[發明專利]底吹精煉爐及其應用

在審

• 申請號: 201811260452.8
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN109234543A
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: 李鋒;尉克儉;李鴻飛;李兵;曹珂菲;郝小紅;馮雙杰;陸金忠;李曉霞;李海春;劉愷;李棟;許欣
• 申請（專利權）人: 中國恩菲工程技術有限公司
• 主分類號: C22B15/14
• 分類號: C22B15/14
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋合成

1.一種底吹精煉爐，其特征在于，包括：

回轉爐，所述回轉爐包括：

回轉爐殼體，所述回轉爐殼體內限定出爐膛空間；

爐口，所述爐口設在所述回轉爐殼體中段的上部；

進銅口，所述進銅口設在所述回轉爐殼體上；

出銅口，所述出銅口設在所述回轉爐殼體端部的側壁上；

底吹氧化還原槍，所述底吹氧化還原槍設在所述回轉爐殼體底部且伸入所述爐膛空間內，其中，所述底吹氧化還原槍的直徑為38～75cm。

2.根據權利要求1所述的底吹精煉爐，其特征在于，所述底吹氧化還原槍為多孔底吹氧化還原槍。

3.根據權利要求1或2所述的底吹精煉爐，其特征在于，沿所述回轉爐的徑向方向上，所述底吹氧化還原槍和所述出銅口設在所述爐口的兩側，且沿所述回轉爐殼體圓周方向上，所述出銅口與所述爐口的距離小于所述爐口與所述底吹氧化還原槍的距離。

4.根據權利要求1-3任一項所述的底吹精煉爐，其特征在于，包括多個所述底吹氧化還原槍，所述多個底吹氧化還原槍沿所述回轉爐殼體的長度方向對稱設置在所述爐口兩側，

任選地，包括2-6個所述底吹氧化還原槍。

5.根據權利要求1所述的底吹精煉爐，其特征在于，在底吹精煉爐的氧化還原位置，所述底吹氧化還原槍與所述回轉爐殼體交點到所述回轉爐中心的連線與所述回轉爐垂直中心線的角度為-30～60度，

優選地，所述底吹氧化還原槍與所述回轉爐殼體交點到所述回轉爐中心的連線與所述回轉爐垂直中心線的角度為-15～30度，

任選地，所述底吹氧化還原槍的延伸方向與所述連線的角度為0～45度。

6.根據權利要求1所述的底吹精煉爐，其特征在于，所述進銅口設在所述回轉爐殼體上所述出銅口相對的另一端部上，

任選地，所述進銅口設在所述回轉爐殼體上所述出銅口相對的另一端部爐體上部的側壁上，

優選地，所述進銅口設在所述回轉爐殼體端部的端壁上，且在豎直方向上所述進銅口設在所述爐體端壁的中心位置及以上部位，

更優選地，所述進銅口設在所述回轉爐殼體端部的端壁上，在豎直方向上所述進銅口在爐體中心線以上且與所述回轉爐殼體水平中心線的距離不超過400mm。

7.根據權利要求6所述的底吹精煉爐，其特征在于，所述回轉爐殼體進一步包括燃燒器口，所述燃燒器口設在所述回轉爐殼體上靠近所述出銅口的端部的端壁上，所述燃燒器口設置有燃燒器，

任選地，所述回轉爐殼體進一步包括出煙口，所述出煙口設在所述回轉爐殼體上靠近所述進銅口的爐體端部，

優選地，所述出煙口可以設在所述回轉爐殼體靠近所述進銅口位置的爐體上部的側壁上，且沿所述回轉爐的徑向方向上，所述出煙口位于所述爐口與所述底吹氧化還原槍之間，并靠近所述爐口處。

8.一種采用權利要求1-7任一項所述的底吹精煉爐精煉粗銅的方法，其特征在于，包括：

(1)將熱態粗銅經所述進銅口供給至所述爐膛空間，轉動所述回轉爐，使所述回轉爐進入氧化位，利用所述底吹氧化還原槍向所述粗銅熔體內通入壓縮空氣或富氧空氣，進行氧化除雜作業；

(2)轉動所述回轉爐，使得所述底吹氧化還原槍位于熔體液面上方，將爐渣通過所述爐口排出；

(3)轉動所述回轉爐進入還原位，利用所述底吹氧化還原槍向所述熔體內通入還原劑、氮氣和/或富氧空氣進行還原作業；

(4)轉動所述回轉爐使得精煉銅熔體經所述出銅口排出。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，步驟(1)中，所述富氧空氣中含氧量為21-60體積％，所述底吹氧化還原槍進口處富氧空氣的壓力0.3-0.9MPa，單個所述底吹氧化還原槍的通氣量為500～4500m³/h，所述熱態粗銅的溫度為1200-1350℃。

10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述熱態粗銅的含Cu量為97.5-98.5wt％，所獲得的精煉銅熔體的含Cu量為99.0-99.5wt％，硫含量不高于0.005wt％。