[發(fā)明專利]基于Fano諧振的橢圓空氣孔部分刻蝕型光子晶體傳感器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811244602.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109470652A | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田慧平;王錚;王超;孫富君;肖澤坤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京郵電大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/41 | 分類號(hào): | G01N21/41 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100876 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 空氣孔 橢圓 光子晶體傳感器 刻蝕型 諧振 氮化硅 刻蝕 二維光子晶體結(jié)構(gòu) 二維光子晶體 傳感器設(shè)計(jì) 光子晶體板 避免污染 穿透結(jié)構(gòu) 傳感領(lǐng)域 結(jié)構(gòu)材料 結(jié)構(gòu)調(diào)整 結(jié)構(gòu)改良 品質(zhì)因子 入射方向 液體環(huán)境 制作工藝 靈敏度 穿透的 傳感器 刻蝕劑 折射率 光源 平行 垂直 靈活 制作 | ||
1.提出一種基于Fano諧振的橢圓空氣孔部分刻蝕的二維光子晶體傳感器結(jié)構(gòu),其特征在于:該傳感器制作材料選擇為氮化硅,通過調(diào)整橢圓空氣孔刻蝕深度,使得光場中心局域在空氣孔孔內(nèi)和附近空間。其中光子晶體板板厚160nm,空氣孔的刻蝕深度為板厚的一半,即80nm。此時(shí),在垂直平面波光源的照射下,光子晶體板內(nèi)將激發(fā)出兩種模式,分別為類TE模和類TM模。其中類TE模的光場中心局域在空氣孔正上下方,類TM模的光場中心局域在光子晶體板的正上下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的方法,實(shí)現(xiàn)了基于Fano諧振的橢圓空氣孔部分刻蝕的二維光子晶體傳感器結(jié)構(gòu)。其特征在于提高了全透射型結(jié)構(gòu)的品質(zhì)因子和靈敏度指標(biāo)。該結(jié)構(gòu)置于液體環(huán)境中,激發(fā)出的兩種模式分別對(duì)周圍環(huán)境的折射率變化表現(xiàn)出不同的敏感性。其中類TE模式靈敏度為582.5nm/RIU,類TM模式靈敏度為930.5nm/RIU。
3.根據(jù)權(quán)利要求1,2中所述,該結(jié)構(gòu)可以用于液體環(huán)境的折射率檢測,且由于氮化硅物理化學(xué)性質(zhì)較為穩(wěn)定,可以適應(yīng)一定的惡劣條件。
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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