[發(fā)明專利]Ga摻雜的K3Ba3Li2Al4B6O20F單晶、制法及變頻器件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811275309.6 | 申請日: | 2018-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN109112628A | 公開(公告)日: | 2019-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅軍華;趙炳卿;趙三根 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所 |
| 主分類號: | C30B29/12 | 分類號: | C30B29/12;C30B9/12 |
| 代理公司: | 福州市眾韜專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35220 | 代理人: | 方金芝;黃秀婷 |
| 地址: | 350000 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 變頻器件 單晶 摻雜的 制法 助熔劑體系 激光變頻 晶體生長 人工晶體 相位匹配 應(yīng)用波長 包裹體 晶體的 厘米級 四倍頻 條紋 和頻 通光 生長 應(yīng)用 表現(xiàn) | ||
本發(fā)明提供一種Ga摻雜的K3Ba3Li2Al4B6O20F單晶、制法及K3Ba3Li2Al4B6O20F變頻器件,涉及人工晶體領(lǐng)域。使用該助熔劑體系有效避免了包裹體的產(chǎn)生,明顯減少了晶體生長條紋,從而穩(wěn)定的生長出厘米級、高光學(xué)質(zhì)量的單晶。同時,利用相位匹配法制作出K3Ba3Li2Al4B6O20F單晶變頻器件,當通光方向與晶體的結(jié)晶學(xué)C軸成大約30.5°~44.2°或67.5°~90°角,即可制成倍頻器件或四倍頻器件;通過和頻方式有望得到355nm和213nm的K3Ba3Li2Al4B6O20F單晶變頻器件,擴展了該變頻器件的應(yīng)用波長范圍,在激光變頻領(lǐng)域表現(xiàn)出良好的應(yīng)用前景。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及到人工晶體領(lǐng)域,特別是涉及Ga摻雜的K3Ba3Li2Al4B6O20F單晶、制法及K3Ba3Li2Al4B6O20F變頻器件。
技術(shù)背景
隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,紫外光區(qū)激光器在電子光刻、高分辨光電子能譜、微機械加工和激光影像等領(lǐng)域有著至關(guān)重要的應(yīng)用。而與其它紫外激光器相比,全固態(tài)紫外激光器在維護成本、系統(tǒng)尺寸和效率等方面具有明顯的優(yōu)勢。迄今為止,利用非線性光學(xué)晶體的頻率變換作用,將激光器產(chǎn)生的固定波長激光轉(zhuǎn)化成不同波長的激光光源,是目前獲得紫外深紫外相干光的最有效途徑。硼酸鹽因其具有足夠的非線性光學(xué)系數(shù)、寬的透光范圍和適中的雙折射率等優(yōu)異性質(zhì),長期以來一直是非線性光學(xué)晶體材料的研究熱點,其中也出現(xiàn)了一批性質(zhì)突出,應(yīng)用前景光明的“中國牌”非線性光學(xué)晶體,例如BBO、CLBO、KBBF等。
遺憾的是,在長達30多年的紫外深紫外非線性光學(xué)晶體的實際應(yīng)用研究當中,基本所有的非線性光學(xué)晶體材料都或多或少都存在著缺點。例如:BBO晶體的雙折射率達0.120,過大的雙折射導(dǎo)致晶體產(chǎn)生走離效應(yīng),走離角高達85.3mard,允許角則只有0.16mard,極大的影響了激光頻率轉(zhuǎn)換的效率;CLBO晶體的非線性性能參數(shù)適中,非線性系數(shù)略小,最嚴重的問題是該晶體極易吸潮,增大了實際應(yīng)用中的技術(shù)難度,限制了其商業(yè)化的廣泛應(yīng)用;目前KBBF是唯一一個實現(xiàn)深紫外倍頻輸出應(yīng)用的非線性光學(xué)晶體,但因其所含的鈹元素有劇毒,對人類身體健康危害大,且晶體具有強烈的層狀生長習(xí)性,難以突破晶體厚度的生長技術(shù)壁壘,從而限制了其商業(yè)化生產(chǎn)和應(yīng)用。
在申請?zhí)枮?01610015381X的專利中有報道了一種非線性光學(xué)晶體K3Ba3Li2Al4B6O20F。
發(fā)明內(nèi)容
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