[發(fā)明專利]硫氧化釓粉體的制備方法及其產(chǎn)品和應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811216092.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109370583A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何丹農(nóng);李偉;張文樺;寇華敏;朱君;張迎;金彩虹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海納米技術(shù)及應(yīng)用國(guó)家工程研究中心有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09K11/77 | 分類號(hào): | C09K11/77;G01N23/223 |
| 代理公司: | 上海東亞專利商標(biāo)代理有限公司 31208 | 代理人: | 董梅 |
| 地址: | 201109 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硫氧化釓 摻雜的 熒光粉 制備 氧化釓粉體 粉體 液相沉淀法 稀土離子 稀土硝酸鹽溶液 中稀土氧化物 摻雜均勻性 稀土沉淀物 發(fā)光性能 分子水平 固相混合 溶劑熱法 硝酸溶解 沉淀劑 均勻性 前驅(qū)體 再沉淀 硫源 熔鹽 煅燒 應(yīng)用 摻雜 分解 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于硫氧化釓熒光粉的制備方法及其產(chǎn)品和應(yīng)用,通過(guò)液相沉淀法來(lái)獲取摻雜的氧化釓粉體,以此摻雜的氧化釓粉體與硫源及熔鹽混合,采用溶劑熱法來(lái)制備硫氧化釓粉體,其中,所述的液相沉淀法,是將不同的稀土硝酸鹽溶液混合均勻后,與沉淀劑反應(yīng)來(lái)生成摻雜的稀土沉淀物前驅(qū)體,煅燒后分解為摻雜的氧化釓粉體。本發(fā)明中稀土氧化物粉體通過(guò)硝酸溶解再沉淀的過(guò)程純度得以提高,有效的減少某些雜質(zhì)對(duì)硫氧化釓熒光粉發(fā)光性能的影響;稀土離子的摻雜均勻性更好,在液相中,稀土離子可以實(shí)現(xiàn)在分子水平上的混合,其均勻性是任何固相混合方法所不能比擬的。利用上述方法制備的硫氧化釓熒光粉,具有工藝簡(jiǎn)單,純度高,摻雜均勻等特點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及材料制備領(lǐng)域,具體涉及一種硫氧化釓粉體的制備方法及其產(chǎn)品和應(yīng)用,尤其涉及一種用于X射線探測(cè)的熒光粉的制備方法。
背景技術(shù)
X射線的探測(cè)具有重要的應(yīng)用價(jià)值,被廣泛應(yīng)用于工業(yè)無(wú)損探傷、安全檢查、醫(yī)學(xué)影像設(shè)備等。尤其是隨著光電轉(zhuǎn)換器件的發(fā)展,數(shù)字化的探測(cè)器不斷涌現(xiàn)出來(lái),使得這些應(yīng)用更加便捷。在目前主流的醫(yī)學(xué)影像設(shè)備中,X線影像設(shè)備占據(jù)著重要地位,如:數(shù)字X線攝影(DR)用于日常體檢中的胸片拍攝、計(jì)算機(jī)斷層掃描成像(CT)用于人體內(nèi)部三維結(jié)構(gòu)成像等。作為X線影像設(shè)備的“眼睛”,探測(cè)器一方面占據(jù)著成本的很大比重,另一方面技術(shù)復(fù)雜程度高,為X線影像設(shè)備必不可缺的核心部件之一。X射線探測(cè)器分為兩大類:直接型和間接型。所謂的直接型探測(cè)器可以直接吸收X射線,并將其轉(zhuǎn)換成電信號(hào);而間接型探測(cè)器是由一層閃爍材料先將X射線轉(zhuǎn)換成可見(jiàn)光信號(hào),然后再用光電轉(zhuǎn)換器件將可見(jiàn)光轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。直接型探測(cè)器,主要是非晶硒探測(cè)器,存在對(duì)X射線的吸收能力差、工作溫度要求苛刻等缺點(diǎn),應(yīng)用不如間接型探測(cè)器廣泛。間接型探測(cè)器主要由兩部分組成:一是閃爍體,將高能的X射線光子轉(zhuǎn)換成低能的可見(jiàn)光光子;另一是光電轉(zhuǎn)換器件,將可見(jiàn)光光子轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。其中,閃爍體是探測(cè)器的關(guān)鍵。目前,X線影像設(shè)備中主要的閃爍體有:DR探測(cè)器中的碘化銫(CsI)熒光屏和硫氧化釓(GOS)熒光屏;CT探測(cè)器中的GOS閃爍陶瓷和寶石(GEMStone)。
在探測(cè)器的閃爍體中,GOS閃爍體一方面在DR和CT探測(cè)器中均有應(yīng)用;另一方面在各自應(yīng)用領(lǐng)域占據(jù)著較高的市場(chǎng)份額,如:使用GOS熒光屏的X線平板探測(cè)器制造商有:法國(guó)的Trixell(西門(mén)子和飛利浦參股),美國(guó)的GE、瓦里安,日本的佳能、東芝,以及國(guó)內(nèi)的上海奕瑞、品臻等;使用GOS閃爍陶瓷的CT制造商有德國(guó)西門(mén)子、荷蘭飛利浦、日本的東芝、日立、以及國(guó)內(nèi)的東軟、聯(lián)影。GOS閃爍體的研究包括GOS熒光屏和GOS閃爍陶瓷,而GOS粉體是兩者的基礎(chǔ)和關(guān)鍵。
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