[發明專利]過濾器潤濕系統及供液系統在審
| 申請號: | 201811221462.0 | 申請日: | 2018-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN111068963A | 公開(公告)日: | 2020-04-28 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號: | B05B15/40 | 分類號: | B05B15/40;B05B15/00 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 230601 安徽省合肥市合肥*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 過濾器 潤濕 系統 | ||
本發明提供一種過濾器潤濕系統及供液系統。過濾器潤濕系統包括過濾裝置、排放管路及潤濕管路,過濾裝置包括至少一個過濾器;排放管路與過濾裝置的排污口相連接,用于排放經過濾裝置過濾后產生的殘液;潤濕管路一端與排放管路相連接,用于對備用過濾器進行預潤濕。供液系統包括供液管路、過濾裝置、噴涂裝置、排放管路及潤濕管路,所述供液管路一端連接至液體供給源。采用本發明的過濾器潤濕系統及供液系統可以在正常的供液過程中進行備用過濾器的預潤濕而無需占用設備的工作時段,可以有效節約設備的停機時間,提高設備產出率,降低生產成本。
技術領域
本發明屬于集成電路制造領域,特別是涉及一種有機溶劑的過濾器潤濕系統及供液系統。
背景技術
光刻工藝是半導體制造工藝中非常重要的工藝,它是在光照作用下,借助光致抗蝕劑(又名光刻膠)將掩膜版上的圖形轉移到基底上的過程。光刻工藝過程中需要使用光刻膠和顯影液等多種有機溶劑,而如果有機溶劑中含有氣泡或顆粒等雜質,將導致轉移圖形的品質下降甚至導致圖形轉移完全失敗。因而在現有的光刻工藝的用于供應有機溶劑的供液系統中,需要使用過濾器去除有機溶劑當中含有的氣泡和顆粒等雜質。過濾器的材質通常分為親水性材質和疏水性材質,疏水性材質的過濾器在使用前通常需要預潤濕,只有經過充分預潤濕的過濾器才能用于過濾。因為如果過濾器不經潤濕或潤濕不充分就會產生氣泡,氣泡的產生一方面會造成噴涂系統的壓力不穩定,另一方面氣泡隨光阻噴涂到基底表面會導致光刻圖形缺陷,影響產品良率,所以對此類疏水性材質的過濾器在使用前進行預潤濕非常重要。現有技術中并沒有專門的預潤濕裝置。為防止過濾器在預潤濕過程中被污染,現有技術中都是利用設備本身的供液管路給對應的備用過濾器做預潤濕,但預潤濕時間可能長達12小時以上,嚴重影響設備的產出及復機時間。這對于動輒上億的光刻設備而言是一種極大的浪費,導致不必要的制造成本上升。
發明內容
鑒于以上所述現有技術的缺點,本發明的目的在于提供一種過濾器潤濕系統及供液系統,用于解決現有技術中因利用供液管路給備用過濾器做預潤濕,導致設備的產出率下降、生產成本上升等問題。
為實現上述目的及其他相關目的,本發明提供一種過濾器潤濕系統,包括過濾裝置、排放管路及潤濕管路,所述過濾裝置包括至少一個過濾器;所述排放管路與所述過濾裝置的排污口相連接,用于排放經所述過濾裝置過濾后產生的殘液;所述潤濕管路一端與所述排放管路相連接,用于對備用過濾器進行預潤濕。
可選地,所述過濾裝置包括一個過濾器,所述過濾器包括進液口、出液口及排污口,所述過濾器的進液口、出液口及排污口與所述過濾裝置的進液口、出液口及排污口一一對應。
在另一可選方案中,所述過濾裝置包括第一過濾器和第二過濾器,所述第一過濾器和所述第二過濾器均包括進液口、出液口及排污口,所述第一過濾器的進液口與所述過濾裝置的進液口相對應,所述第一過濾器的出液口與所述第二過濾器的進液口相連接,所述第二過濾器的排污口與所述排放管路相連接。
在一可選方案中,所述潤濕管路的另一端與所述排放管路相連接,所述備用過濾器連接于所述潤濕管路上。
可選地,所述潤濕管路上設置有過濾器支架,用于放置所述備用過濾器。
可選地,所述潤濕管路上設置有閥門,所述閥門設置于所述潤濕管路與所述排放管路相鄰的一端。
可選地,所述過濾器潤濕系統還包括回收容器,所述回收容器與所述排放管路相連接,用于回收所述排放管路排放的殘液。
更可選地,所述過濾器潤濕系統還包括延時器,所述延時器與所述閥門相連接,用于在經設定的時間后將所述閥門關閉。
在另一可選方案中,所述潤濕管路的另一端與所述回收容器相連接。
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