[發(fā)明專利]一種用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811232956.9 | 申請日： | 2018-10-23 |
| 公開（公告）號： | CN109290584A | 公開（公告）日： | 2019-02-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳光;孫預(yù)麟;李沛;潘曦;徐東東 | 申請（專利權(quán)）人： | 南京理工大學(xué);南京理工大學(xué)北方研究院 |
| 主分類號： | B22F9/08 | 分類號： | B22F9/08 |
| 代理公司： | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人： | 鄒偉紅 |
| 地址： | 210094 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 坩堝瓣 水冷銅坩堝 霧化制粉 逐級降低 坩堝裝置 外側(cè)壁 直筒狀 坩堝體 磁力線 球形金屬粉末 導(dǎo)熱 一體式結(jié)構(gòu) 頂端焊接 固態(tài)材料 口徑設(shè)計 熔化材料 設(shè)計結(jié)構(gòu) 霧化法制 液流 制粉 穿透 口徑 堵塞 | ||
1.一種用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝裝置為一體式結(jié)構(gòu)，坩堝裝置包括上部的坩堝體(1)和下部的漏注(2)，所述坩堝體(1)包括外側(cè)壁(3)和坩堝瓣(4)，坩堝瓣(4)固定在外側(cè)壁(3)的內(nèi)側(cè)，坩堝瓣(4)之間為坩堝瓣間的縫隙(5)，縫隙(5)供磁力線穿透；所述坩堝瓣(4)底部與漏注(1)的頂端焊接，漏注(1)頂端的內(nèi)徑等于坩堝瓣(4)底部的最小直徑，漏注(1)的上部為逐級降低口徑設(shè)計結(jié)構(gòu)，下部采用直筒狀設(shè)計結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，所述漏注(1)的底部為導(dǎo)流嘴(7)，導(dǎo)流嘴(7)為同心圓鏤空結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，所述裝置還包括循環(huán)水冷卻系統(tǒng)(8)，循環(huán)水冷卻系統(tǒng)(8)設(shè)置在坩堝體(1)的外側(cè)壁(3)以及漏注(2)的側(cè)壁中，包括進水口(9)和出水口(10)，導(dǎo)流嘴(7)位置有前后兩道冷卻水通道，冷卻水從進水口(9)進入，經(jīng)過導(dǎo)流嘴(7)處圓環(huán)式的前后兩道冷卻水通道，從出水口(10)流出。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，所述進水口(9)和出水口(10)與外部水管采用過盈插接的方式連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，所述縫隙(5)采用氮化硼或氧化釔填充，采用氮化硼對坩堝體內(nèi)表面進行涂層處理保護。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝瓣(4)的數(shù)量為20-30個，坩堝瓣(4)沿內(nèi)壁均勻排列，相互之間的縫隙寬度為1±0.5mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，所述坩堝體(1)的內(nèi)徑為50-200mm、坩堝瓣底部與漏注頂端的焊接處(6)的內(nèi)徑為15-20mm、漏注下部直筒狀的內(nèi)徑為3-6mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，導(dǎo)流嘴(7)的內(nèi)圓直徑為3-6mm，外圓直徑為16-21mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于霧化制粉的水冷銅坩堝裝置，其特征在于，水冷銅坩堝采用純銅制作而成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南京理工大學(xué);南京理工大學(xué)北方研究院，未經(jīng)南京理工大學(xué);南京理工大學(xué)北方研究院許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811232956.9/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
