[發明專利]光學成像模塊

在審

• 申請號: 201811223560.8
• 申請日: 2018-10-19
• 公開（公告）號: CN110941067A
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發明（設計）人: 張永明;賴建勛;劉燿維
• 申請（專利權）人: 先進光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B7/02
• 分類號: G02B7/02;G02B7/00;G02B13/00;G02B13/18;G03B17/12;H04N5/225
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨;侯奇慧

1.一種光學成像模塊，其特征在于，包含：

一電路元件，包含有一載板、一電路基板及一影像感測元件；該電路基板設置于該載板上；該電路基板具有一穿透該電路基板的透孔，且該電路基板上具有多個電路接點；該影像感測元件設置于該載板上并位于該電路基板的該透孔中；該影像感測元件具有一感測面以及多個影像接點，且該多個影像接點分別通過一信號傳導元件電性連接對應的電路接點；

一透鏡元件，包含有一透鏡基座及一透鏡組；該透鏡基座以不透光材質制成，且具有一容置孔貫穿該透鏡基座兩端而使該透鏡基座呈中空；另外，該透鏡基座設置于該載板或該電路基板上而使該影像感測元件正對該容置孔；該透鏡組包含有至少兩片具有屈光力的透鏡，且設置于該透鏡基座上并位于該容置孔中；另外，該透鏡組的成像面位于該感測面，且該透鏡組的光軸與該感測面的中心法線重迭，使光線能夠通過該容置孔中的該透鏡組并投射至該感測面；

此外，該光學成像模塊更滿足下列條件：

1.0≤f/HEP≤10.0；

0deg<HAF≤150deg；

0mm<PhiD≤18mm；

0<PhiA/PhiD≤0.99；及

0.9≤2(ARE/HEP)≤2.0

其中，f為該透鏡組的焦距；HEP為該透鏡組的入射瞳直徑；HAF為該透鏡組的最大可視角度的一半；PhiD為該透鏡基座的外周緣且垂直于該透鏡組的光軸的平面上的最小邊長的最大值；PhiA為該透鏡組最接近該成像面的透鏡表面的最大有效直徑；ARE為以該透鏡組中任一透鏡的任一透鏡表面與光軸的交點為起點，并以距離光軸1/2入射瞳直徑的垂直高度處的位置為終點，沿著該透鏡表面的輪廓所得的輪廓曲線長度。

2.如權利要求1所述的光學成像模塊，其特征在于，更滿足下列條件：

0.9≤ARS/EHD≤2.0；其中，ARS為以該透鏡組中任一透鏡的任一透鏡表面與光軸的交點為起點，并以該透鏡表面的最大有效半徑處為終點，沿著該透鏡表面的輪廓所得的輪廓曲線長度；EHD為該透鏡組中任一透鏡的任一表面的最大有效半徑。

3.如權利要求1所述的光學成像模塊，其特征在于，更滿足下列條件：

PLTA≤100μm；PSTA≤100μm；NLTA≤100μm；

NSTA≤100μm；SLTA≤100μm；SSTA≤100μm；

以及│TDT│<250％；

其中，先定義HOI為該成像面上垂直于光軸的最大成像高度；PLTA為該光學成像模塊的正向子午面光扇的可見光最長工作波長通過該入射瞳邊緣并入射在該成像面上0.7HOI處的橫向像差；PSTA為該光學成像模塊的正向子午面光扇的可見光最短工作波長通過該入射瞳邊緣并入射在該成像面上0.7HOI處的橫向像差；NLTA為該光學成像模塊的負向子午面光扇的可見光最長工作波長通過該入射瞳邊緣并入射在該成像面上0.7HOI處的橫向像差；NSTA為該光學成像模塊的負向子午面光扇的可見光最短工作波長通過該入射瞳邊緣并入射在該成像面上0.7HOI處的橫向像差；SLTA為該光學成像模塊的弧矢面光扇的可見光最長工作波長通過該入射瞳邊緣并入射在該成像面上0.7HOI處的橫向像差；SSTA為該光學成像模塊的弧矢面光扇的可見光最短工作波長通過該入射瞳邊緣并入射在該成像面上0.7HOI處的橫向像差；TDT為該光學成像模塊于結像時的TV畸變。

4.如權利要求1所述的光學成像模塊，其特征在于，該透鏡組包含四片具有屈折力的透鏡，由物側至像側依序為一第一透鏡、一第二透鏡、一第三透鏡以及一第四透鏡，且該透鏡組滿足下列條件：

0.1≤InTL/HOS≤0.95；

其中，HOS為該第一透鏡的物側面至該成像面于光軸上的距離；InTL為該第一透鏡的物側面至該第四透鏡的像側面于光軸上的距離。

5.如權利要求1所述的光學成像模塊，其特征在于，該透鏡組包含五片具有屈折力的透鏡，由物側至像側依序為一第一透鏡、一第二透鏡、一第三透鏡、一第四透鏡以及一第五透鏡，且該透鏡組滿足下列條件：

0.1≤InTL/HOS≤0.95；

其中，HOS為該第一透鏡的物側面至該成像面于光軸上的距離；InTL為該第一透鏡的物側面至該第五透鏡的像側面于光軸上的距離。