[發明專利]用于壓接寶石的方法有效
| 申請號: | 201811255717.5 | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN109744668B | 公開(公告)日: | 2020-11-06 |
| 發明(設計)人: | S·博爾班;P·格羅森巴赫;J-C·馬丁;V·斯帕索夫;C·巴龍;L·布雷塞爾;Y·卡洛;C·格奈茲;S·勞普爾;A·烏達;S·斯普林格 | 申請(專利權)人: | 斯沃奇集團研究和開發有限公司 |
| 主分類號: | A44C17/04 | 分類號: | A44C17/04 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 秘鳳華;吳鵬 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 寶石 方法 | ||
1.一種用于將寶石(1)組裝在鑲嵌支托(2)上的組裝方法,所述寶石(1)被切割成具有桌面(3)、冠部(4)、腰部(5)和亭部(6),所述組裝方法包括以下步驟:
a)提供包括所述寶石(1)被定位在其中的至少一個凹槽(10)的基底(8),所述凹槽(10)設置成在所述基底(8)與所述寶石(1)之間形成至少在所述腰部(5)以及所述冠部(4)和所述亭部(6)的與所述腰部(5)相接的區域(4a,6a)附近的周邊自由空間(12),所述周邊自由空間(12)包括具有導電表面層(16)的底部(14);
b)通過在所述周邊自由空間(12)中進行電鍍而至少在所述腰部(5)以及所述冠部(4)和所述亭部(6)的與所述腰部(5)相接的區域(4a,6a)附近沉積金屬層(36),以便將所述腰部(5)限制在所述金屬層(36)中以形成所述鑲嵌支托(2);
c)從所述基底(8)釋放所述寶石(1)及其鑲嵌支托(2),
其中,根據以下步驟來生成所述基底(8)及其凹槽(10):
d)提供具有導電表面層(16)的基底(8)并在所述基底(8)中生成至少一個通孔(18);
e)用光敏樹脂層(20)覆蓋所述基底(8),并通過在所述光敏樹脂層(20)中的光刻來形成腔部(22),所述腔部在所述基底(8)的平面中的尺寸大于所述寶石(1)的腰部(5)的尺寸,使得所述腔部(22)包括對應于所述通孔(18)的中心開口(24)以及周邊區域,所述周邊區域包括樹脂側壁(26)和由圍繞所述通孔(18)的所述基底的導電表面層(16)占據的底部(14)。
2.根據權利要求1所述的組裝方法,其中,
形成所述凹槽(10)的所述腔部(22)和所述通孔(18)的尺寸被選擇為使得所述寶石(1)的亭部(6)被部分地容納在所述通孔(18)中,以便所述寶石(1)擱靠在所述腔部(22)的中心開口(24)的周邊上,所述亭部(6)的在所述通孔(18)上方的其余部分限定所述亭部(6)的與所述腰部(5)相接的區域(6a),并且,形成所述凹槽(10)的所述腔部(22)和所述通孔(18)的尺寸被選擇為使得在所述亭部(6)的與所述腰部(5)相接的所述區域(6a)與至少直到所述冠部(4)的與所述腰部(5)相接的區域(4a)的位置之間的所述寶石(1)的其余部分被容納在所述腔部(22)中,以便在所述寶石(1)與所述腔部(22)的樹脂側壁(26)和底部(14)之間形成所述周邊自由空間(12)。
3.根據權利要求2所述的組裝方法,其特征在于,將所述腔部(22)和所述通孔(18)的尺寸選擇為使得所述寶石(1)的亭部(6)幾乎完全被容納在所述通孔(18)中,以便所述亭部(6)的與所述腰部(5)相接的區域(6a)僅在所述腰部(5)下方緊鄰地延伸并且所述冠部(4)的與所述腰部(5)相接的區域(4a)僅在所述腰部(5)上方緊鄰地延伸,從而在所述寶石(1)與所述腔部(22)的樹脂側壁(26)和底部(14)之間基本上在所述腰部(5)以及所述冠部(4)和所述亭部(6)的與所述腰部(5)相接的所述區域(4a,6a)附近形成所述周邊自由空間(12)。
4.根據權利要求1所述的組裝方法,其特征在于,所述凹槽(10)的高度為使得所述寶石(1)的桌面(3)超出所述凹槽(10)。
5.根據權利要求4所述的組裝方法,其特征在于,所述組裝方法在步驟a)和b)之間包括修正所述寶石(1)的取向的步驟f)。
6.根據權利要求5所述的組裝方法,其特征在于,步驟f)包括使所述寶石(1)的桌面(3)與用于所述寶石(1)在其凹槽(10)中的重新定位的再定位設備(28)相接觸。
7.根據權利要求6所述的組裝方法,其特征在于,所述組裝方法在步驟f)和b)之間包括將所述寶石(1)的亭部(6)鑲嵌在所述通孔(18)中的步驟g)。
8.根據權利要求7所述的組裝方法,其特征在于,步驟g)之后是移除所述再定位設備(28)的步驟h)。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于斯沃奇集團研究和開發有限公司,未經斯沃奇集團研究和開發有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811255717.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





