[發(fā)明專利]介質(zhì)排出裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811266719.4 | 申請日： | 2018-10-29 |
| 公開（公告）號： | CN109720922B | 公開（公告）日： | 2023-08-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 近藤勝行;宮川正好 | 申請（專利權(quán)）人： | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號： | B65H31/10 | 分類號： | B65H31/10 |
| 代理公司： | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 張永明;玉昌峰 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 介質(zhì) 排出 裝置 | ||
1.一種后處理裝置，對于通過噴出墨水的記錄部進行了記錄的介質(zhì)進行后處理，其特征在于，所述后處理裝置具備：
排出輥，排出實施了后處理的介質(zhì)；
排紙盤，配置于比所述排出輥的高度位置靠下方處，并具有供通過所述排出輥排出的所述介質(zhì)載置的載置面；以及
支承部件，能夠在所述排出輥與所述載置面之間的空間，在介質(zhì)排出方向上的上游側(cè)的退避位置與下游側(cè)的推進位置之間進退，所述支承部件具有可撓性，
所述支承部件的上表面的摩擦系數(shù)設(shè)定為所述載置面的摩擦系數(shù)以下，
在介質(zhì)排出方向上，與無所述支承部件的情況下通過所述排出輥排出的所述介質(zhì)在介質(zhì)排出方向上的下游端最初接觸先載置在所述載置面上的所述介質(zhì)的上表面的位置相比，位于所述推進位置的所述支承部件在介質(zhì)排出方向上的下游端的位置配置于靠下游側(cè)處，所述介質(zhì)的介質(zhì)排出方向上的下游端在與所述支承部件的上表面接觸之后與所述排紙盤接觸，
在通過所述排出輥排出的所述介質(zhì)的所述下游端被排出時，所述支承部件向所述推進位置推進。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的后處理裝置，其特征在于，
所述支承部件位于所述推進位置時排出的所述介質(zhì)的所述下游端在最初抵接于所述支承部件的上表面的位置處與所述支承部件所成的角度小于，所述支承部件未位于所述推進位置時排出的所述介質(zhì)的所述下游端在最初抵接于先載置在所述載置面上的所述介質(zhì)的上表面的位置處與先載置的所述介質(zhì)的上表面所成的角度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的后處理裝置，其特征在于，
所述介質(zhì)排出裝置在所述排出輥的下游還具備介質(zhì)檢測器，所述介質(zhì)檢測器檢測排出的所述介質(zhì)，
在所述介質(zhì)檢測器檢測到排出的所述介質(zhì)的所述下游端之后，所述支承部件向所述推進位置推進。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的后處理裝置，其特征在于，
在所述介質(zhì)檢測器檢測到排出的所述介質(zhì)的所述下游端之后且排出的所述介質(zhì)的所述下游端接觸于所述支承部件的上表面之前，所述支承部件向所述推進位置推進。
5.一種后處理裝置，對于通過噴出墨水的記錄部進行了記錄的介質(zhì)進行后處理，其特征在于，所述后處理裝置具備：
排出輥，排出實施了后處理的介質(zhì)；
排紙盤，配置于比所述排出輥的高度位置靠下方處，并具有供通過所述排出輥排出的所述介質(zhì)載置的載置面；以及
支承部件，能夠在所述排出輥與所述載置面之間的空間，在介質(zhì)排出方向上的上游側(cè)的退避位置與下游側(cè)的推進位置之間進退，所述支承部件具有可撓性，
所述支承部件的上表面的摩擦系數(shù)設(shè)定為所述載置面的摩擦系數(shù)以下，
在介質(zhì)排出方向上，與無所述支承部件的情況下通過所述排出輥排出的所述介質(zhì)在介質(zhì)排出方向上的下游端最初接觸先載置在所述載置面上的所述介質(zhì)的上表面的位置相比，位于所述推進位置的所述支承部件在介質(zhì)排出方向上的下游端的位置配置于靠下游側(cè)處，所述介質(zhì)的介質(zhì)排出方向上的下游端在與所述支承部件的上表面接觸之后與所述排紙盤接觸，
在介質(zhì)排出方向上，與被排出而向所述排紙盤落下的所述介質(zhì)在介質(zhì)排出方向上的上游端的位置相比，位于所述退避位置的所述支承部件的所述下游端的位置配置于靠上游側(cè)處，
在通過所述排出輥排出的所述介質(zhì)的所述上游端被排出時，所述支承部件向所述退避位置退避。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的后處理裝置，其特征在于，
所述介質(zhì)排出裝置在所述排出輥的下游還具備介質(zhì)檢測器，所述介質(zhì)檢測器檢測排出的所述介質(zhì)，
在所述介質(zhì)檢測器檢測到排出的所述介質(zhì)的所述上游端之后，所述支承部件向所述退避位置退避。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的后處理裝置，其特征在于，
在介質(zhì)檢測器檢測檢測到排出的所述介質(zhì)的所述上游端之后且排出的所述介質(zhì)向所述載置面落下之前，所述支承部件向所述退避位置退避。
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