[發(fā)明專利]一種19.5nm多層膜反射鏡

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• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN109254338A
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王孝東;陳波;王海峰;劉陽
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08
• 代理公司: 深圳市科進(jìn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛(wèi)良

本發(fā)明公開了一種19.5nm多層膜反射鏡，其包括：基底、交替疊加層、帽層，所述交替疊加層設(shè)置在所基底上，所述帽層設(shè)置在交替疊加層上；所述交替疊加層包括：半導(dǎo)體薄膜層以及與所述半導(dǎo)體薄膜層交替疊加設(shè)置的鉬薄膜層，所述半導(dǎo)體薄膜層與所述鉬薄膜層共交替疊加多層。本發(fā)明公開的19.5nm多層膜反射鏡具有耐高能粒子輻照和太陽輻射的優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種19.5nm多層膜反射鏡。

背景技術(shù)

理解日地環(huán)境和它對地球空間天氣和氣候的影響是現(xiàn)代科學(xué)探索的一個重要問題。太陽的耀斑、日冕物質(zhì)拋射等活動是影響地球空間天氣和氣候的重要因素。因此，人們對太陽輻射光譜中的極紫外光做了大量的成像研究。其中，鐵元素的Ⅻ譜線(波長19.5nm)是太陽光譜成像探測重要目標(biāo)之一，如SUVI,TXI,EIT和TRACE。他們在成像光學(xué)系統(tǒng)中都使用了正入射的Mo/Si多層膜。為了保證成像光譜的純凈，要求該多層膜既要在19.5nm有較高的正入射反射率，帶寬也要盡可能的小。受限于最小成膜物理厚度，上述型號中，使用的多層膜最窄帶寬是1nm，其中Mo在周期厚度中的最小比例為0.15，其中周期厚度是指單層鉬和硅的厚度和。同時，由于空間環(huán)境存在有大量的高能粒子(質(zhì)子、電子等)和太陽輻照等，要求制備的薄膜具有一定的穩(wěn)定性，即能抗高能粒子和太陽輻照。

我國正在研制的X-EUV太陽成像儀中也將對19.5nm譜線進(jìn)行成像探測。其中，正入射多層膜的反射率和帶寬要求與上述型號一樣。與上述型號不同的是我們還需要研制入射角度45°的多層膜，它也需要高反射率和窄帶寬，同時也要求具有良好的空間適應(yīng)性。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供了一種19.5nm多層膜反射鏡，所述19.5nm多層膜反射鏡包括：

基底、交替疊加層、帽層，所述交替疊加層設(shè)置在所基底上，所述帽層設(shè)置在交替疊加層上；所述交替疊加層包括：半導(dǎo)體薄膜層以及與所述半導(dǎo)體薄膜層交替疊加設(shè)置的鉬薄膜層，所述半導(dǎo)體薄膜層與所述鉬薄膜層共交替疊加多層。

在一些實(shí)施例中，所述半導(dǎo)體薄膜層的材料為硅、鍺、碳、碳化硼中的一種，所述半導(dǎo)體薄膜層使用直流電源鍍制而成。

在一些實(shí)施例中，所述帽層的材料為硅。

在一些實(shí)施例中，所述帽層外還設(shè)置有金屬銥薄膜層。

在一些實(shí)施例中，所述帽層厚度為7nm，所述金屬銥薄膜層的厚度為2nm。

在一些實(shí)施例中，所述基底的表面粗糙度為0.7nm。

在一些實(shí)施例中，所述交替疊加層的表面粗糙度為0.7nm，所述交替疊加層中所述半導(dǎo)體薄膜層與所述鉬薄膜層共交替疊加60層。

在一些實(shí)施例中，所述帽層的表面粗糙度為0.7nm。

在一些實(shí)施例中，所述基底的材料為微晶或熔石英。

在一些實(shí)施例中，所述鉬薄膜層占周期厚度的比例分別為0.15和0.11。

本發(fā)明的有益效果在于：本發(fā)明實(shí)施例提供的一種19.5nm多層膜反射鏡，通過設(shè)置交替疊加層，使19.5nm多層膜反射鏡具有較高的反射率外，還具有較窄的帶寬，另外，該19.5nm多層膜反射鏡還包括帽層，該帽層能夠抗高能粒子和太陽輻照，使得制備的19.5nm多層膜反射鏡耐高能粒子輻照和太陽輻射。

附圖說明

圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例的一種19.5nm多層膜反射鏡的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例的19.5nm多層膜反射鏡拆入地漏時的狀態(tài)示意圖。

本發(fā)明實(shí)施例涉及的附圖標(biāo)記如下所示：