[發明專利]一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi2

有效

• 申請號: 201811212909.8
• 申請日: 2018-10-18
• 公開（公告）號: CN109234728B
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發明（設計）人: 孫順平;顧順;胡益豐;王洪金;張揚
• 申請（專利權）人: 江蘇理工學院
• 主分類號: C23C24/10
• 分類號: C23C24/10;C23C14/35;C23C14/16;C23C28/04
• 代理公司: 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231
• 代理人: 王巍巍

1.一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi₂涂層的方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)對鉬合金板進行表面拋光，并清洗、烘干；

(2)通過磁控濺射在步驟(1)獲得的鉬合金板上濺射Si薄層；

(3)將含硅合金粉末進行球磨；

(4)將步驟(3)獲得的含硅合金粉末預置在步驟(2)獲得的濺射Si薄層的鉬合金上；

(5)采用激光器對步驟(4)獲得的預置合金粉末的鉬合金進行激光掃描，制成表面MoSi₂涂層；

步驟(2)所述的Si薄層的厚度為20～30μm。

2.根據權利要求1所述的一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi₂涂層的方法，其特征在于，步驟(3)所述含硅合金粉末的成分為按質量百分比由以下成分組成Mo 50～60％，Nb 3.5～7.5％，W 3.0～6.0％，Cr 2.5～4.5％，Ti 2.0～3.5％，Al 2.0～5.5％，余量為Si。

3.根據權利要求2所述的一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi₂涂層的方法，其特征在于，所述Mo、Nb、W、Cr、Ti、Al和Si均以合金粉末的形式加入，各元素粉末純度大于99.5％，顆粒直徑小于4.5μm。

4.根據權利要求1所述的一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi₂涂層的方法，其特征在于，步驟(2)所述磁控濺射，為使用高純氬氣作為濺射氣體，氬氣氣流量為25～35sccm，氬氣濺射氣壓為0.15～0.35Pa。

5.根據權利要求1所述的一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi₂涂層的方法，其特征在于，步驟(3)所述球磨的時間為18～24h，球磨轉速為300～450r/min。

6.根據權利要求1所述的一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi₂涂層的方法，其特征在于，步驟(4)所述預置，為采用酒精或丙酮將含硅合金粉末粘附在濺射Si薄層的鉬合金表面，預置含硅合金粉末厚度為0.5～1.0mm，并置于140～160℃加熱爐中，干燥30～40min。

7.根據權利要求1所述的一種鉬合金表面激光熔覆制備MoSi₂涂層的方法，其特征在于，步驟(5)中所述激光掃描的搭接率為40～60％，激光功率2.0～2.4kW，掃描速度4～8mm/s。