[發明專利]利用稀硫酸刻蝕提高二氧化釩薄膜可見光透過率的方法

在審

• 申請號: 201811210682.3
• 申請日: 2018-10-17
• 公開（公告）號: CN109402581A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 梁繼然;郭津榜;趙一瑞
• 申請（專利權）人: 天津大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/18;C23C14/02;C23C14/58
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 琪琛

1.一種利用稀硫酸刻蝕提高二氧化釩薄膜可見光透過率的方法，其特征在于，

包括以下步驟：

(1)藍寶石基底的清洗：

將藍寶石片依次放入去離子水、丙酮以及無水乙醇中進行超聲清洗，再用去離子水洗凈，最后將藍寶石基片放入無水乙醇中備用；

(2)金屬釩薄膜的制備：

將洗凈的藍寶石基底置于DPS-Ⅲ型超高真空對靶磁控濺射鍍膜機的真空室，采用質量純度為99.99％的金屬釩作為靶材，以質量純度為99.999％的氬氣作為工作氣體制備金屬釩薄膜；

(3)二氧化釩薄膜的制備：

將步驟(2)制得的金屬釩薄膜放置于快速退火爐中進行快速氧化熱退火；

(4)二氧化釩薄膜的刻蝕；

將步驟(3)中制得的二氧化釩薄膜放置于質量分數為0.1％的稀硫酸中浸泡刻蝕5到25分鐘。

2.根據權利要求1所述利用稀硫酸刻蝕提高二氧化釩薄膜可見光透過率的方法，其特征在于，所述步驟(2)濺射條件為：本底真空度8.0×10^-4Pa，氬氣氣體流量為48mL/min，濺射工作氣壓為2Pa，濺射功率為120W，濺射時間8min。

3.根據權利要求1所述利用稀硫酸刻蝕提高二氧化釩薄膜可見光透過率的方法，其特征在于，所述步驟(3)快速退火爐爐內溫度的改變規律分為為升溫、保溫、降溫三個階段，熱氧化時通入的氣體為高純氧氣，升溫和保溫時氣體流量固定為7slpm，其余階段氣體流量固定為1slpm，保溫溫度為480℃，升溫速率通過設定保溫溫度和升溫時間來確定，其值固定為50℃/s，升溫時間9s，保溫時間為70s，降溫時間90s。