[發明專利]一種閃爍晶體用反射膜及其制備工藝有效
| 申請號: | 201811216660.8 | 申請日: | 2018-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN109280343B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發明(設計)人: | 廖永建;周里華;張福亮 | 申請(專利權)人: | 惠磊光電科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C08L63/00 | 分類號: | C08L63/00;C08L83/04;C08K3/22;C08J5/18;G02B5/08 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 謝緒寧;薛赟 |
| 地址: | 201800 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 閃爍 晶體 反射 及其 制備 工藝 | ||
1.一種閃爍晶體用反射膜,其特征在于,包括如下重量份數的組分:
二氧化鈦粉體35~42份;
氧化鎂粉體10~12份;
三氧化二鋁粉體 4~6份;
光學環氧樹脂A膠20~39份;
光學環氧樹脂B膠4~5.5份;
混料促進劑 4~10份;
抗靜電劑0.8~1.5份;
增白劑1.2~4份;
所述混料促進劑選用丙酮或乙醇。
2.根據權利要求1所述的閃爍晶體用反射膜,其特征在于,所述閃爍晶體用反射膜中還加入重量份數為 0.8~2份的二亞乙基三胺。
3.根據權利要求1所述的閃爍晶體用反射膜,其特征在于,所述閃爍晶體用反射膜中還加入重量份數為0.6~1.2份的苯乙烯。
4.根據權利要求1所述的閃爍晶體用反射膜,其特征在于,所述閃爍晶體用反射膜中還加入重量份數為0.5~1.2份的聚二甲基硅氧烷。
5.根據權利要求1所述的閃爍晶體用反射膜,其特征在于,所述抗靜電劑選用HS-4090環氧樹脂專用抗靜電劑。
6.根據權利要求1所述的閃爍晶體用反射膜,其特征在于,所述增白劑選用RQT-C-3增白劑。
7.一種如權利要求1-6中任一項所述的閃爍晶體用反射膜的制備工藝,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一,將相應重量份數的二氧化鈦粉體、氧化鎂粉體和三氧化二鋁粉體在攪拌罐中進行充分混合,攪拌轉速為60~100rpm,攪拌時間為30~40min,得到混合料;
步驟二,將相應重量份數的光學環氧樹脂A膠、混料促進劑和混合料一起倒入混料桶中,混料桶的轉速為60~100rpm,攪拌時間為24~40h,溫度維持在40~90℃,得到混和膠料;
步驟三,將相應重量份數的光學環氧樹脂B膠、抗靜電劑和增白劑加入到混合膠料中,快速攪拌均勻,真空消泡,且轉速為90~110rpm,攪拌時間為20~28h,溫度維持在35~45℃,得到混料;
步驟四,壓延成型,將混料放置在壓膜板上,調整好定位條,使滾筒對混料進行多次擠壓,且滾筒的轉速為20~39rpm,滾筒的溫度為30~40℃,得到反射膜粗坯;
步驟五,自然固化,將上述壓延成型好的反射膜粗坯在常溫下靜止8~20h,得到閃爍晶體用反射膜;
步驟六,將閃爍晶體用反射膜在磨床上進行雙面打磨,采用金剛石砂輪進行打磨,直至閃爍晶體用反射膜表面平整光滑,且金剛石砂輪轉速設置為800~900rpm;
步驟七,將打磨后的閃爍晶體用反射膜用內圓切割機進行切割,形成不同規格的閃爍晶體用反射膜,進行存儲待用。
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