[發(fā)明專利]光譜測(cè)量裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811266516.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109799194B | 公開(公告)日: | 2022-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 比約恩·哈斯;約阿希姆·博勒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 恩德萊斯和豪瑟爾分析儀表兩合公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 蔡石蒙;車文 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光譜 測(cè)量 裝置 | ||
1.一種用于過程自動(dòng)化系統(tǒng)的測(cè)量點(diǎn)的光譜測(cè)量裝置(1),所述光譜測(cè)量裝置(1)包括:
-寬帶光源(2),所述寬帶光源(2)用于通過入口狹縫光圈(7)將光輻射到待測(cè)的樣品(9),其中所述光的光束形成照射平面(x-y);
-限光器(5),所述限光器(5)將所述光限制為與所述照射平面(x-y)成90°的角度,所述限光器將所述光限制于z軸上,由此在該角度下產(chǎn)生不同量的光;
-色散元件(4),所述色散元件(4)用于根據(jù)光的波長(zhǎng)分離光;和
-檢測(cè)器(3),所述檢測(cè)器(3)用于接收根據(jù)光的波長(zhǎng)分離的光,其中所述光源(2)將所述光通過所述樣品(9)輻射到所述入口狹縫光圈(7)、所述限光器(5)和所述色散元件(4),并且所述光照射到所述檢測(cè)器(3),
其中所述檢測(cè)器(3)被設(shè)計(jì)為二維檢測(cè)器,并且被定向成使得在90°的所述角度下,能夠接收光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述入口狹縫光圈(7)包括所述限光器(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述限光器(5)是圓錐形的。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述限光器(5)是階梯狀的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述限光器(5)布置在光源(2)與色散元件(4)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中一項(xiàng)所述的光譜測(cè)量裝置(1),包括至少一個(gè)成像系統(tǒng)(8a、8b),所述至少一個(gè)成像系統(tǒng)(8a、8b)用于在所述色散元件(4)的方向上傳導(dǎo)來(lái)自所述光源(2)的光和/或在所述檢測(cè)器(3)的方向上傳導(dǎo)來(lái)自所述色散元件(4)的光。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述至少一個(gè)成像系統(tǒng)(8a、8b)包括凹面鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5中一項(xiàng)所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述色散元件(4)包括光柵。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述限光器布置在光源(2)與一個(gè)成像系統(tǒng)(8a)之間,并且其中所述成像系統(tǒng)(8a)將所述光從所述光源(2)傳導(dǎo)到所述色散元件(4)。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述限光器(5)被設(shè)計(jì)為光闌。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述光闌具有梳狀設(shè)計(jì)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-5中一項(xiàng)所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述限光器(5)被設(shè)計(jì)成使得與所述照射平面(x-y)成90°的光是有限的,使得在該角度下,不斷產(chǎn)生不同量的光。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-5中一項(xiàng)所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述測(cè)量裝置(1)包括測(cè)量路徑(ME)和參考路徑(RE),其中來(lái)自所述光源(2)的光能夠經(jīng)由所述測(cè)量路徑(ME)和所述參考路徑(RE)傳導(dǎo),其中所述參考路徑(RE)路過所述樣品(9)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述檢測(cè)器(3)上的、與所述照射平面(x-y)成90°的通過所述限光器(5)的所述參考路徑(RE)的光在空間上與所述測(cè)量路徑(ME)的光分離開來(lái)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光譜測(cè)量裝置(1),其中所述入口狹縫光圈(7)包括所述限光器(5),并且所述參考路徑(RE)的光經(jīng)由光纖耦合到所述限光器(5)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于恩德萊斯和豪瑟爾分析儀表兩合公司,未經(jīng)恩德萊斯和豪瑟爾分析儀表兩合公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811266516.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備





