[發明專利]一種防凍且防水的高分子粘合膜的制法有效
| 申請號: | 201811226333.0 | 申請日: | 2018-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN109609042B | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發明(設計)人: | 張健夫;王丹;紀捷;易宇亮;孛滿江 | 申請(專利權)人: | 長春理工大學 |
| 主分類號: | C09J7/10 | 分類號: | C09J7/10;C09J179/02;C09J105/08;C09J133/02;C09J179/04;C09J5/00;C09J5/02 |
| 代理公司: | 長春科宇專利代理有限責任公司 22001 | 代理人: | 馬守忠 |
| 地址: | 130022 吉林省長春*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防凍 防水 高分子 粘合 制法 | ||
1.一種防凍且防水的高分子粘合膜的制法,其特征在于,步驟和條件如下:
a.陽離子基元A溶液的制備
室溫下,將陽離子基元A和去離子水置于反應器中,攪拌均勻,得到陽離子基元A溶液;該溶液的pH為7.5~11.5,質量體積濃度為2.0~10.0mg/ml;所述的陽離子基元A是PEI,A的分子量范圍為1.7×104~5×106g/mol;
b.陰離子基元溶液的制備
室溫下,將B和去離子水置于反應器中,攪拌均勻,得到B溶液,然后加入C,攪拌均勻,再加入D,攪拌均勻,最后加入E得到陰離子基元B-C-D-E溶液;該B-C-D-E溶液的pH為2.5~7.0,質量體積濃度為2.0~25.0mg/ml;所述的陰離子基元B-C-D-E中B:C:D:E的質量比為0~10:0~5:0~5:0~5,其中B、C、D不能同時為0,所述的陰離子基元中的B、C、D為水溶性的吸水能力比較強的高分子,B、C、D分別為HA、PAAS、PVA或DA的液體或粉末;B、C、D的分子量的范圍均為2.0×103~5.0×106g/mol;所述的陰離子基元中的E為含有兒茶酚基團和氨基的水溶性分子多巴胺鹽酸鹽;
c.防凍且防水高分子粘合膜A/(B-C-D-E)*n的制備
c.1待粘接件的表面處理方法:用無水乙醇將任意一個待粘接件表面擦拭干凈,得到表面處理過的待粘接件;所述的待粘接件是柔性的或是剛性的,是親水的或是疏水的,所述的待粘接件中任意兩種可以粘接在一起;
c.2防凍且防水的高分子粘合膜A/(B-C-D-E)*n在待粘接件上有噴涂方式的制備方法或浸泡方式的制備方法;
c.2.1噴涂方式的制備方法如下:室溫下,將步驟c.1待粘接件的表面處理方法處理過的任意一個待粘接件固定在一個平板上,噴筆與待粘接件距離10cm,并且筆尖垂直于待粘接件,噴涂陽離子基元A溶液,吹干,陽離子基元A層的厚度為0.1~2μm,然后在陽離子基元A層的上面噴涂陰離子基元B-C-D-E溶液,吹干,陰離子基元B-C-D-E的厚度為0.2~3μm,上述操作為一個噴涂周期,記為A/(B-C-D-E),每個噴涂周期在待粘接件上制備的高分子粘合膜厚度為0.3~5μm;重復n個噴涂周期,在待粘接件上制備A/(B-C-D-E)*n高分子粘合膜,n為自然數;
c.2.2浸泡方式的制備方法如下:室溫下,將步驟c.1待粘接件的表面處理方法處理過的任意一個待粘接件,依次在上述的陽離子基元A溶液、去離子水、陰離子基元B-C-D-E溶液、去離子水中分別浸泡5~30min、1~5min、5~30min和1~5min,吹干,作為一個浸泡周期,記為A/(B-C-D-E);其中,陽離子基元A層的厚度為0.1~2μm,陰離子基元B-C-D-E的厚度為0.2~3μm,每個浸泡周期在待粘接件上制備的高分子粘合膜的厚度為0.3~5μm,重復n個浸泡周期,得到A/(B-C-D-E)*n高分子粘合膜,n為自然數;
d.防凍且防水的A/(B-C-D-E)*n@PVA高分子粘合膜在待粘接件上的制備
室溫下,將步驟c.2.1或c.2.2兩種方法在待粘接件上剛制備好的A/(B-C-D-E)*n高分子粘合膜的表面分別均勻噴撒上一層厚度為3~10μm的PVA粉末,1min后,將其放在去離子水中待PVA完全溶脹后取出,制備防凍且防水的A/(B-C-D-E)*n@PVA高分子粘合膜,干燥,備用。
2.如權利要求1所述的一種防凍且防水的高分子粘合膜的制法,其特征在于,所述的柔性的待粘接為紙制品或塑料制品,所述的剛性的待粘接件為石英片、玻璃片或硅片。
3.如權利要求2所述的一種防凍且防水的高分子粘合膜的制法,其特征在于,所述的塑料制品為聚乙烯膜。
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