[發(fā)明專利]發(fā)光二極管以及包括該發(fā)光二極管的發(fā)光設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811257271.X | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN109713098B | 公開(公告)日: | 2022-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李升宰;賓鐘官;李娜沇 | 申請(專利權(quán))人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/20 | 分類號: | H01L33/20;H01L33/38;H01L51/50;H01L51/52 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 以及 包括 發(fā)光 設(shè)備 | ||
1.一種發(fā)光二極管,包括:
陽極;
陰極,其被定位成面對所述陽極;
發(fā)射層,其包括發(fā)射材料層和電子轉(zhuǎn)移層,所述發(fā)射材料層位于所述陽極與所述陰極之間,并且所述電子轉(zhuǎn)移層位于所述陰極與所述發(fā)射材料層之間;
其中,所述電子轉(zhuǎn)移層包括:
第一電子傳輸層,其與所述發(fā)射材料層接觸,所述第一電子傳輸層包括有機材料;以及
第二電子傳輸層,其處在所述第一電子傳輸層與所述陰極之間,所述第二電子傳輸層包括無機材料并與所述第一電子傳輸層接觸,
其中,所述第二電子傳輸層的價帶能級(VBETL2)低于所述發(fā)射材料層的最高占據(jù)分子軌道(HOMO)能級(HOMOEML),
其中,所述第一電子傳輸層的最低未占分子軌道(LUMO)能級(LUMOETL1)高于所述發(fā)射材料層的LUMO能級(LUMOEML),并且
其中,所述第一電子傳輸層的所述LUMO能級(LUMOETL1)與所述發(fā)射材料層的所述LUMO能級(LUMOEML)滿足以下關(guān)系:
0.5eV≤LUMOETL1–LUMOEML≤2.8eV。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述第一電子傳輸層的最高占據(jù)分子軌道(HOMO)能級(HOMOETL1)與所述發(fā)射材料層的所述HOMO能級(HOMOEML)是相同的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述第一電子傳輸層的最高占據(jù)分子軌道(HOMO)能級(HOMOETL1)與所述發(fā)射材料層的HOMO能級(HOMOEML)滿足以下關(guān)系:
-0.5eV≤HOMOETL1–HOMOEML≤1.0eV。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述第二電子傳輸層的所述價帶能級(VBETL2)與所述發(fā)射材料層的所述HOMO能級(HOMOEML)滿足以下關(guān)系:
-1.5eV≤VBETL2–HOMOEML≤-0.7eV。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述發(fā)射材料層包括無機發(fā)光顆粒,其中,所述無機發(fā)光顆粒包括半導體納米晶體,并且其中,所述第一電子傳輸層中的有機材料的最高占據(jù)分子軌道(HOMO)能級與所述半導體納米晶體的HOMO能級是相同的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述發(fā)射材料層包括半導體納米晶體,并且其中,所述半導體納米晶體的最低未占分子軌道(LUMO)能級在-4.8eV至-4.0eV的范圍中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述第二電子傳輸層的導帶能級(CBETL2)處在所述第一電子傳輸層的最低未占分子軌道(LUMO)能級(LUMOETL1)與所述陰極的導帶能級之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述發(fā)射材料層的最高占據(jù)分子軌道(HOMO)能級(HOMOEML)處在所述第一電子傳輸層的HOMO能級(HOMOETL1)與所述第二電子傳輸層的價帶能級(VBETL2)之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其中,所述第二電子傳輸層的所述無機材料包括金屬氧化物顆粒。
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