[發明專利]蒸鍍源、蒸鍍裝置有效
| 申請號： | 201811230434.5 | 申請日： | 2018-10-22 |
| 公開（公告）號： | CN109112488B | 公開（公告）日： | 2023-08-01 |
| 發明（設計）人： | 謝虎;付瀟;郭書鵬;黃俊淞 | 申請（專利權）人： | 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;張天舒 |
| 地址： | 230012 *** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 蒸鍍源 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種蒸鍍源，其特征在于，包括：
蒸鍍容納室，其內部為中空結構；
蒸鍍本體，其設置在所述中空結構內；
支撐組件，其設置在所述中空結構的底面上，用于支撐所述蒸鍍本體，以將所述蒸鍍本體的底部與所述中空結構的底面分離；
所述支撐組件復用為滾動組件，所述蒸鍍源還包括：第三驅動單元；
所述第三驅動單元與所述滾動組件連接，用于驅動所述滾動組件發生滾動，以將其所支撐的蒸鍍本體傳送至所述中空結構的外部。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述支撐組件為多個，多個所述支撐組件均勻地設置在所述中空結構的底面上。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述中空結構的形狀包括長方體，所述蒸鍍本體的形狀包括長方體。
4.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍本體為坩堝。
5.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍源包括線蒸鍍源。
6.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權利要求1-5中任一所述的蒸鍍源。
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