[發明專利]有機阻隔膜、有機阻隔膜的制備方法以及量子點器件有效
| 申請號: | 201811267839.6 | 申請日: | 2018-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN109638169B | 公開(公告)日: | 2021-02-23 |
| 發明(設計)人: | 王海琳;胡奇樂;康永印;葉佳敏 | 申請(專利權)人: | 納晶科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 胡擁軍;糜婧 |
| 地址: | 310052 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 阻隔 制備 方法 以及 量子 器件 | ||
1.一種有機阻隔膜,其特征在于,包括由外到內依次設置的基材層、粘結層以及阻氧層,所述阻氧層包括聚乙烯醇,所述粘結層與所述阻氧層之間形成化學交聯;
制備所述粘結層的原料包括:高分子粘結劑、交聯劑和螯合劑;所述高分子粘結劑包括以下基團中的至少一種:羥基、羧基、氨基,所述螯合劑與所述聚乙烯醇形成化學鍵交聯;
所述高分子粘結劑選自聚酯、聚氨酯或聚丙烯酸酯中的一種或多種;
所述交聯劑用于提高所述粘結層的內聚力。
2.根據權利要求1所述的有機阻隔膜,其特征在于,所述基材層的外側設置有疏水層或磨砂層,所述疏水層包括以下一種或多種疏水聚合物:聚偏二氯乙烯、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯,所述磨砂層包括載體以及透明顆粒。
3.根據權利要求1所述的有機阻隔膜,其特征在于,所述螯合劑選自以下一種或多種:硼酸、硼酸鈉、丙烯酸鈉、鈦酸酯。
4.根據權利要求1所述的有機阻隔膜,其特征在于,所述交聯劑選自以下一種或多種:聚碳二亞胺、氮丙啶、甲醚化六羥甲基三聚氰胺。
5.根據權利要求1所述的有機阻隔膜,其特征在于,所述高分子粘結劑的玻璃化轉變溫度小于50℃。
6.一種有機阻隔膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供基材層;
在所述基材層的第二側設置粘結層,在所述粘結層上設置阻氧層,所述阻氧層包括聚乙烯醇,所述粘結層與所述阻氧層之間形成化學交聯;
所述粘結層的制備方法包括:將包括高分子粘結劑、交聯劑和螯合劑的混合物設置于所述基材層的第二側,所述高分子粘結劑包括以下基團中的至少一種:羥基、羧基、氨基,所述螯合劑與所述聚乙烯醇形成化學鍵交聯;
所述高分子粘結劑選自聚酯、聚氨酯、聚丙烯酸酯中的一種或多種;
所述交聯劑用于提高所述粘結層的內聚力。
7.根據權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述螯合劑選自以下一種或多種:硼酸、硼酸鈉、丙烯酸鈉、鈦酸酯。
8.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述螯合劑在所述混合物中的質量百分數為1%~10%。
9.根據權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述交聯劑選自以下一種或多種:聚碳二亞胺、氮丙啶、甲醚化六羥甲基三聚氰胺。
10.根據權利要求6-9任一所述的制備方法,其特征在于,在所述基材層的第一側設置疏水層或磨砂層。
11.根據權利要求6-9任一所述的制備方法,其特征在于,所述阻氧層的制備方法包括:將包括聚乙烯醇、水、消泡劑和流平劑的混合物,設置于所述粘結層。
12.一種量子點器件,其特征在于,包括量子點層以及設置在所述量子點層一側或兩側的如權利要求1-5任一所述的有機阻隔膜,所述有機阻隔膜的所述阻氧層設置在靠近所述量子點層的內側。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





