[發(fā)明專利]一種鈮合金表面MoSi2

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811212879.0
• 申請日: 2018-10-18
• 公開（公告）號: CN109267062B
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫順平;顧順;王洪金;張揚(yáng);李小平
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇理工學(xué)院
• 主分類號: C23C24/10
• 分類號: C23C24/10;C23C14/35;C23C14/16;C23C28/00
• 代理公司: 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32231
• 代理人: 王巍巍

1.一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)對鈮合金進(jìn)行表面拋光，并清洗、烘干；

(2)通過磁控濺射在步驟(1)獲得的鈮合金上濺射Mo-W層；

(3)將含硅合金粉末進(jìn)行球磨；

(4)將步驟(3)獲得的含硅合金粉末預(yù)置在步驟(2)獲得的濺射Mo-W層的鈮合金上；

(5)采用激光器對步驟(4)獲得的預(yù)置合金粉末的鈮合金進(jìn)行激光掃描，在鈮合金表面制成MoSi₂涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，步驟(3)所述含硅合金粉末的成分為按質(zhì)量百分比由以下成分組成Mo 52～63％，Nb 3.5～14％，Al2.0～5.5％，W 3.0～6.0％，余量為Si和各雜質(zhì)元素，雜質(zhì)元素的總量小于0.5％。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，所述Mo、Nb、Al、W和Si均以粉末的形式加入，各元素粉末純度大于99.5％，顆粒直徑小于4.5μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，步驟(2)所述濺射Mo-W層，其元素按原子百分比Mo 80～90at.％，余量為W，使用高純氬氣作為濺射氣體，氬氣氣流量為25～35sccm，氬氣濺射氣壓為0.15～0.35Pa。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，步驟(4)所述預(yù)置，為采用酒精或丙酮將含硅合金粉末粘附在濺射Mo-W層的鈮合金表面，預(yù)置含硅合金粉末厚度為1.0～1.5mm，并置于110～120℃加熱爐中，干燥15～20min。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，步驟(2)所述的Mo-W層的厚度為100～200μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，步驟(3)所述球磨的時(shí)間為18～24h，球磨轉(zhuǎn)速為300～400r/min。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈮合金表面MoSi₂涂層的制備方法，其特征在于，步驟(5)中所述激光掃描的搭接率為40～60％，激光功率2.3～2.7kW，掃描速度5～9mm/s。