[發(fā)明專利]一種低VOC低氣味聚丙烯樹脂組合物及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811239688.3 | 申請日: | 2018-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN111087679B | 公開(公告)日: | 2022-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 康鵬;金滟;蔡濤;石勝鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司北京化工研究院 |
| 主分類號: | C08L23/12 | 分類號: | C08L23/12;C08L83/04;C08K9/10;C08K3/04;C08K5/098;C08K5/134;C08K5/526 |
| 代理公司: | 北京思創(chuàng)畢升專利事務(wù)所 11218 | 代理人: | 孫向民;廉莉莉 |
| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 voc 氣味 聚丙烯 樹脂 組合 及其 制備 方法 | ||
1.一種低VOC低氣味聚丙烯樹脂組合物,其特征在于,該低VOC低氣味聚丙烯樹脂組合物包含共混的以下組分:聚丙烯、改性碳納米管、八異丁基倍半硅氧烷、吸酸劑和抗氧劑;相對于100重量份的所述聚丙烯,所述改性碳納米管為0.04~1.6重量份,所述八異丁基倍半硅氧烷為0.04~1.8重量份,所述吸酸劑為0.05~1重量份,所述抗氧劑為0.05~1重量份;所述改性碳納米管為二乙烯基苯包覆的多壁碳納米管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述改性碳納米管的直徑為20-60nm,長度為5-50μm,包覆層厚度為10-100nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述抗氧劑選自受阻酚類抗氧劑和/或磷酸酯類抗氧劑;
所述受阻酚類抗氧劑選自四[β-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸]季戊四醇酯、β-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸正十八碳醇酯、N,N'-雙-(3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酰基)己二胺和1,3,5-三(3,5-二叔丁基-4-羥基芐基)異氰尿酸中的至少一種;
所述磷酸酯類抗氧劑選自三(2,4-二叔丁基酚)亞磷酸酯和/或雙(2,4-二叔丁基苯酚)季戊四醇二亞磷酸酯。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述抗氧劑為受阻酚類抗氧劑和磷酸酯類抗氧劑的混合物,所述受阻酚類抗氧劑和磷酸酯類抗氧劑的重量比為1︰(1~8)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述吸酸劑選自金屬氧化物、乳酸鹽、苯甲酸鹽、硅酸鹽和含Na、Ca或Zn的硬脂酸鹽中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,相對于100重量份的所述聚丙烯,所述改性碳納米管為0.05~1.5重量份。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述改性碳納米管為0.1~1重量份。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述改性碳納米管為0.2~0.8重量份。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,相對于100重量份的所述聚丙烯,所述八異丁基倍半硅氧烷為0.1~1.2重量份;所述抗氧劑為0.1~0.8重量份;所述吸酸劑為0.08~0.8重量份。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述八異丁基倍半硅氧烷為0.2~0.8重量份。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述抗氧劑為0.2~0.6重量份。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的聚丙烯樹脂組合物,其中,所述吸酸劑為0.1~0.5重量份。
13.權(quán)利要求1-12中任意一項所述的低VOC低氣味聚丙烯樹脂組合物的制備方法,其特征在于,該制備方法包括:將包含所述聚丙烯、改性碳納米管、八異丁基倍半硅氧烷、吸酸劑和抗氧劑在內(nèi)的各組分混合,然后熔融共混,得到所述聚丙烯樹脂組合物。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制備方法,其中,所述制備方法包括以下步驟:
(1)將所述改性碳納米管、八異丁基倍半硅氧烷、吸酸劑和抗氧劑混合均勻,得到VOC抑制混合物;
(2)將所述VOC抑制混合物和所述聚丙烯混合均勻,得到預(yù)混物;
(3)將所述預(yù)混物進行熔融共混,得到所述聚丙烯樹脂組合物。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的制備方法,其中,所述熔融共混時保持設(shè)備真空系統(tǒng)的真空度在-0.05MPa以上。
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