[發(fā)明專利]天線及信號處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811254695.0 | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN111106431A | 公開(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊帆;梁靖 | 申請(專利權(quán))人: | 網(wǎng)易達(dá)科技(北京)有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/36 | 分類號: | H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q13/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100094 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 天線 信號 處理 裝置 | ||
1.一種天線,其特征在于,所述天線包括饋電導(dǎo)電板層和與所述饋電導(dǎo)電板層固定連接的輻射陣面層;
所述輻射陣面層沿其長度方向設(shè)置有至少兩個饋電區(qū)域,每個所述饋電區(qū)域設(shè)置有沿所述長度方向分布的多個饋電縫隙,所述多個饋電縫隙中包括至少一個沿所述輻射陣面層的寬度方向與其他饋電縫隙之間的距離大于0的饋電縫隙;
所述饋電導(dǎo)電板層設(shè)置有至少兩個饋電槽和分別與所述至少兩個饋電槽相通的信號出口,所述至少兩個饋電槽分別與所述至少兩個饋電區(qū)域?qū)?yīng),使得所述饋電區(qū)域包括的多個饋電縫隙與對應(yīng)的饋電槽的空腔相通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的天線,其特征在于,
所述饋電區(qū)域包括的多個饋電縫隙中,任意兩個相鄰饋電縫隙沿所述輻射陣面層的長度方向存在第一預(yù)設(shè)距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的天線,其特征在于,
所述饋電區(qū)域包括的多個饋電縫隙中,任意兩個相鄰饋電縫隙沿所述輻射陣面層的寬度方向存在第二預(yù)設(shè)距離,且任意三個連續(xù)饋電縫隙中位于兩端的饋電縫隙沿所述輻射陣面層的寬度方向的距離為0。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項權(quán)利要求所述的天線,其特征在于,所述多個饋電縫隙均為十字型饋電縫隙。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項權(quán)利要求所述的天線,其特征在于,所述輻射陣面層包括固定通孔,所述饋電導(dǎo)電板層包括固定盲孔,所述天線還包括固定部;
所述固定部穿過所述固定通孔與所述固定盲孔固定連接,使得所述輻射陣面層固定在所述饋電導(dǎo)電板層上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項權(quán)利要求所述的天線,其特征在于,所述輻射陣面層和所述饋電導(dǎo)電板層均由金屬材料制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項權(quán)利要求所述的天線,其特征在于,所述輻射陣面層和所述饋電導(dǎo)電板層均為表面涂覆有導(dǎo)電金屬層的注塑件。
8.一種信號處理裝置,其特征在于,所述信號處理裝置包括權(quán)利要求1至7任意一項權(quán)利要求所述的天線。
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