[發明專利]圖像繪制方法和裝置、計算設備及存儲介質有效
| 申請號: | 201811223702.0 | 申請日: | 2018-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN109325992B | 公開(公告)日: | 2023-07-04 |
| 發明(設計)人: | 李侃 | 申請(專利權)人: | 珠海金山數字網絡科技有限公司;成都西山居世游科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T15/08 | 分類號: | G06T15/08;G06T15/20 |
| 代理公司: | 北京智信禾專利代理有限公司 11637 | 代理人: | 吳肖肖 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海市高新區唐家灣鎮前島環路325號102室*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 繪制 方法 裝置 計算 設備 存儲 介質 | ||
本說明書提供一種圖像繪制方法和裝置、計算設備及存儲介質,其中所述方法包括:獲取待繪制圖像中像素點的真實深度;將所述真實深度和預設閾值進行比較;對所述真實深度小于預設閾值的像素點進行第一投影,得到對應的第一Z值深度,所述第一Z值深度作為所述像素點的Z值深度;對所述真實深度大于預設閾值的像素點進行第二投影,得到對應的第二Z值深度,所述第二Z值深度作為所述像素點的Z值深度,所述真實深度大于預設閾值的像素點在所述第二投影的非線性度小于在所述第一投影的非線性度;根據所述像素點的Z值深度繪制所述像素點。
技術領域
本說明書涉及圖像繪制技術領域,特別涉及一種圖像繪制方法和裝置、計算設備及存儲介質。
背景技術
3D渲染中,對待繪制圖像中的像素點沿Z軸方向進行投影得到與其真實深度對應的Z值深度,并將同一位置上被測像素點和當前像素點的Z值深度進行比較來確定是否繪制該被測像素點:被測像素點的Z值深度大于當前像素點的Z值深度,則不進行繪制,反之則進行繪制。所有的像素點繪制完成后繪制成對應的圖像。
在正交投影中像素點的真實深度和Z值的關系是線性的,但在透視投影中卻不是的。參見圖1,橫座標表示像素點的真實深度,縱坐標表示經過透視座標變換后得到的像素點的Z值深度,在透視投影中這種關系是非線性的?,F有技術中采用透視投影對圖像像素點沿Z軸方向進行投影,得到對應的Z值深度。
從圖1中可以看出,像素點的真實深度的非線性程度和Z值的大小相關,因此,在深度較大的地方可能產生Z-Fighting現象。當兩個像素點的深度都較大,且二者的深度較為接近時,二者的Z值就會非常接近,一旦二者的Z值達到Z緩存的精度下限時,在Z緩存中,二者的Z值就會變得完全一致。會導致深度測試的結果不可預測,系統無法判斷這兩個像素點到底哪個在前,哪個在后,因此顯示出來的現象是交錯閃爍的前后兩個畫面。
發明內容
有鑒于此,本說明書實施例提供了一種圖像繪制方法和裝置、計算設備及存儲介質,以解決現有技術中存在的技術缺陷。
根據本說明書實施例的第一方面,提供了一種圖像繪制方法,包括:
獲取待繪制圖像中像素點的真實深度,每個所述像素點的位置信息通過三維坐標來表示,每個所述像素點的深度值通過三維坐標中的Z軸的值來表示;將所述真實深度和預設閾值進行比較;
對所述真實深度小于預設閾值的像素點沿Z軸方向進行第一投影,得到第一Z值深度,所述第一Z值深度作為所述像素點的Z值深度;
對所述真實深度大于預設閾值的像素點沿Z軸方向進行第二投影,得到第二Z值深度,所述第二Z值深度作為所述像素點的Z值深度,所述真實深度大于預設閾值的像素點在所述第二投影的非線性度小于在所述第一投影的非線性度;
根據所述像素點的Z值深度繪制所述像素點。
可選的,對所述真實深度小于預設閾值的像素點沿Z軸方向進行第一投影,包括:
對所述真實深度小于預設閾值的像素點沿Z軸方向采用透視投影法沿Z軸方向進行第一投影。
可選的,對所述真實深度大于預設閾值的像素點沿Z軸方向進行第二投影,包括:
對所述真實深度大于預設閾值的像素點沿Z軸方向采用直線投影法沿Z軸方向進行第二投影。
可選的,對所述真實深度大于預設閾值的像素點沿Z軸方向進行第二投影還包括:
對所述真實深度大于預設閾值的像素點沿Z軸方向采用反向映射法沿Z軸方向進行第二投影。
可選地,所述反向映射法包括:
根據所述第二Z值深度,將所述第二Z值作取反操作實現反向映射。
可選的,根據所述像素點的Z值深度繪制所述像素點,包括:
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