)面向該供料頭本體內(nèi)延伸，并連通于該狹縫；

兩個(gè)固定邊桿，其固定于該供料頭本體形成有該狹縫的該側(cè)面，且位于該狹縫兩旁；所述兩個(gè)固定邊桿的距離等于該狹縫的寬度；以及

兩個(gè)活動(dòng)邊桿，其鄰接于該狹縫并可沿該狹縫的寬度方向移動(dòng)。

如前所述的淋幕式涂布裝置中，各該活動(dòng)邊桿的頂部于該狹縫的寬度方向上為中央高且兩端低。

如前所述的淋幕式涂布裝置中，各該活動(dòng)邊桿的頂面包含：

一連接部，其為一平面；以及

兩個(gè)分流部，其分別鄰接于該連接部的相對(duì)兩側(cè)邊，且所述兩個(gè)分流部分別自該連接部向下且向外延伸。

如前所述的淋幕式涂布裝置中，各該活動(dòng)邊桿的頂面包含兩個(gè)分流部，其上緣相鄰接，且所述兩個(gè)連接部分別自相鄰接處向下且向外延伸。

如前所述的淋幕式涂布裝置中，各該活動(dòng)邊桿的頂部于垂直該狹縫的寬度方向上為中央低且兩端高。

如前所述的淋幕式涂布裝置中，各該活動(dòng)邊桿的頂面包含：