[發明專利]一種遺址博物館游客區與文物區空氣墻隔離調控系統及方法

有效

• 申請號: 201811210158.6
• 申請日: 2018-10-17
• 公開（公告）號: CN109323358B
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 羅昔聯;顧兆林;常彬;田偉;溫赫;孟祥兆;張群力
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: F24F9/00
• 分類號: F24F9/00;F24F3/16
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 徐文權

本發明公開了一種遺址博物館游客區與文物區空氣墻隔離調控系統及方法，包括設置于遺址博物館吊頂架空層上的空氣處理機，空氣處理機的出口通過送風風管與將處理后的空氣輸送至遺址博物館的游客區；游客區的空氣經設置在遺址博物館外部的空氣墻回風管與離心風機的入口相連通；空氣墻送風管的出口垂直向上，形成空氣墻；本發明首先可以實現游客與文物保存區的隔離，阻止外部環境的污染和熱量進入文物區，實現文物區環境的“潔凈、穩定”的需求，為遺址文物的長久保存提供適宜環境；同時還可以實現對游客局部區域進行環境調控，大幅度減少空調區域面積，降低遺址博物館環境調控系統的運行能耗，具有良好的節能性和實用性。

【技術領域】

本發明屬于建筑環境與能源應用領域，尤其是一種遺址博物館游客區與文物區空氣墻隔離調控系統及方法。

【背景技術】

遺址博物館是在遺址文物原址建立的保護與展陳性建筑。遺址博物館存在游客與文物兩種環境需求，其中游客區需要根據人體熱舒適性要求將溫度控制在24℃～28℃，相對濕度控制在30％～70％；而對于遺址文物，特別是原址保存的土遺址類文物，目前并沒有具體給出具體的溫濕度參數要求，《中國文物古跡保護準則》(2015年修訂版)根據遺址文物的病害產生原因，提出了維持遺址文物保存環境“潔凈、穩定”的總體要求。由于遺址文物本體規模較大，并且與遺址周邊的環境融為一體，為了更好的保存和展示遺址文物的原貌，我國的遺址博物館大部分都采取大空間建筑布局，有些展廳建筑甚至高達10米以上，對整個大空間展示廳進行全面的環境調控需要消耗大量能源，導致我國有很多遺址博物館并沒有采取任何有效的環境調控手段，無法同時滿足游客的熱舒適性和文物保存的適宜環境需求。

由于游客區與文物區之間缺乏有效的隔離措施，在游客浪涌式進出遺址博物館的影響下，給文物保存環境帶來了嚴重的干擾，導致我國有超過51％的館藏文物遭受環境所導致的污損。目前，由游客區環境引起的污染與溫濕度參數波動已經成為影響遺址文物妥善保存的主要環境要素，因此對文物區和游客區進行隔離并對游客區環境進行調控，是控制外界環境對文物區環境產生干擾，實現文物區“潔凈、穩定”環境需求的重要手段，為實現這一目標，專利《一種坑式結構遺址文物隔離式保存的局部環境調控系統》(專利授權號：201210009112.4)和《一種空氣傘隔離式葬坑局部環境調控系統及調控方法》(專利申請號：2014100322698)都提出了采用空氣送風形成的空氣簾對文物區和游客區進行隔離的思路，這兩種系統都還存在一些局限，其中專利《一種坑式結構遺址文物隔離式保存的局部環境調控系統》所提空氣幕系統的送回風口直接布置在葬坑開口位置，高速送風空氣直接從文物區上方水平流過，因此會卷吸較多的周圍空氣，加速文物區空氣流動，導致文物土環境失水速度加快，存在危害文物本體的隱患，同時該方案還要求送回風口安裝在文物區葬坑的對稱兩側，因此只能適用于方形規則區域的文物區隔離，不能推廣應用于不規則文物區域的隔離；專利《一種空氣傘隔離式葬坑局部環境調控系統及調控方法》所提的空氣傘方案是在專利1的基礎上，針對跨度比較大的方形葬坑區域所提的空氣簾隔離，對于不規則的區域，同樣難以推廣應用。此外，專利《一種遺址文物保存環境雙空隙層玻璃隔離調控系統》(專利申請號：201611110636.7)則提出一種雙空隙玻璃隔離調控系統，實現文物區環境的隔離與調控，該方法的主要缺點是覆蓋在文物區的隔離玻璃容易出現凝結水，同時受玻璃結構強度的影響，難以用于遺址文物區域面積較大的場合。

我國的遺址文物類型多樣，有很多遺址博物館的文物區具有不規則的結構，如金沙遺址，半坡遺址以及兵馬俑3號坑遺址。雖然這些遺址具有不規則的結構，但都有一個相同點，就是展廳中間位置為文物區，遺址文物四周為游客區。針對這種游客區包圍在文物區四周的不規則大尺度遺址文物的環境隔離與游客環境調控需求，本發明提出一種在利用垂直送風在游客區與文物區之間形成空氣墻，并進一步對游客區環境進行調控的環境隔離調控方式，可以滿足游客的熱舒適性環境需求，同時還能實現游客區與文物區環境的隔離，滿足遺址文物的“潔凈、穩定”的適宜環境需求。

經過對現有技術文獻的檢索發現，尚無利用空氣墻對遺址博物館游客區與文物保存區進行隔離并進一步對游客區進行環境調控的相關專利報道。