[發(fā)明專利]一種雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811215346.8
• 申請日: 2018-10-18
• 公開（公告）號: CN111077735A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發(fā)明（設計）人: 徐佳;張紅鑫;王泰升;許文斌;藺春波;劉建卓;王鶴;許家林
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市科進知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛(wèi)良

1.一種雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，其特征在于，包括激光器、光束整形器、分光鏡組、反射鏡組、偏振片組以及樣品平臺，由所述激光器發(fā)出的激光經(jīng)過所述光束整形器后進入所述分光鏡組進行分光得到多束相干光，所述多束相干光經(jīng)過所述反射鏡組的反射后照射在所述偏振片組，經(jīng)過所述偏振片組后，所述多束相干光在所述樣品平臺表面產(chǎn)生干涉并形成雙周期結(jié)構(gòu)干涉圖樣，根據(jù)所述雙周期結(jié)構(gòu)干涉圖樣制備雙周期結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權利要求1所述的雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，其特征在于，所述多束相干光為六束相干光，所述分光鏡組包括第一分光鏡、第二分光鏡、第三分光鏡、第四分光鏡以及第五分光鏡，所述反射鏡組包括第一反射鏡、第二反射鏡、第三反射鏡、第四反射鏡以及第五反射鏡，所述激光經(jīng)過所述第一分光鏡的透射、所述第二分光鏡的透射、所述第五分光鏡的反射、所述第四分光鏡的透射后形成第一相干光，所述第一相干光經(jīng)過所述第二反射鏡反射后照射在所述樣品平臺；

所述激光經(jīng)過所述第一分光鏡的透射、所述第二分光鏡的透射、所述第五分光鏡的反射、所述第四分光鏡的反射后形成第二相干光，所述第二相干光照射在所述樣品平臺上；

所述激光經(jīng)過所述第一分光鏡的透射、所述第二分光鏡的透射、所述第五分光鏡的透射后形成第三相干光，所述第三相干光進過所述第四反射鏡和所述第五反射鏡的反射后照射在所述樣品平臺上；

所述激光經(jīng)過所述第一分光鏡的反射、所述第三分光鏡的透射后形成第四相干光，所述第四相干光通過所述第三反射鏡反射后照射在所述樣品平臺上；

所述激光經(jīng)過所述第一分光鏡的反射、所述第三分光鏡的折射后形成第五相干光，所述第五相干光照射在所述樣品平臺上；

所述激光進過所述第一分光鏡的透射、所述第二分光鏡的反射后形成第六相干光，所述第六相干光經(jīng)過所述第一反射鏡的反射后照射在所述樣品平臺上。

3.根據(jù)權利要求2所述的雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，其特征在于，還包括波片組，所述波片組包括第一波片、第二波片、第三波片、第四波片、第五波片以及第六波片，所述偏振片組包括第一偏振片、第二偏振片、第三偏振片、第四偏振片、第五偏振片以及第六偏振片，所述第一相干光經(jīng)過所述第一偏振片和所述第一波片后照射在所述樣品平臺上，所述第二相干光經(jīng)過所述第二偏振片和所述第二波片照射在所述樣品平臺上，所述第三相干光經(jīng)過所述第六偏振片和所述第六波片照射在所述樣品平臺上，所述第四相干光經(jīng)過所述第三偏振片和所述第三波片照射在所述樣品平臺上，所述第五相干光經(jīng)過所述第四偏振片和所述第四波片照射在所述樣品平臺上，所述第六相干光經(jīng)過所述第五偏振片和所述第五波片照射在所述樣品平臺上。

4.根據(jù)權利要求3所述的雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，其特征在于，所述第一波片、所述第二波片、所述第三波片、所述第四波片、所述第五波片以及所述第六波片均采用四分之一波片。

5.根據(jù)權利要求1所述的雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，其特征在于，所述激光器采用波長為405nm的激光器。

6.根據(jù)權利要求3所述的雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，其特征在于，還包括用于調(diào)整所述偏振片組和所述波片組相對位置的位置調(diào)整組件。

7.根據(jù)權利要求6所述的雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，其特征在于，所述位置調(diào)整組件具有伺服電機、位置傳感器、電機控制器以及處理器，所述位置傳感器檢測所述伺服電機的轉(zhuǎn)動角度，所述處理器根據(jù)所述轉(zhuǎn)動角度向所述電機控制器發(fā)出控制指令，所述電機控制器根據(jù)所述控制指令控制所述伺服電機運動。

8.一種雙周期結(jié)構(gòu)制備方法，其特征在于，應用于如權利要求1至7中任一項所述的雙周期結(jié)構(gòu)制備系統(tǒng)，所述方法包括：

由所述激光器發(fā)出的激光經(jīng)過所述光束整形器后進行光束整形；

經(jīng)過光束整形的光束進入所述分光鏡組進行分光得到多束相干光；

所述多束相干光經(jīng)過所述反射鏡組的反射后照射在所述偏振片組；

經(jīng)過所述偏振片組后所述多束相干光在所述樣品平臺表面產(chǎn)生干涉并形成雙周期結(jié)構(gòu)干涉圖樣，根據(jù)所述雙周期結(jié)構(gòu)干涉圖樣制備雙周期結(jié)構(gòu)。