[發(fā)明專利]黑色著色組合物和包含其的黑色著色抗蝕劑組合物有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811269553.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109725491B | 公開(公告)日: | 2023-09-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 辻康人;米田善紀(jì);中川朋樹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 阪田油墨股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/027 | 分類號(hào): | G03F7/027;G03F7/004;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人: | 楊帆 |
| 地址: | 日本大阪府大阪市*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 黑色 著色 組合 包含 抗蝕劑 | ||
本發(fā)明的課題在于提供一種分散性優(yōu)異且絕緣性高、介電常數(shù)低、NMP抗性良好、光學(xué)濃度高的新型黑色著色組合物以及包含其的黑色著色抗蝕劑組合物。具體而言為一種黑色著色組合物,作為A.著色劑,含有以下1~6組合中的任意一項(xiàng):1.a.SV49;2.a.SV49和b.藍(lán)色及/或者綠色顏料;3.a.SV49、b.藍(lán)色及/或者綠色顏料和c.紫色顏料;4.a.SV49、b.藍(lán)色及/或者綠色顏料和e.紅色及/或者橙色顏料;5.b1.PB60及/或者PB80、d.紫色著色劑和e.紅色及/或者橙色顏料;6.選自e1.PO34、PO72、PR57:1、PR149、PR170、PR179和PR214中的至少一種、b.藍(lán)色及/或者綠色顏料和d.紫色著色劑。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種新型黑色著色組合物和包含其的黑色著色抗蝕劑組合物,其用于液晶顯示元件(液晶面板的黑色基質(zhì)、著色間距、有機(jī)EL顯示裝置的遮光部的形成)、固體攝像元件(以CCD、CMOS為代表的攝像元件(圖像傳感器))、紅外線傳感器等所使用的紅外透過(IR-Pass)分散液等,分散性優(yōu)異且絕緣性高、介電常數(shù)低、NMP抗性良好、光學(xué)濃度高。
背景技術(shù)
在設(shè)置于液晶顯示元件的彩色濾光片上的紅色、綠色和藍(lán)色像素的端部附近存在顏色重合或者未著色的部分,當(dāng)光穿過該部分時(shí),會(huì)發(fā)生映在顯示器上的圖像對(duì)比度變差或者滲色的現(xiàn)象。因此,為了防止這類情況的發(fā)生,在上述像素的端部附近可形成防止光透射的黑色基質(zhì)。而且,以往就在進(jìn)行使用通過配合多種黑色著色劑和樹脂得到的黑色組合物來形成黑色基質(zhì)的研究。
由于黑色基質(zhì)的基本功能為防止光的透射,因此特別會(huì)使用碳黑作為遮光效果好的黑色著色劑,另外,也會(huì)用到含有顏料分散劑、堿性可溶性樹脂、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、有機(jī)溶劑的黑色基質(zhì)用抗蝕劑組合物(例如參考專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2)。
另外,在黑色基質(zhì)的形成中存在使紅色、綠色和藍(lán)色的像素圖案同時(shí)在彩色濾光片側(cè)形成的方法和在TFT(薄膜晶體管)陣列基板側(cè)形成的方法等,后者有可以提高各像素圖案的開口率的優(yōu)點(diǎn)。
但是,將黑色基質(zhì)設(shè)置在TFT陣列基板側(cè)時(shí),因?yàn)楹谏|(zhì)直接與像素電極和TFT接觸,因此需要該黑色基質(zhì)具有高絕緣性和低介電常數(shù)。
如此一來,在直接使用具有導(dǎo)電性的碳黑的黑色基質(zhì)用抗蝕劑組合物中,則無法形成高絕緣性和低介電常數(shù)的膜。因此,為了解決該問題,本申請(qǐng)人提出了將通過絕緣性材料碳化二亞胺化合物對(duì)表面進(jìn)行包覆處理后的碳黑用于黑色基質(zhì)用抗蝕劑組合物的技術(shù)(例如參考專利文獻(xiàn)3、專利文獻(xiàn)4)。通過該方法,黑色基質(zhì)的絕緣性雖然在某種程度上得到了改善,但是僅通過使用碳黑的體系很難實(shí)現(xiàn)最近市場(chǎng)進(jìn)一步需求的更高絕緣性的類型。
相對(duì)于此,提出了使用多種有機(jī)顏料和碳黑的黑色基質(zhì)(例如參考專利文獻(xiàn)5)。但是,所提出的黑色基質(zhì)存在NMP抗性不充分的問題。
另外,有機(jī)顏料具有高絕緣性,且將顏色混合后可得到黑色的色相(疑似黑色化)。利用該性質(zhì),還提出了由有機(jī)顏料、顏料分散劑、堿性可溶性樹脂、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、有機(jī)溶劑構(gòu)成的疑似黑色化色相的黑色基質(zhì)用抗蝕劑組合物(例如參考專利文獻(xiàn)6、專利文獻(xiàn)7)。但是,使用多種有機(jī)顏料時(shí),由于顏料表面特性不同,有時(shí)難以得到良好的分散性。
因此,提出了使用由能得到良好分散性的有機(jī)顏料、顏料分散劑、堿性可溶性樹脂、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、有機(jī)溶劑構(gòu)成的疑似黑色化色相的黑色基質(zhì)用抗蝕劑組合物(例如參考專利文獻(xiàn)8)。但是,更高的光學(xué)濃度和NMP抗性逐漸成為近年來的需求。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開平10-082908號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開2000-227654號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:國(guó)際公開第03/076527號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)4:國(guó)際公開第04/000950號(hào)公報(bào)
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
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