[發(fā)明專利]一種SONOS單元的角模型架構(gòu)及其調(diào)試方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811230693.8 | 申請日: | 2018-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN109388895B | 公開(公告)日: | 2023-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王正楠 | 申請(專利權(quán))人: | 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/20 | 分類號: | G06F30/20 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 sonos 單元 模型 架構(gòu) 及其 調(diào)試 方法 | ||
1.一種SONOS單元的角模型架構(gòu),包括P0狀態(tài)分支和P1狀態(tài)分支,所述P0狀態(tài)分支,P1狀態(tài)分支各自細(xì)分為BOL狀態(tài)和EOL狀態(tài)子分支,每個子分支再根據(jù)sonos元件和fnpass元件細(xì)分為typical,fast和slow三種角模型分類;
其中,所述SONOS單元的角模型架構(gòu)的調(diào)試方法包括:
步驟S1,提取BOL狀態(tài)在typical條件下P0狀態(tài)、P1狀態(tài)的IV模型,所述IV模型為所述SONOS單元的角模型在某一狀態(tài)下的輸出特性所對應(yīng)的函數(shù)關(guān)系;
步驟S2,選擇各自的模型參數(shù)進(jìn)行fast和slow的角模型調(diào)試;
步驟S3,根據(jù)P1狀態(tài)的BOL狀態(tài)的fast和slow工藝分布得到的閾值電壓和漏電流上下限規(guī)格,對P1狀態(tài)BOL狀態(tài)的sonos元件的vth0、u0參數(shù)進(jìn)行調(diào)試,直到模型仿真數(shù)值和規(guī)格數(shù)值一致;
步驟S4,對EOL狀態(tài)時的P0狀態(tài)的IV曲線進(jìn)行參數(shù)擬合,得到typical狀態(tài)的vth0數(shù)值,根據(jù)BOL狀態(tài)的fast,slow參數(shù)變化幅度,對EOL狀態(tài)的fast和slow參數(shù)進(jìn)行相應(yīng)的數(shù)值調(diào)整,所述IV曲線為所述SONOS單元的角模型在某一狀態(tài)下的輸出特性曲線;
步驟S5,根據(jù)已有的EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的fnpass元件的角模型參數(shù),再根據(jù)EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的工藝分布得到的閾值電壓上下限規(guī)格,調(diào)整sonos的vth0參數(shù)直到fast和slow參數(shù)的仿真數(shù)值和規(guī)格一致;
步驟S6,將EOL狀態(tài)下P1狀態(tài)的fnpass的corner參數(shù)直接復(fù)制EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的fnpass元件的corner參數(shù);
步驟S7,根據(jù)已有的EOL狀態(tài)下P1狀態(tài)的fnpass的角模型參數(shù),以及根據(jù)EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的工藝分布得到的閾值電壓上下限規(guī)格,調(diào)整sonos元件的vth0參數(shù)直到fast和slow的仿真數(shù)值和規(guī)格一致。
2.一種SONOS單元的角模型架構(gòu)的調(diào)試方法,所述SONOS單元的角模型架構(gòu)包括P0狀態(tài)分支和P1狀態(tài)分支,所述P0狀態(tài)分支,P1狀態(tài)分支各自細(xì)分為BOL狀態(tài)和EOL狀態(tài)子分支,每個子分支再根據(jù)sonos元件和fnpass元件細(xì)分為typical,fast和slow三種角模型分類,所述調(diào)試方法包括如下步驟:
步驟S1,提取BOL狀態(tài)在typical條件下P0狀態(tài)、P1狀態(tài)的IV模型,所述IV模型為所述SONOS單元的角模型在某一狀態(tài)下的輸出特性所對應(yīng)的函數(shù)關(guān)系;
步驟S2,選擇各自的模型參數(shù)進(jìn)行fast和slow的角模型調(diào)試;
步驟S3,根據(jù)P1狀態(tài)的BOL狀態(tài)的fast和slow工藝分布得到的閾值電壓和漏電流上下限規(guī)格,對P1狀態(tài)BOL狀態(tài)的sonos元件的vth0、u0參數(shù)進(jìn)行調(diào)試,直到模型仿真數(shù)值和規(guī)格數(shù)值一致;
步驟S4,對EOL狀態(tài)時的P0狀態(tài)的IV曲線進(jìn)行參數(shù)擬合,得到typical狀態(tài)的vth0數(shù)值,根據(jù)BOL狀態(tài)的fast,slow參數(shù)變化幅度,對EOL狀態(tài)的fast和slow參數(shù)進(jìn)行相應(yīng)的數(shù)值調(diào)整,所述IV曲線為所述SONOS單元的角模型在某一狀態(tài)下的輸出特性曲線;
步驟S5,根據(jù)已有的EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的fnpass元件的角模型參數(shù),再根據(jù)EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的工藝分布得到的閾值電壓上下限規(guī)格,調(diào)整sonos的vth0參數(shù)直到fast和slow參數(shù)的仿真數(shù)值和規(guī)格一致;
步驟S6,將EOL狀態(tài)下P1狀態(tài)的fnpass的corner參數(shù)直接復(fù)制EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的fnpass元件的corner參數(shù);
步驟S7,根據(jù)已有的EOL狀態(tài)下P1狀態(tài)的fnpass的角模型參數(shù),以及根據(jù)EOL狀態(tài)下P0狀態(tài)的工藝分布得到的閾值電壓上下限規(guī)格,調(diào)整sonos元件的vth0參數(shù)直到fast和slow的仿真數(shù)值和規(guī)格一致。
3.如權(quán)利要求2所述的SONOS單元的角模型架構(gòu)的調(diào)試方法,其特征在于,于步驟S1中,提取BOL狀態(tài)在typical條件下P0狀態(tài)、P1狀態(tài)的IV模型,typical條件下經(jīng)過測試得到相應(yīng)的IV曲線,用sonos元件和fnpass元件對應(yīng)的BSIM4模型進(jìn)行參數(shù)提取。
4.如權(quán)利要求3所述的SONOS單元的角模型架構(gòu)的調(diào)試方法,其特征在于:于步驟S1中,提取的順序為先提取P0狀態(tài)下的模型參數(shù),再提取P1狀態(tài)下的模型參數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司,未經(jīng)上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811230693.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





