[發(fā)明專利]一種隱形天線云層及其應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811215777.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109346825A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳壽元;陳宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東師范大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01Q1/28 | 分類號(hào): | H01Q1/28;H01Q1/36;H01Q19/12;B64C1/36 |
| 代理公司: | 濟(jì)南圣達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37221 | 代理人: | 張勇 |
| 地址: | 250014 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 隱形天線 拋物面天線 聚集板 拋物面 處理模塊 焦點(diǎn) 飛行物 低反射系數(shù) 焦點(diǎn)處 雷達(dá)波 排布 匯聚 飛行 覆蓋 吸收 應(yīng)用 | ||
1.一種隱形天線云層,其特征是:包括隱形天線群,所述隱形天線群包括多個(gè)結(jié)構(gòu)相同的隱形天線,所述隱形天線群排布于飛行物外表面,形成全覆蓋,所述隱形天線包括拋物面天線系統(tǒng)、焦點(diǎn)聚集處理模塊,所述拋物面天線的拋物面朝向飛行物外側(cè),所述焦點(diǎn)聚集板設(shè)置于拋物面天線的拋物面的焦點(diǎn)處,所述焦點(diǎn)聚集處理模塊設(shè)置在焦點(diǎn)聚集板上,對(duì)拋物面匯聚的雷達(dá)波進(jìn)行處理。
2.如權(quán)利要求1所述的一種隱形天線云層,其特征是:所述焦點(diǎn)聚集板設(shè)置于天線拋物面焦點(diǎn)處,接收雷達(dá)微波信號(hào)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種隱形天線云層,其特征是:所述拋物面天線的拋物面結(jié)構(gòu)采用卡塞格倫模式,具有相互連接的一次反射面和二次反射面,且二次反射面的焦點(diǎn)為一次反射面的頂點(diǎn)。
4.如權(quán)利要求3所述的一種隱形天線云層,其特征是:所述拋物面外邊沿采用正六邊形。
5.如權(quán)利要求3所述的一種隱形天線云層,其特征是:二次反射面的外截面為圓形,內(nèi)面為拋物面,拋物面的焦點(diǎn)就是一次反射面的頂點(diǎn),即飛行物外殼對(duì)應(yīng)拋物面天線的谷底。
6.如權(quán)利要求3所述的一種隱形天線云層,其特征是:所述一次反射面和二次反射面之間采用磁性支柱連接。
7.如權(quán)利要求3所述的一種隱形天線云層,其特征是:所述一次反射面和二次反射面之間,在二次反射面的結(jié)合點(diǎn)上設(shè)置有磁鐵性金屬網(wǎng),通過(guò)磁鐵性金屬網(wǎng)固定一次反射面和二次反射面。
8.如權(quán)利要求1所述的一種隱形天線云層,其特征是:所述焦點(diǎn)聚集處理模塊包括接收器,所述接收器位于旋轉(zhuǎn)雙曲面的實(shí)焦點(diǎn)處,所述焦點(diǎn)聚集板與飛行物外表面的金屬結(jié)構(gòu)通過(guò)導(dǎo)線連接導(dǎo)通。
9.一種飛行物,其特征是:飛行物本體上覆蓋有如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的隱形天線云層。
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