[發明專利]一種氧化亞銅納米線材料的制備方法

有效

• 申請號: 201811228520.2
• 申請日: 2018-10-15
• 公開（公告）號: CN109095494B
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發明（設計）人: 苗中正;田華雨;苗愛民
• 申請（專利權）人: 鹽城師范學院
• 主分類號: C01G3/02
• 分類號: C01G3/02;B82Y40/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供一種氧化亞銅納米線材料的制備方法。將氯化銅溶液涂覆于銅箔表面，中和反應快速發生，生成氯化亞銅，從銅箔表面刮除收集；將氫氧化鈉、氯化鉀與少許水加入到乙醇溶液中，通入氮氣除氧，加入氯化亞銅粉末，封閉加熱，反應生成氧化亞銅納米線。本發明所公開的方法制備的氧化亞銅納米線粒徑均勻，尺寸、形貌和維度易于控制，氯化銅、銅箔、氫氧化鈉為原料，乙醇為反應介質，氯化鉀為絡合劑，原料易得，價格低廉，降低了成本，步驟簡單，便于操作，設備要求簡單，有利于實現大規模的工業生產。

技術領域

本發明涉及納米材料制備領域，尤其涉及一種利用氯化亞銅制備氧化亞銅納米線的方法。

背景技術

氧化亞銅為一價銅的氧化物，帶隙寬度為1.8～2.2eV，是一種重要的新型無機化工原料，在光催化、光電轉換、傳感器、著色劑、超級電容器、染料敏化太陽能電池、鋰離子電池、污水處理等領域都有極大的應用前景。

納米氧化亞銅材料包括氧化亞銅納米顆粒、氧化亞銅納米線、氧化亞銅納米管、氧化亞銅薄膜等。氧化亞銅的物理和化學性質在很大程度上取決于晶體的尺寸和形貌，合成形貌尺寸可控的氧化亞銅晶體已成為該領域的研究焦點。氧化亞銅納米線由于具備特殊的幾何形狀、高的長寬比以及量子尺寸效應和表面效應，已受到人們的廣泛關注。其常見的制備方法主要有化學沉淀法、水熱法、溶劑熱法、電化學模板法、機械化學法等。大多數方法得到的氧化亞銅納米線長徑比較低，形貌難以控制，制備工藝復雜，需要發展新的制備方法獲得結構均勻可控、合成簡單、性能良好的氧化亞銅納米線材料。

發明內容

提出了一種氧化亞銅納米線材料的制備方法，尤其是一種利用氯化亞銅制備氧化亞銅納米線的方法。

本發明采用如下技術方案：

一種氧化亞銅納米線材料的制備方法，包括如下步驟：

(1)將氯化銅溶液涂覆于銅箔表面，中和反應快速發生，將氯化亞銅從銅箔表面刮除收集；

(2)將氫氧化鈉、氯化鉀與少許水加入到乙醇溶液中，通入氮氣除氧，加入氯化亞銅粉末，封閉加熱，反應生成氧化亞銅納米線。

步驟(1)中的氯化銅溶液濃度范圍為0.01～1mol/L，溶劑為水、乙醇、丙醇、二氯甲烷、汽油、丁醇、丙酮、乙醚、乙醛、石油醚的一種或者混合溶液。

步驟(1)中的中和反應溫度為0～80℃。

步驟(1)中的涂覆方法為滴涂、線棒涂膜法、噴涂法。

步驟(2)中的氫氧化鈉與氯化亞銅的質量比為0.5～2，氯化鉀與氯化亞銅的質量比為0.6～1，水與乙醇的體積比為0.01～0.1。

步驟(2)中的通入氮氣除氧時間為10min～2h。

步驟(2)中的加熱溫度為40～85℃，反應時間為8～24h。

本發明具有如下優勢：

(1)本發明方法利用氯化銅、銅箔、氫氧化鈉原料，乙醇為反應介質，氯化鉀為絡合劑，原料易得，價格低廉，降低了成本。

(2)本發明方法步驟簡單，便于操作，設備要求簡單，有利于實現大規模的工業生產。

(3)本發明方法制備的氧化亞銅納米線粒徑均勻，尺寸、形貌和維度易于控制。

附圖說明

圖1為本發明方法實施例1制備氧化亞銅納米線的透射電鏡圖。

圖2為本發明方法實施例1制備氧化亞銅納米線的X射線衍射圖。

具體實施方式

為便于理解本發明，本發明列舉實施例如下。本領域技術人員應該明了，所述實施例僅僅用于幫助理解本發明，不應視為對本發明的具體限制。