[發(fā)明專利]液晶面板的外圍電路結(jié)構(gòu)以及液晶顯示母板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811258712.8 | 申請日： | 2018-10-26 |
| 公開（公告）號： | CN109212799B | 公開（公告）日： | 2021-10-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 雍瑋娜 | 申請（專利權(quán)）人： | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/133 | 分類號： | G02F1/133 |
| 代理公司： | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人： | 孫偉峰;黃進 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 液晶面板 外圍 電路 結(jié)構(gòu) 以及 液晶顯示 母板 | ||
1.一種液晶面板的外圍電路結(jié)構(gòu)，設(shè)置在面板單元中，所述面板單元包括尺寸互不相同的第一液晶面板和第二液晶面板，其特征在于，所述外圍電路結(jié)構(gòu)包括：與所述第一液晶面板的信號輸入端子電性連接的第一組信號線、與所述第二液晶面板的信號輸入端子電性連接的第二組信號線、分別與所述第一組信號線電性連接的第一組HVA配向墊和第一組陣列測試墊、以及，分別與所述第二組信號線電性連接的第二組HVA配向墊和第二組陣列測試墊；
其中，所述面板單元包括第一邊緣區(qū)域、第二邊緣區(qū)域、第三邊緣區(qū)域和第四邊緣區(qū)域，所述第一組信號線從所述第一邊緣區(qū)域經(jīng)由所述第二邊緣區(qū)域延伸至所述第三邊緣區(qū)域，所述第二組信號線從所述第一邊緣區(qū)域經(jīng)由所述第四邊緣區(qū)域延伸至所述第三邊緣區(qū)域；
其中，所述第一液晶面板和第二液晶面板均為非GOA型液晶面板；所述第一液晶面板的信號輸入端子包括第一源極側(cè)端子和第一柵極側(cè)端子，所述第一源極側(cè)端子設(shè)置于所述第一液晶面板的朝向所述第一邊緣區(qū)域的一側(cè)，所述第一柵極側(cè)端子設(shè)置于所述第一液晶面板的朝向所述第二邊緣區(qū)域的一側(cè)，所述第一組信號線分別在所述第一邊緣區(qū)域和第二邊緣區(qū)域與所述第一源極側(cè)端子和第一柵極側(cè)端子電性連接；所述第二液晶面板的信號輸入端子包括第二源極側(cè)端子和第二柵極側(cè)端子，所述第二源極側(cè)端子設(shè)置于所述第二液晶面板的朝向所述第四邊緣區(qū)域的一側(cè)，所述第二柵極側(cè)端子設(shè)置于所述第二液晶面板的朝向所述第三邊緣區(qū)域的一側(cè)，所述第二組信號線分別在所述第四邊緣區(qū)域和第三邊緣區(qū)域與所述第二源極側(cè)端子和第二柵極側(cè)端子電性連接；
其中，若所述第一液晶面板在HVA配向制程中對信號的精度要求高于所述第二液晶面板時，所述第一組HVA配向墊和所述第二組HVA配向墊設(shè)置于所述第一邊緣區(qū)域的臨近所述第二邊緣區(qū)域的一端，以降低所述第一組HVA配向墊至所述第一液晶面板的信號輸入端子之間的走線電阻；若所述第二液晶面板在HVA配向制程中對信號的精度要求高于所述第一液晶面板時，所述第一組HVA配向墊和所述第二組HVA配向墊設(shè)置于所述第一邊緣區(qū)域的臨近所述第四邊緣區(qū)域的一端，以降低所述第二組HVA配向墊至所述第二液晶面板的信號輸入端子之間的走線電阻；
其中，所述第一液晶面板的尺寸小于所述第二液晶面板的尺寸，所述第二邊緣區(qū)域和所述第四邊緣區(qū)域在對應于所述第一液晶面板的兩側(cè)具有寬度較大的部分，所述第一組陣列測試墊設(shè)置于所述第二邊緣區(qū)域中的寬度較大的部分，所述第二組陣列測試墊設(shè)置于所述第四邊緣區(qū)域中的寬度較大的部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板的外圍電路結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述外圍電路結(jié)構(gòu)還包括第三組HVA配向墊和第四組HVA配向墊，所述第三組HVA配向墊和第四組HVA配向墊設(shè)置于所述第三邊緣區(qū)域，所述第三組HVA配向墊與所述第一組信號線電性連接，所述第四組HVA配向墊與所述第二組信號線電性連接。
3.一種液晶顯示母板，所述液晶顯示母板包括至少一個面板單元，所述面板單元包括尺寸互不相同的第一液晶面板和第二液晶面板，其特征在于，所述面板單元中設(shè)置有如權(quán)利要求1-2任一所述的液晶面板的外圍電路結(jié)構(gòu)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學；光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的
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