[發明專利]后期易維護的反應釜

在審

• 申請號: 201811259813.7
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN109289736A
• 公開（公告）日: 2019-02-01
• 發明（設計）人: 鄭俊強
• 申請（專利權）人: 惠州市強茂化工科技有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;B01J19/00
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 葉敏明

1.一種后期易維護的反應釜，其特征在于，包括：

承載套件，所述承載套件包括承載臺體和支撐組件，所述承載臺體上開設有容置孔、第一插接孔和第二插接孔，所述支撐組件設置于所述承載臺體上；

反應釜裝置，所述反應釜裝置設置于所述承載臺體上，所述反應釜裝置包括反應釜體、密封蓋體、第一安裝組件和第二安裝組件，所述密封蓋體設置于所述反應釜體上，所述密封蓋體上開設有多個清洗孔，所述第一安裝組件和所述第二安裝組件分別設置于所述反應釜體的外側壁上，所述反應釜體穿設所述容置孔，并且所述第一安裝組件和所述第二安裝組件一一對應插接于所述第一插接孔和所述第二插接孔內，所述第一安裝組件包括第一握持塊、第一抵持塊和第一引導柱，所述第一握持塊和所述第一抵持塊分別設置于所述反應釜體的外側壁上，所述第一引導柱設置于所述第一抵持塊上，所述第一引導柱的端部插接于所述第一插接孔內，所述第二安裝組件包括第二握持塊、第二抵持塊和第二引導柱，所述第二握持塊和所述第二抵持塊分別設置于所述反應釜體的外側壁上，所述第二引導柱設置于所述第二抵持塊上，所述第二引導柱的端部插接于所述第二插接孔內；

清洗裝置，所述清洗裝置設置于所述承載臺體上，并且所述清洗裝置的輸出端分別與多個所述清洗孔連通；及

攪拌裝置，所述攪拌裝置設置于所述密封蓋體上。

2.根據權利要求1所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述清洗裝置包括儲水箱體、第一輸送管道、電磁泵和第二輸送管道，所述儲水箱體設置于所述承載臺體上，所述第一輸送管道的輸入端與所述儲水箱體的出水口連通，所述第一輸送管道的輸出端與所述電磁泵的輸入端連通，所述電磁泵的輸出端與所述第二輸送管道的輸入端連通，所述第二輸送管道的輸出端分別與多個所述清洗孔連通。

3.根據權利要求1所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述第一握持塊上開設有多個第一握持孔。

4.根據權利要求3所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述第一握持塊和所述第一抵持塊為一體成型結構。

5.根據權利要求1所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述第二握持塊上開設有多個第二握持孔。

6.根據權利要求5所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述第二握持塊和所述第二抵持塊為一體成型結構。

7.根據權利要求1所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述支撐組件包括支撐架和彈性件，所述支撐架設置于所述承載臺體上，所述彈性件設置于所述支撐架上。

8.根據權利要求7所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述彈性件為橡膠彈性件。

9.根據權利要求1所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述容置孔為圓孔。

10.根據權利要求1所述的后期易維護的反應釜，其特征在于，所述第一插接孔和所述第二插接孔均為圓孔。