[發明專利]OLED顯示面板及其制作方法、OLED顯示裝置在審
| 申請號: | 201811259000.8 | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN109494242A | 公開(公告)日: | 2019-03-19 |
| 發明(設計)人: | 王一佳;曹君 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 非顯示區 顯示區 擋墻 制作 環形擋墻 截面形狀 曝光顯影 壓印步驟 頂面 基底 下凹 制備 | ||
1.一種OLED顯示面板,包括
顯示區;以及
非顯示區,圍繞所述顯示區;
其特征在于,所述OLED顯示面板還包括:
OLED基底;
至少一環形擋墻,突出于所述OLED基底一側的表面;所述環形擋墻位于非顯示區,且圍繞所述顯示區;以及
至少一凹槽,下凹于所述環形擋墻的頂面。
2.根據權利要求1所述的OLED顯示面板,其特征在于,
所述凹槽的截面形狀包括且不限于梯形、弧形或者V字形,
所述環形擋墻由兩個以上首尾相連的彎曲部或齒形部圍成。
3.根據權利要求1所述的OLED顯示面板,其特征在于,
所述OLED基底一側上依次制備有平坦化層、像素定義層、發光區以及薄膜封裝層;
所述環形擋墻與所述平坦化層設于所述OLED基底的同一側。
4.根據權利要求3所述的一種OLED顯示面板,其特征在于,
所述薄膜封裝層包括
至少兩個無機層;以及
至少一有機層,設于任意兩個相鄰無機層之間的間隙內;
其中,每一有機層的兩側面分別制備至所述兩個相鄰無機層的一側面;每一有機層被所述環形擋墻圍繞。
5.一種OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,包括以下步驟:
基底設置步驟,提供一OLED基底;
擋墻制備步驟,在所述OLED基底上表面制備至少一環形擋墻,位于非顯示區,且圍繞顯示區;
曝光顯影步驟,對所述環形擋墻進行紫外線光照處理及顯影處理;
壓印步驟,在所述環形擋墻的頂面壓印出至少一凹槽。
6.根據權利要求5所述的OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,
在所述曝光顯影步驟之后,還包括
顯示區器件制備步驟,在所述OLED基底上依次制備平坦層、像素定義層以及發光區域,所述環形擋墻與所述平坦化層設于所述OLED基底的同一側。
7.根據權利要求5所述的OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,
在所述壓印步驟之后,還包括
薄膜封裝步驟,在所述OLED基底上依次制備兩個以上無機層及至少一有機層,每一有機層設于任意兩個相鄰無機層之間。
8.根據權利要求7所述的OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,
所述薄膜封裝步驟包括
無機層第一制備步驟,在一基底上表面制備一無機層;
有機層制備步驟,在所述無機層上表面制備一有機層;
無機層第二制備步驟,在所述有機層上表面制備另一無機層;
重復2~4次所述有機層制備步驟及所述無機層第二制備步驟;
其中,每一所述有機層被所述環形擋墻圍繞。
9.根據權利要求5所述的OLED顯示面板的制作方法,其特征在于,所述環形擋墻的材料為派瑞林聚合物。
10.一種OLED顯示裝置,包括如權利要求1~4中任一項所述的OLED顯示面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





