[發(fā)明專利]蒙皮數(shù)據(jù)生成方法以及裝置、電子設(shè)備及存儲介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811251519.1
• 申請日: 2018-10-25
• 公開（公告）號: CN109345615B
• 公開（公告）日: 2023-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 詹珣
• 申請（專利權(quán)）人: 網(wǎng)易（杭州）網(wǎng)絡(luò)有限公司
• 主分類號: G06T13/40
• 分類號: G06T13/40
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種蒙皮數(shù)據(jù)生成方法以及裝置、電子設(shè)備、存儲介質(zhì)，涉及計(jì)算機(jī)圖形學(xué)技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：獲取高精度模型以及與高精度模型對應(yīng)的低精度模型；基于低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與高精度模型各頂點(diǎn)的空間距離以及紋理坐標(biāo)之間的差值，從高精度模型的頂點(diǎn)中選取與目標(biāo)頂點(diǎn)對應(yīng)的多個頂點(diǎn)；基于多個頂點(diǎn)中各個頂點(diǎn)與目標(biāo)頂點(diǎn)之間的距離以及多個頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)生成目標(biāo)頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)。本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案能夠根據(jù)高精度模型的蒙皮數(shù)據(jù)計(jì)算出對應(yīng)低精度模型的蒙皮數(shù)據(jù)，從而能夠顯著減少工作量，使低精度模型最終的渲染和動畫效果最大限度的貼合原有的高精度模型。

背景技術(shù)

隨著計(jì)算硬件設(shè)備的提升和游戲制作技術(shù)的進(jìn)步，角色模型的精細(xì)程度越來越高，構(gòu)建模型的網(wǎng)格頂點(diǎn)數(shù)量也越來越多。為了緩解大量網(wǎng)格頂點(diǎn)帶來的計(jì)算壓力，會在不影響游戲體驗(yàn)的特定條件下使用相對精度較低的模型替代高精度模型以減少計(jì)算量。

目前，一種技術(shù)方案中，在高精度模型已經(jīng)制作完成的情況下，模型美術(shù)會通過合并頂點(diǎn)降低精度的方式構(gòu)造一個網(wǎng)格頂點(diǎn)數(shù)量顯著降低的低精度版本模型，由動畫美術(shù)根據(jù)骨骼信息給每一個頂點(diǎn)構(gòu)造對應(yīng)的蒙皮數(shù)據(jù)。然而，這種技術(shù)方案中，一方面，根據(jù)骨骼信息給每一個頂點(diǎn)構(gòu)造對應(yīng)的蒙皮數(shù)據(jù)，增加了動畫美術(shù)的工作量；另一方面，動畫美術(shù)手動構(gòu)造低精度模型的蒙皮數(shù)據(jù)，很難使其和高精度模型的蒙皮數(shù)據(jù)貼合，最終顯示效果的差別會比較大，影響用戶體驗(yàn)。

需要說明的是，在上述背景技術(shù)部分公開的信息僅用于加強(qiáng)對本發(fā)明背景的理解，因此可以包括不構(gòu)成對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種蒙皮數(shù)據(jù)生成方法、蒙皮數(shù)據(jù)生成裝置、電子設(shè)備以及計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，進(jìn)而至少在一定程度上克服由于相關(guān)技術(shù)的限制和缺陷而導(dǎo)致的低精度模型蒙皮工作量大、搭建的低精度模型與原高精度模型顯示效果差別較大的問題。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的第一方面，提供了一種蒙皮數(shù)據(jù)生成方法，包括：獲取高精度模型以及與所述高精度模型對應(yīng)的低精度模型；基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與所述高精度模型各頂點(diǎn)的空間距離以及紋理坐標(biāo)之間的差值，從所述高精度模型的頂點(diǎn)中選取與所述目標(biāo)頂點(diǎn)對應(yīng)的多個頂點(diǎn)；基于所述多個頂點(diǎn)中各個頂點(diǎn)與所述目標(biāo)頂點(diǎn)之間的距離以及所述多個頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)生成所述目標(biāo)頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)。

在本發(fā)明的一些示例實(shí)施例中，基于前述方案，基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與所述高精度模型各頂點(diǎn)的空間距離以及紋理坐標(biāo)之間的差值，從所述高精度模型的頂點(diǎn)中選取與所述目標(biāo)頂點(diǎn)對應(yīng)的多個頂點(diǎn)，包括：基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與所述高精度模型各頂點(diǎn)的空間距離，從所述高精度模型的頂點(diǎn)中選取與所述目標(biāo)頂點(diǎn)對應(yīng)的多個頂點(diǎn)；基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與選取的所述頂點(diǎn)的紋理坐標(biāo)之間的差值，對選取的所述頂點(diǎn)進(jìn)行過濾。

在本發(fā)明的一些示例實(shí)施例中，基于前述方案，基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與所述高精度模型各頂點(diǎn)的空間距離以及紋理坐標(biāo)之間的差值，從所述高精度模型的頂點(diǎn)中選取與所述目標(biāo)頂點(diǎn)對應(yīng)的多個頂點(diǎn)，包括：基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與所述高精度模型各頂點(diǎn)的空間距離，依次從所述高精度模型的頂點(diǎn)中選取與所述目標(biāo)頂點(diǎn)距離最近的頂點(diǎn)；基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與選取的所述頂點(diǎn)的紋理坐標(biāo)之間的差值，對選取的所述頂點(diǎn)進(jìn)行過濾。

在本發(fā)明的一些示例實(shí)施例中，基于前述方案，基于所述低精度模型的目標(biāo)頂點(diǎn)與選取的所述頂點(diǎn)的紋理坐標(biāo)之間的差值，對選取的所述多個頂點(diǎn)進(jìn)行過濾，還包括：獲取所述目標(biāo)頂點(diǎn)的紋理坐標(biāo)以及所述頂點(diǎn)的紋理坐標(biāo)；判斷所述頂點(diǎn)的紋理坐標(biāo)與所述目標(biāo)頂點(diǎn)的紋理坐標(biāo)之差的絕對值是否小于預(yù)定值；若判定所述絕對值不小于預(yù)定值，則將所述頂點(diǎn)過濾掉。

在本發(fā)明的一些示例實(shí)施例中，基于前述方案，基于所述多個頂點(diǎn)中各個頂點(diǎn)與所述目標(biāo)頂點(diǎn)之間的距離以及所述多個頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)生成所述目標(biāo)頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)，包括：確定所述多個頂點(diǎn)中各個頂點(diǎn)與所述目標(biāo)頂點(diǎn)之間的距離；基于各個所述頂點(diǎn)與所述目標(biāo)頂點(diǎn)之間的距離，確定各個所述頂點(diǎn)的距離權(quán)重；對各個所述頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)以及所述距離權(quán)重進(jìn)行加權(quán)平均計(jì)算，生成所述目標(biāo)頂點(diǎn)的蒙皮數(shù)據(jù)。