[發(fā)明專利]相移掩模及使用該相移掩模的抗蝕圖案形成方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811233403.5
• 申請日: 2013-02-15
• 公開（公告）號(hào): CN109298592A
• 公開（公告）日: 2019-02-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 木下一樹;飛田敦
• 申請（專利權(quán)）人: 大日本印刷株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/34
• 分類號(hào): G03F1/34
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳秋明

1.一種相移掩模，用于通過來自曝光裝置的曝光的光從而將未達(dá)到3μm的設(shè)計(jì)尺寸的抗蝕圖案形成于被加工材上，其特征在于，

具備：

透明基板；

凹狀或凸?fàn)畹南嘁撇浚湓O(shè)置于上述透明基板上，對來自上述曝光裝置的曝光的光賦予給定的相位差；以及

非相移部，其鄰接于上述相移部，

上述相移部及上述非相移部當(dāng)中的至少任一者為未達(dá)到上述曝光裝置分辨率極限的尺寸，且上述相移部的尺寸與上述非相移部的尺寸不同，

上述相移部及上述非相移部當(dāng)中的尺寸較小的任一者發(fā)揮不使上述被加工材上的光致抗蝕膜曝光的功能，另一者發(fā)揮使上述被加工材上的光致抗蝕膜曝光的功能，

上述透明基板上的包含上述相移部及上述非相移部在內(nèi)的圖案區(qū)域的大小是一邊為300mm以上，

至少在上述圖案區(qū)域內(nèi)，未設(shè)置未達(dá)到上述曝光裝置分辨率極限的尺寸且以遮光膜構(gòu)成的遮光部。

2.如權(quán)利要求1所述的相移掩模，其中，

上述相移部的尺寸與上述非相移部的尺寸之比為1∶1.5～1∶5.6、或1.5∶1～5.6∶1。

3.如權(quán)利要求1或2所述的相移掩模，其中，

上述相移部的尺寸與鄰接于該相移部的上述非相移部的尺寸的合計(jì)值為上述曝光裝置分辨率極限以上。

4.如權(quán)利要求1所述的相移掩模，其中，

上述相移部及上述非相移部當(dāng)中尺寸較小的暗區(qū)域的尺寸為0.6μm～2.75μm范圍內(nèi)，上述相移部及上述非相移部當(dāng)中尺寸較大的明區(qū)域的尺寸與上述暗區(qū)域的尺寸之比，是在將上述暗區(qū)域的尺寸設(shè)為1的情況下，上述明區(qū)域的尺寸為1.5以上。

5.如權(quán)利要求1、2和4中任一項(xiàng)所述的相移掩模，其中，

在上述圖案區(qū)域內(nèi)，具有為上述曝光裝置分辨率極限以上的尺寸且以遮光膜構(gòu)成的遮光部。

6.如權(quán)利要求1、2和4中任一項(xiàng)所述的相移掩模，其中，

上述凹狀的相移部是設(shè)置于上述透明基板的刻蝕部。

7.如權(quán)利要求1、2和4中任一項(xiàng)所述的相移掩模，其中，

上述凸?fàn)畹南嘁撇渴且栽O(shè)置于上述透明基板上的透光膜構(gòu)成的。

8.一種抗蝕圖案形成方法，將具有未達(dá)到曝光裝置分辨率極限的設(shè)計(jì)尺寸的抗蝕圖案形成于被加工材上，其特征在于，

包含：

使用上述曝光裝置，通過權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)的相移掩模，使設(shè)置于上述被加工材上的光致抗蝕膜曝光的步驟；以及

通過使經(jīng)曝光的上述光致抗蝕膜顯影，從而在上述被加工材上形成給定的抗蝕圖案的步驟。

9.一種相移掩模，用于通過來自具備等倍投影曝光光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置的曝光的光從而將未達(dá)到3μm的設(shè)計(jì)尺寸的抗蝕圖案形成于被加工材上，其特征在于，

具備：

透明基板；

凹狀或凸?fàn)畹南嘁撇浚湓O(shè)置于上述透明基板上，對來自上述曝光裝置的曝光的光賦予給定的相位差；以及

非相移部，其鄰接于上述相移部，

上述相移部及上述非相移部當(dāng)中的至少任一者為未達(dá)到上述曝光裝置分辨率極限的尺寸，且上述相移部的尺寸與上述非相移部的尺寸不同，

上述相移部及上述非相移部當(dāng)中的尺寸較小的任一者發(fā)揮不使上述被加工材上的光致抗蝕膜曝光的功能，另一者發(fā)揮使上述被加工材上的光致抗蝕膜曝光的功能，

上述透明基板上的包含上述相移部及上述非相移部在內(nèi)的圖案區(qū)域的大小是一邊為300mm以上，

至少在上述圖案區(qū)域內(nèi)，未設(shè)置未達(dá)到上述曝光裝置分辨率極限的尺寸且以遮光膜構(gòu)成的遮光部。

10.一種相移掩模，用于通過來自曝光裝置的曝光的光從而將未達(dá)到3μm的設(shè)計(jì)尺寸的抗蝕圖案形成于被加工材上，其特征在于，

具備：

透明基板；

凹狀或凸?fàn)畹南嘁撇浚湓O(shè)置于上述透明基板上，對來自上述曝光裝置的曝光的光賦予給定的相位差；以及

非相移部，其鄰接于上述相移部，

上述相移部及上述非相移部當(dāng)中的至少任一者為未達(dá)到上述曝光裝置分辨率極限的尺寸，且上述相移部的尺寸與上述非相移部的尺寸不同，

上述相移部及上述非相移部當(dāng)中的尺寸較小的任一者發(fā)揮不使上述被加工材上的光致抗蝕膜曝光的功能，另一者發(fā)揮使上述被加工材上的光致抗蝕膜曝光的功能，

所述相移部的刻蝕深度或厚度根據(jù)所述透明基板的厚度、來自上述曝光裝置的曝光的光的波長、構(gòu)成所述透明基板的材料的折射率而設(shè)定。