[發(fā)明專利]環(huán)保型高效雙液型酸性蝕刻液在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811264440.2 | 申請(qǐng)日： | 2018-10-29 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN109112541A | 公開（公告）日： | 2019-01-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 戴澤民;楊國(guó)雄;苑偉東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 深圳市中南環(huán)?？萍伎毓捎邢薰?/a> |
| 主分類號(hào)： | C23F1/18 | 分類號(hào)： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市羅湖區(qū)*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 酸性蝕刻液 雙液型 環(huán)保型 添加劑 氯化鈉 蝕刻 有機(jī)化合物 線路板 生產(chǎn)需求 氯化銨 氯酸鈉 配重 易溶 印制 | ||
本發(fā)明公開了一種環(huán)保型高效雙液型酸性蝕刻液，各組分配重比是：氯酸鈉190?200g/L；氯化鈉120～150g/L；氯化銨30～50g/L；添加劑小于1‰及水，其中，添加劑屬于有機(jī)化合物,易溶于水，配成溶液使用：本發(fā)明的有益效果是：雙液型酸性蝕刻液的蝕刻速度提高近30％，完全能滿足高精度、高密度印制線路板的生產(chǎn)需求。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及線路板加工領(lǐng)域，特別是一種PCB制程蝕刻專用的雙液型酸性蝕刻液。
背景技術(shù)
單液型酸性蝕刻液作為氯化銅型蝕刻液的其中一種生產(chǎn)藥劑已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于線路板生產(chǎn)企業(yè)之中，特別是適用于生產(chǎn)粗線徑粗密度印制線路板(即線經(jīng)≥0.3mm,線密度≤1根)的蝕刻工序所使用。由于這種藥劑配方比較簡(jiǎn)單，加上單面板的蝕刻工藝精度要求不高。許多廠家在使用過程中大部分只考慮最大限度控制成本，而忽視了溶銅量和廢液回收再利用的環(huán)境保護(hù)問題，進(jìn)而導(dǎo)致生產(chǎn)后期的廢水處理成本增加，難度加大。同時(shí)由于忽略對(duì)藥劑的融銅量以及廢液回收再利用，使絕大部分廠家使用的單液型酸性蝕刻液無(wú)法達(dá)到滿足清潔生產(chǎn)的環(huán)保要求，更難以達(dá)到高效低成本生產(chǎn)管理。
由于單液型酸性蝕刻液配方簡(jiǎn)單，一般情況下，大多數(shù)企業(yè)對(duì)已經(jīng)飽和的母液進(jìn)行“提銅”處理后，剩下的廢液大多排入廠區(qū)廢水站。按理這些廢液可以經(jīng)過再生處理循環(huán)使用，但是目前的所有單液型酸性蝕刻液的配方并沒有辦法使再生處理后的廢液達(dá)到新鮮“子液”原功能的80％以上，一般僅能達(dá)到50％或更低的效果。所以很多企業(yè)不愿意花費(fèi)有限的資源對(duì)廢液進(jìn)行再生處理，寧可排入廢水站扔掉。這樣既增加企業(yè)污染程度，增大廢水處理壓力，又增大企業(yè)生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種環(huán)保型高效雙液型酸性蝕刻液，各組分配重比是：氯酸鈉190-200g/L；氯化鈉120～150g/L；氯化銨30～50g/L；添加劑小于1‰及水，其中，添加劑屬于有機(jī)化合物，易溶于水，配成溶液使用。
本發(fā)明的有益效果是：雙液型酸性蝕刻液的蝕刻速度提高近30％，完全能滿足高精度、高密度印制線路板的生產(chǎn)需求。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
實(shí)施例一：
一種環(huán)保型高效雙液型酸性蝕刻液，各組分的配重比是：氯酸鈉190/L；氯化鈉120g/L；氯化銨30g/L；添加劑0.5‰及水。
實(shí)施例二：
一種環(huán)保型高效雙液型酸性蝕刻液，各組分的配重比范圍是：氯酸鈉200g/L；氯化鈉150g/L；氯化銨50g/L；添加劑0.9‰及水。
上述實(shí)施例中，添加劑是有機(jī)化合物，如低級(jí)醇(甲醇，乙醇，正丙醇，異丙醇，丙烯醇)、多元醇(乙二醇，甘油)、低級(jí)醛(甲醛，乙醛，丙醛)、低級(jí)羧酸(甲酸，乙酸，丙酸，正丁酸，正戊酸)、多元羧酸(乙二酸，丙二酸等)、磺酸一般都易溶于水(如苯磺酸)、苯酚中的一種或多種混合物。
本發(fā)明所涉及的環(huán)保型高效單液型酸性蝕刻液?jiǎn)我盒退嵝晕g刻液的蝕刻原理：
由于銅的標(biāo)準(zhǔn)電極電位比較高，為+0.35V左右。只有當(dāng)酸液中存在氧或氧化劑時(shí)，其氧化還原電位較銅高時(shí)，銅才容易被鹽酸所腐蝕。
其蝕刻原理可用下列反應(yīng)式所表示：
2Cu+O2+4HCl→2CuCl2+2H2O
(銅)(氧)(鹽酸)→(氯化銅)(水)。
反應(yīng)產(chǎn)物氯化銅中的銅為Cu2+，具有氧化性，它同時(shí)也可將板面上的銅氧化成(Cu+)，反應(yīng)方程式是：
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