[發明專利]一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜及其制備方法在審
| 申請號: | 201811211627.6 | 申請日: | 2018-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN109089406A | 公開(公告)日: | 2018-12-25 |
| 發明(設計)人: | 姚艷芳 | 申請(專利權)人: | 吳江友鑫新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K9/00 | 分類號: | H05K9/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215200 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電磁屏蔽膜 透明金屬 內陷式 網格 基材 高透光 樹脂層 屏蔽 制備 導電納米材料 金屬網格結構 生產制造工藝 環境友好型 凹版印刷 導磁材料 高耐候性 金屬結構 金屬線條 模擬電路 屏蔽效果 視覺效果 透明結構 網格設計 微納加工 透過型 導磁 線寬 吸收 制作 嵌入 | ||
本發明公開了一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜,包括基材,基材的上側設有高透光樹脂層,在高透光樹脂層內部嵌入有多個納米導磁材料顆粒,還公開了一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜的制備方法,本發明一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜,采用微納加工的方式制作透明結構基材,并使用凹版印刷的原理在結構內部形成金屬網格結構,使其具有高透過型,金屬結構具有高耐候性;采用環境友好型生產制造工藝,且制作的金屬線條線寬最細可達到1um,具有很好的視覺效果;采用導磁與導電納米材料相結合的組成方式使可有效提高屏蔽效果,拓寬屏蔽范圍;采用多種網格設計與模擬電路吸收陣列相結合,使其具有高效的屏蔽及吸收效果。
技術領域
本發明涉及電磁屏蔽膜技術領域,具體是一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜及其制備方法。
背景技術
常規的電磁屏蔽視窗,多采用銅刻蝕、感光銀等方式將金屬網格集成于透明基底材料表面,采用內夾金屬絲網的屏蔽玻璃,產品的透光度低、屏蔽波段窄,難以滿足從低頻10KHz到高頻18GHz寬屏段電磁屏蔽性能的要求,屏蔽性能不完善,綜合性能不佳。
發明內容
本發明的目的在于提供一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜及其制備方法,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:
一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜,包括基材,所述基材的上側設有高透光樹脂層,在高透光樹脂層內部嵌入有多個納米導磁材料顆粒,在高透光樹脂層上均勻排布有多個凹槽,每個凹槽內部由下至上均勻分布有納米金屬導電材料層、納米金屬導磁材料層和黑化納米材料層。
進一步的,所述基材1的材質為PET、PC、PEN、PP和PS中的一種。
進一步的,所述高透光樹脂層中的高透光樹脂的材質為PETG和TPU中的一種。
進一步的,所述納米金屬導電材料層為納米銅導電油墨層。
進一步的,所述納米金屬導磁材料層為納米導磁油墨層。
進一步的,所述黑化納米材料層為黑化油墨層。
一種內陷式透明金屬網格電磁屏蔽膜的制備方法,具體包括以下步驟:
S1、根據需要選擇合適的材料作為基材;
S2、在基材1上粘結高透光樹脂形成高透光樹脂層;
S3、根據需要制作模具;
S4、利用步驟S3中制作好的模具在高透光樹脂層上進行紋理轉印形成凹槽結構;
S5、將納米銅導電油墨、納米導磁油墨、黑化油墨按照設計依次填入步驟S4中的凹槽結構內,形成導電線路網格;
S6、根據需要在步驟S5中已經燒結成型的導線線路表面通過電沉積或化學沉積的方式在網格表面沉積納米導磁材料,在高透光樹脂層內部形成納米導磁待料顆粒。
進一步的,所述步驟S3中,采用高精度光學曝光工藝將光阻曝光顯影實現微結構發生。
進一步的,所述步驟S4中,具體采用曝光UV樹脂的方式進行紋理轉印。
進一步的,所述步驟S5中,具體采用凹版印刷的方式將納米銅導電油墨、納米導磁油墨、黑化油墨依次填入凹槽結構內,填充完畢后進行燒結成型。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:
1、采用微納加工的方式制作透明結構基材,并使用凹版印刷的原理在結構內部形成金屬網格結構,使其具有高透過型,金屬結構具有高耐候性。
2、采用環境友好型生產制造工藝,且制作的金屬線條線寬最細可達到1um,具有很好的視覺效果。
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