[發明專利]紅外焦平面組件的敏感參數監測方法和裝置

有效

• 申請號: 201811256122.1
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN109583018B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發明（設計）人: 賴燦雄;肖慶中;楊少華;俞鵬飛;恩云飛;黃云;路國光
• 申請（專利權）人: 中國電子產品可靠性與環境試驗研究所（（工業和信息化部電子第五研究所）（中國賽寶實驗室））
• 主分類號: G01J5/90
• 分類號: G01J5/90;G01J5/48
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 周清華

1.一種紅外焦平面組件的敏感參數監測方法，所述方法包括：

當紅外焦平面組件獲取到的輻照輸入符合穩定條件時，指示所述紅外焦平面組件對提供所述輻照輸入的輻射源進行預設幀數的探測；

當所述紅外焦平面組件的上級系統監測到所述紅外焦平面組件通過探測得到的探測數據后，從所述上級系統獲取所述探測數據；所述上級系統是對所述紅外焦平面組件進行控制的原有系統；

根據所述探測數據計算所述紅外焦平面組件的敏感參數，當所述探測數據包括像元的電壓值、制冷機的電壓和電流，所述敏感參數包括像元的電壓平均值、均方根噪聲電壓和制冷機消耗的功率時，根據所述預設幀數和每幀中各所述像元的電壓值，獲取各所述像元的總電壓值，以根據所述總電壓值和所述預設幀數，計算所述像元的電壓平均值；獲取所述電壓平均值和所述電壓值的偏差值，根據所述預設幀數和所述偏差值計算各像元的均方根噪聲電壓；根據所述制冷機消耗的電壓和電流計算所述制冷機消耗的功率；

保存所述敏感參數，按照預設探測時間間隔，繼續執行當紅外焦平面組件獲取到的輻照輸入符合穩定條件時，指示所述紅外焦平面組件對提供所述輻照輸入的輻射源進行預設幀數的探測的步驟。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

將面源黑體或輻射率均勻的平板作為輻射源，所述面源黑體或輻射率均勻的平板具有控溫功能；

開啟所述控溫功能以對所述輻射源進行恒定溫度的控制,以使得所述輻射源為紅外焦平面組件提供的輻照輸入符合穩定條件。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述探測數據計算所述紅外焦平面組件的敏感參數包括：

根據所述探測數據分別確定各個所述探測數據所匹配的計算方式；

按照所述計算方式對各個所述探測數據進行計算；

通過所述計算分別得到所述紅外焦平面組件的各個敏感參數。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述指示所述紅外焦平面組件對提供所述輻照輸入的輻射源進行預設幀數的探測的步驟包括：

指示所述紅外焦平面組件的上級系統驅動所述紅外焦平面組件，使所述紅外焦平面組件對提供所述輻照輸入的輻射源進行預設幀數的探測的步驟。

5.一種紅外焦平面組件的敏感參數監測裝置，其特征在于，所述裝置包括：

輻射源探測模塊，用于當紅外焦平面組件獲取到的輻照輸入符合穩定條件時，指示所述紅外焦平面組件對提供所述輻照輸入的輻射源進行預設幀數的探測；

探測數據獲取模塊，用于當所述紅外焦平面組件的上級系統監測到所述紅外焦平面組件通過探測得到的探測數據后，從所述上級系統獲取所述探測數據；所述上級系統是對所述紅外焦平面組件進行控制的原有系統；

敏感參數計算模塊，用于根據所述探測數據計算所述紅外焦平面組件的敏感參數，包括：當所述探測數據包括像元的電壓值、制冷機的電壓和電流，所述敏感參數包括像元的電壓平均值、均方根噪聲電壓和制冷機消耗的功率時，根據所述預設幀數和每幀中各所述像元的電壓值，獲取各所述像元的總電壓值，以根據所述總電壓值和所述預設幀數，計算所述像元的電壓平均值；獲取所述電壓平均值和所述電壓值的偏差值，根據所述預設幀數和所述偏差值計算各像元的均方根噪聲電壓；根據所述制冷機消耗的電壓和電流計算所述制冷機消耗的功率；

敏感參數保存模塊，用于保存所述敏感參數，按照預設探測時間間隔，繼續執行當紅外焦平面組件獲取到的輻照輸入符合穩定條件時，指示所述紅外焦平面組件對提供所述輻照輸入的輻射源進行預設幀數的探測的步驟。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括輻射源控溫模塊，用于將面源黑體或輻射率均勻的平板作為輻射源，所述面源黑體或輻射率均勻的平板具有控溫功能；開啟所述控溫功能以對所述輻射源進行恒定溫度的控制,以使得所述輻射源為紅外焦平面組件提供的輻照輸入符合穩定條件。