[發明專利]一種連續進行晶界擴散和熱處理的裝置以及方法

有效

• 申請號: 201811215366.5
• 申請日: 2018-10-18
• 公開（公告）號: CN109735687B
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: 王清江;廖宗博;林玉麟;黃長庚
• 申請（專利權）人: 福建省長汀金龍稀土有限公司
• 主分類號: C21D1/00
• 分類號: C21D1/00;C21D9/00;C22C38/06;C22C38/10;C22C38/12;C22C38/16;H01F1/057;H01F41/02
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1.一種連續進行晶界擴散和熱處理的方法，其特征在于：合金工件連同擴散源設置在相對獨立的處理箱內，所述合金工件為Nd-Fe-B系燒結磁體，所述Nd-Fe-B系燒結磁體為TRE為28.8wt%-30.5wt%的Nd-Fe-B系燒結磁體；所述方法包括對所述處理箱依序在相互氣密的分室進行的晶界擴散處理、第一級風冷卻處理、熱處理、和第二級風冷卻處理，所述第一級風冷卻處理的冷卻風溫度在25℃以上、并與所述晶界擴散處理的溫度至少相差550℃，所述第二級風冷卻處理的冷卻風溫度在25℃以上、并與所述熱處理的溫度至少相差300℃；所述第一級風冷卻處理中，所述合金工件的最初10min的平均冷卻速度為5℃/min-12℃/min；所述第二級風冷卻處理中，所述合金工件的最初10min的平均冷卻速度為5℃/min-12℃/min；所述熱處理中，不同區域的所述合金工件溫差在±5℃以下；所述晶界擴散處理、第一級風冷卻處理、熱處理、和第二級風冷卻處理分別于晶界擴散室、第一冷卻室、熱處理室、第二冷卻室進行，所述晶界擴散室、第一冷卻室、熱處理室、第二冷卻室依序設置且各個室之間設置有用以運送所述處理箱的運送系統，所述第一冷卻室和所述第二冷卻室均采用風冷系統；所述冷卻室的壓力為50kPa-100kPa；所述晶界擴散室呈現方形結構，并包括兩個相向設置在所述方形結構內壁的加熱區域，所述處理箱放置在所述方形結構中部的料架上；同樣地，所述熱處理室呈現方形結構，并包括兩個相向設置在所述方形結構內壁的加熱區域，所述處理箱放置在所述方形結構中部的料架上，所述晶界擴散室和熱處理室中，所述處理箱距兩個相向設置的所述加熱區域的距離相同，為5cm -20cm。

2.根據權利要求1所述連續進行晶界擴散和熱處理的方法，其特征在于：晶界擴散溫度為800℃-1000℃，所述第一冷卻室的冷卻風溫度為25℃-150℃，所述熱處理室的熱處理溫度為400℃-650℃，所述第二冷卻室的冷卻風溫度為25℃-100℃。

3.根據權利要求1所述連續進行晶界擴散和熱處理的方法，其特征在于：所述相對獨立的處理箱為密閉盒體，所述密閉盒體包括相互配合的盒體和蓋體。

4.根據權利要求1所述連續進行晶界擴散和熱處理的方法，其特征在于：所述風冷系統為采用惰性氣體的風冷系統。