[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811260323.9 | 申請(qǐng)日： | 2018-10-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN109581765A | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-04-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 馬遠(yuǎn)洋;陳黎暄;林旭林 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/1345 | 分類號(hào)： | G02F1/1345;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 第一金屬層 顯示面板 基板 第二金屬層 漏光區(qū)域 顯示器件 開(kāi)口區(qū) 中導(dǎo)線 制作 顯示器 申請(qǐng) | ||
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N顯示面板及其制作方法，所述顯示面板包括基板及位于所述基板上的顯示器件；其中，所述顯示面板還包括為所述基板上的導(dǎo)線，所述導(dǎo)線至少包括第一金屬層和第二金屬層，所述第一金屬層位于所述基板上，所述第二金屬層位于所述第一金屬層上；所述第二金屬層的面積不大于所述第一金屬層的面積。本申請(qǐng)消除了設(shè)置于開(kāi)口區(qū)中導(dǎo)線邊緣的漏光區(qū)域，提高了顯示器的對(duì)比度。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示領(lǐng)域，特別涉及一種顯示面板及其制作方法。
背景技術(shù)
液晶顯示器(Liquid Crystal Display，簡(jiǎn)稱LCD)具有外型輕、薄、耗電量少以及無(wú)輻射污染等特性，因此被廣泛地應(yīng)用在移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、數(shù)字相機(jī)、筆記本電腦等各種便攜式電子設(shè)備上。
現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)于大尺寸的顯示面板，當(dāng)背光源經(jīng)過(guò)下偏光片進(jìn)入面板時(shí)，由于開(kāi)口區(qū)中的入射光線，存在與設(shè)置于開(kāi)口區(qū)中的金屬的截面非平行或垂直分量，導(dǎo)致入射光線進(jìn)入開(kāi)口區(qū)時(shí)，設(shè)置于開(kāi)口區(qū)中的導(dǎo)線的邊緣存在漏光區(qū)域，降低了顯示器的對(duì)比度。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板及其制作方法，以解決現(xiàn)有顯示面板開(kāi)口區(qū)出現(xiàn)漏光的技術(shù)問(wèn)題。
為解決上述問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案如下：
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板，其包括基板及位于所述基板上的顯示器件；
其中，所述顯示面板還包括為所述基板上的導(dǎo)線，所述導(dǎo)線至少包括第一金屬層和第二金屬層，所述第一金屬層位于所述基板上，所述第二金屬層位于所述第一金屬層上。
在本申請(qǐng)的顯示面板中，所述第一金屬層的金屬材料與所述第二金屬層的金屬材料不同。
在本申請(qǐng)的顯示面板中，所述第一金屬層的金屬材料包括鈦、或包含鈦的合金；
所述第二金屬層的金屬材料包括鋁、銅、金或銀中的一種或一種以上的組合物。
在本申請(qǐng)的顯示面板中，所述第一金屬層的厚度為15納米至50納米。
在本申請(qǐng)的顯示面板中，所述第一金屬層包括第一部分、位于所述第一部分一側(cè)的第二部分及位于所述第一部分另一側(cè)的第三部分；
所述第二金屬層的面積不大于所述第一部分的面積。
在本申請(qǐng)的顯示面板中，遠(yuǎn)離所述第一部分的所述第二部分或所述第三部分的邊界與所述第二金屬層的最小間距不小于150納米。
在本申請(qǐng)的顯示面板中，所述導(dǎo)線還包括位于所述第二金屬層上的第三金屬層；
所述第三金屬層的金屬材料包括鋁、銅、金或銀中的一種或一種以上的組合物。
本申請(qǐng)還提出了一種顯示面板的制作方法，其包括：
提供一基板；
在所述基板上形成第一金屬層；
在所述第一金屬層上形成第二金屬層；
其中，所述第一金屬層包括第一部分、位于所述第一部分一側(cè)的第二部分、及位于所述第一部分另一側(cè)的第三部分，所述第二金屬層的面積不大于所述第一部分的面積。
在本申請(qǐng)的制作方法中，所述第一金屬層的金屬材料與所述第二金屬層的金屬材料不同；
所述第一金屬層的金屬材料包括鈦、或包含鈦的合金；
所述第二金屬層的金屬材料包括鋁、銅、金或銀中的一種或一種以上的組合物。
在本申請(qǐng)的制作方法中，遠(yuǎn)離所述第一部分的所述第二部分或所述第三部分的邊界與所述第二金屬層的最小間距不小于150納米。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
