[發明專利]一種旱地矮化中間砧蘋果樹深坑淺栽方法在審
| 申請號: | 201811234206.5 | 申請日: | 2018-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN109220472A | 公開(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發明(設計)人: | 任軍民;袁景軍 | 申請(專利權)人: | 任軍民 |
| 主分類號: | A01G17/00 | 分類號: | A01G17/00 |
| 代理公司: | 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385 | 代理人: | 董芙蓉 |
| 地址: | 744400 甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 矮化中間砧 外露 蘋果樹 深坑 旱地 苗木 果樹栽培技術 薄膜覆蓋 干旱問題 苗木栽植 生長 定植溝 鍋底形 苗圃地 回填 土壤 下陷 矮化 大坑 定植 樹勢 幼樹 原基 黃土高原 失調 下沉 蒸發 接納 灌溉 缺水 降水 協調 | ||
本發明屬于果樹栽培技術領域,公開了一種旱地矮化中間砧蘋果樹深坑淺栽方法,苗木栽植深度為矮化中間砧入土4/5,矮砧外露5cm;依據定植溝土壤下沉程度,留出苗木下陷2cm~3cm;矮化砧外露中,管上不管下,矮砧上部外露一致,在一個水平線上;矮化中間砧推遲一年生根,第一年利用原基砧長好樹勢,翌年春季將土回填要求的部位。本發明使苗木與苗圃地生長保持了一致,定植后土壤與地上溫度相近,生長協調,排除了傳統深栽上下水分與營養失調的嚴重問題;樹下形成的鍋底形大坑,有利接納降水,薄膜覆蓋造成水分能進不能出,減少蒸發,相當幼樹多次灌溉,解決了黃土高原缺水干旱問題,提高了有效水分的利用率。
技術領域
本發明屬于果樹栽培技術領域,尤其涉及一種旱地矮化中間砧蘋果樹深坑淺栽方法。是黃土高原旱地栽培矮化中間砧蘋果的技術創新。
背景技術
目前,業內常用的現有技術是這樣的:
矮化蘋果由于矮化的機理作用,矮化果樹葉片肥厚,葉綠素含量高,光能利用率強,干物質積累高,光照增強是喬化樹的3—5倍。樹體營養生長容易向生殖生長轉化,長枝少,短枝形成量大,所以易成花、結果年限早,比喬化樹結果提早一般在3—4年,果園投資回收快,經濟效益高。干物質積累矮化樹用于果實占78%,而喬化樹僅在22%,所以矮化樹果實個大,相對均勻一致,果形端正高樁,色澤艷麗,外觀質量比喬化樹美觀;光合充足,果實內在品質極佳,含糖量高比喬化樹高2-3個百分點,硬度大,耐儲藏,酸甜適口、風味濃郁。矮化蘋果樹體矮小,適宜密植,管理方便,成本低,有利機械化操作,減輕果園勞動強度,符合現代果業集約化發展。
所以目前矮化蘋果發展已成為世界蘋果發展的總趨勢,蘋果發達國家矮化果樹栽植面積已占總面積的95%以上,而我國矮化面積發展不足總面積的6%,喬化面積過大是制約我國蘋果質量、以及出口創匯的主要因素。
近年為適應市場競爭,國內蘋果栽植在轉型升級中轉向矮化發展為主體,蘋果栽培應用矮化自根砧,生產表現矮化性狀明顯,樹體極易成花,結果早,果品質量高,營養生長好控制等優點,但苗木繁育比較困難,依賴組培與壓條培育,時間周期長,程序復雜,出圃苗木比較昂貴,果農與大戶發展難以接受,發展受到一定限制。自根砧矮化蘋果苗栽植由于根系淺,約分布在地表20cm范圍,肥水條件要求高,要求立地條件要好,有水源和肥力基礎,要配套滴灌系統,而且固定性差,必須建立支柱工程。果園前期投資較大,在黃土高原發展要在一定區域栽培,風險性也很大。
所以矮化栽培在生產上目前主要采用的是我國自創的矮化中間砧蘋果苗木。多年實驗研究結果,在黃土高原矮化中間砧蘋果苗木要求矮化中間砧入土深度為5/4(20cm—25cm),傳統栽植矮化中間砧一步到位,近年生產表現矮化中間砧栽植過深,基砧與中間砧約40cm—50cm全在土內,隨氣溫上升,上部進入生長,土壤越往下地溫越低,根系處于休眠,上下水分與營養失調,從而引起苗木抽干或死亡,苗木成活率不高,給新建矮化果園造成困難。
近年體系專家引進國內新技術推行矮化中間砧淺栽起壟栽植方法,起壟后矮化中間砧發出的根系,都處于土壤表面范圍,表現矮化根系易受干旱或低溫凍害,仍不能從根本上解決矮化中間砧栽植出現的嚴重危害問題。
黃土高原是我國蘋果最佳適生區,目前開始大面積推廣矮化蘋果栽植,針對黃土高原相對缺水,冬季溫度較低的實際情況。
傳統栽植矮化中間砧一步到位,砧木入土過深,隨氣溫上升,上部進入生長,根系處于休眠,上下水分與營養失調,從而引起苗木抽干或死亡和淺栽起壟技術起壟后矮化中間砧發出的根系,都處于土壤表面范圍,矮化根系易受干旱或低溫凍害兩大問題。
綜上所述,現有技術存在的問題是:
傳統栽植矮化中間砧一步到位,砧木入土過深,隨氣溫上升,上部進入生長,根系處于休眠,上下水分與營養失調,從而引起苗木抽干或死亡和淺栽起壟技術起壟后矮化中間砧發出的根系,都處于土壤表面范圍,矮化根系易受干旱或低溫凍害兩大問題。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于任軍民,未經任軍民許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811234206.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種利用構樹綠化裸露坡面的方法
- 下一篇:一種佛手的種植方法





