[發明專利]用于產生振動的布置結構和振動產生設備

有效

• 申請號: 201811228892.5
• 申請日: 2018-10-22
• 公開（公告）號: CN109714683B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: P·索羅寧;V·卡亞努斯;P·盧卡寧;H·坎卡帕
• 申請（專利權）人: PS音頻設計公司
• 主分類號: H04R9/02
• 分類號: H04R9/02;H04R27/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;李輝

1.一種用于根據電輸入信號產生振動的布置結構，所述布置結構包括：

第一永磁體布置結構，所述第一永磁體布置結構包括第一永磁體，所述第一永磁體布置結構被配置成與設備的被布置成機械地位移的表面相聯接；

用于支承所述表面的至少一個支承構件；

框架，所述框架包括磁性材料，所述框架被配置成與所述設備的基部相聯接；

第二永磁體，所述第二永磁體被配置成布置在所述第一永磁體與所述框架之間并與所述框架相聯接，所述框架的一個或更多個部分在所述第二永磁體的邊緣區域上至少沿一個方向延伸，

所述第二永磁體還被配置成以一定距離面對所述第一永磁體，以使得所述第一永磁體與所述第二永磁體之間的磁相互作用產生針對所述設備的所述表面的第一力，

其中，所述框架被配置成被所述第二永磁體磁化，以便使所述框架的所述一個或更多個部分與所述第一永磁體布置結構之間的磁相互作用產生針對所述表面的第二力，所述第二力與所述第一力相比具有相反的方向；以及

線圈，所述線圈與用于接收電輸入信號的輸入端相聯接，所述線圈被配置成根據所述電輸入信號產生磁場，以便位移所述表面來產生振動。

2.根據權利要求1所述的布置結構，其中，所述線圈被配置成圍繞所述第二永磁體布置。

3.根據權利要求2所述的布置結構，其中，所述線圈被配置成位于所述框架的所述一個或更多個部分與所述第一永磁體布置結構之間。

4.根據權利要求1所述的布置結構，其中，所述第一永磁體和所述第二永磁體的相同極性被配置成彼此面對。

5.根據權利要求1所述的布置結構，其中，所述第一永磁體的被配置成面對所述第二永磁體的表面的表面積大于所述第二永磁體的被配置成面對所述第一永磁體的表面的表面積。

6.根據權利要求5所述的布置結構，其中，所述第二力被配置成至少通過所述第一永磁體與所述框架的所述一個或更多個部分之間的磁相互作用產生。

7.根據權利要求5所述的布置結構，其中，所述線圈被配置成直接位于所述框架的所述一個或更多個部分與所述第一永磁體之間。

8.根據權利要求1所述的布置結構，其中，所述第一永磁體布置結構還包括第三永磁體，所述第三永磁體被配置成面對所述框架的所述一個或更多個部分，以便在所述框架的所述一個或更多個部分與所述第一永磁體布置結構之間產生所述磁相互作用。

9.一種振動產生設備，所述振動產生設備包括：

被布置成機械地位移的表面；以及

用于根據電輸入信號產生振動的一個或更多個布置結構，所述一個或更多個布置結構包括：

第一永磁體布置結構，所述第一永磁體布置結構包括第一永磁體，所述第一永磁體布置結構被配置成與所述表面相聯接；

用于支承所述表面的至少一個支承構件；

框架，所述框架包括磁性材料，所述框架被配置成與所述振動產生設備的基部相聯接；

第二永磁體，所述第二永磁體被配置成布置在所述第一永磁體與所述框架之間并與所述框架相聯接，所述框架的一個或更多個部分在所述第二永磁體的邊緣區域上至少沿一個方向延伸，

所述第二永磁體還被配置成以一定距離面對所述第一永磁體，以使得所述第一永磁體與所述第二永磁體之間的磁相互作用產生針對所述振動產生設備的所述表面的第一力，

其中，所述框架被配置成被所述第二永磁體磁化，以便使所述框架的所述一個或更多個部分與所述第一永磁體布置結構之間的磁相互作用產生針對所述表面的第二力，所述第二力與所述第一力相比具有相反的方向；以及

線圈，所述線圈與用于接收電輸入信號的輸入端相聯接，所述線圈被配置成根據所述電輸入信號產生磁場，以便位移所述表面來產生振動。