[發明專利]一種小型天線用低剖面反射口徑結構印刷天線

有效

• 申請號: 201811246256.5
• 申請日: 2018-10-25
• 公開（公告）號: CN109346840B
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發明（設計）人: 周建明;皮維超;張磊;董濤;李興旺
• 申請（專利權）人: 北京理工大學
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q9/16;H01Q19/13
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1.一種小型天線用低剖面反射口徑結構印刷天線，其特征在于，采用多層結構設計，多層結構設計包括輻射單元、加載反射口徑結構、饋電結構；

所述的加載反射口徑結構為一底部開孔徑的矩形腔體結構，加載反射口徑結構底面上部有十字形金屬凹槽，從而形成加載效應；

所述多層結構，頂層為一印刷電路板，其頂面為一微帶饋電單元，底面為一對稱印刷偶極子輻射單元；中間層為加載反射口徑結構，構成參考地與加載反射層；底層為大高差平行饋電電路部分；

所述頂層頂面微帶饋電單元通過同軸頂部內導體進行饋電，頂層底面上的偶極子輻射單元與同軸頂部外導體進行連接；

所述饋電結構采用低剖面的水平微帶轉垂直同軸再轉微帶的二級轉換饋電方式實現了大高差平行饋電需求，這一設計同時兼顧了手持式設備的結構約束和天線饋電的基本要求。

2.根據權利要求1所述的印刷天線，其特征在于，加載反射口徑結構為四周封閉的一矩形腔體，其頂面敞開，底面留有同軸饋電圓孔和十字形金屬凹槽。

3.根據權利要求2所述的印刷天線，其特征在于，加載反射口徑結構內部為空氣填充或介電常數近似為1.0的聚氨酯泡沫材料。

4.根據權利要求3所述的印刷天線，其特征在于，饋電孔中心與加載反射口徑上的加載結構形狀的中心同心對齊。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的印刷天線，其特征在于，所述印刷天線工作頻率為2900MHz～3800MHz，所述加載反射口徑結構外部尺寸55mm～60mm，高度在12mm～15mm；所述印刷天線總高度在13mm～16mm。

6.根據權利要求5所述的印刷天線，其特征在于，采用了四層結構，最頂層為頂層微帶饋電單元，第二層為對稱偶極子輻射單元，第三層為加載反射口徑結構，第四層為饋電電路；同軸饋電線豎直穿過加載反射口徑結構。