[發明專利]一種背照射型的可見及短波紅外寬光譜InGaAs探測器在審
| 申請號: | 201811226485.0 | 申請日: | 2018-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN109461788A | 公開(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發明(設計)人: | 何瑋;邵秀梅;李淘;曹高奇;于一榛;楊波;李雪;龔海梅 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/105 | 分類號: | H01L31/105;H01L31/0236;H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海滬慧律師事務所 31311 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 短波 背照射型 量子效率 寬波段 寬光譜 絨面 傳統光學薄膜 外延層結構 表面集成 厚度控制 技術瓶頸 結構參數 可見波段 增透效果 外延層 窄波段 引入 探測器 探測 改進 | ||
1.一種背照射型的可見及短波紅外寬光譜InGaAs探測器,包括n型InP接觸層(1)、InGaAs吸收層(2)、p型InP接觸層(3)、銦柱(4)、讀出電路(5)、絨面抗反膜(6),其特征在于:
所述探測器的結構為:在p型InP接觸層(3)之上依次是InGaAs吸收層(2)、n型InP接觸層(1)和絨面抗反膜(6),在p型InP接觸層(3)另一面上通過銦柱(4)聯有讀出電路(5);
所述絨面抗反膜(6)由多層增透膜(6-1)和類納米錐結構(6-2)構成,多層增透膜(6-1)采用ZnS、Ta2O5、SiO2或SiNx,其折射率介于InP和空氣之間,層數為1~4層;類納米錐結構(6-2)采用金字塔、圓錐、三角錐、方錐、納米柱、三角柱或方柱亞波長結構;
所述n型InP接觸層(1)厚度為5~30nm;
所述InGaAs吸收層(2)厚度為2.5μm或3μm;
所述InGaAs探測器p型InP接觸層(1)厚度為1μm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





