[發(fā)明專利]具有自動增益和曝光控制的光學生物計量傳感器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811202805.9
• 申請日: 2018-10-16
• 公開（公告）號: CN109696192B
• 公開（公告）日: 2023-02-21
• 發(fā)明（設計）人: R.J.戈夫;A.吉
• 申請（專利權(quán)）人: 辛納普蒂克斯公司
• 主分類號: G01D5/34
• 分類號: G01D5/34;G06V40/13
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李湘;陳嵐

1.一種用于對生物計量輸入對象成像的光學成像設備，包括：

光學傳感器陣列，包括感測元件的陣列；以及

控制電路；

其中所述控制電路配置成：

第一次讀取所述感測元件的陣列中的感測元件的第一子集；

分析感測元件的所述第一子集的第一讀數(shù)，以確定感測元件的所述第一子集的一個或多個感測元件是否飽和；

第一次更改所述光學成像設備的操作點；以及

對所述輸入對象成像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學成像設備，其中所述控制電路配置成通過調(diào)整增益或曝光時間中的至少一個來更改所述操作點。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學成像設備，其中所述控制電路配置成將所述增益或所述曝光時間中的所述至少一個調(diào)整成對應于在亮光中對所述生物計量輸入對象成像的值。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學成像設備，其中所述控制電路還配置成：

在所述操作點的所述第一次更改之后以及在對所述輸入對象的所述成像之前第二次讀取感測元件的所述第一子集。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學成像設備，其中感測元件的所述第一子集包括所述光學傳感器陣列的多個間隔開的行。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學成像設備，其中所述間隔開的行包括接近于所述光學傳感器陣列的邊緣和中心來設置的感測元件。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學成像設備，還包括設置在所述光學傳感器陣列之上的準直器。

8.一種用于對生物計量輸入對象成像的光學成像設備，包括：

光學傳感器陣列，所述光學傳感器陣列包括：

多個未遮蔽的感測元件，所述多個未遮蔽的感測元件被配置成對輸入對象成像；

多個經(jīng)遮蔽的感測元件，包括：

第一感測元件，設置在第一空間遮光罩之下，所述第一空間遮光罩配置成允許第一光量到達所述第一感測元件的感測區(qū)域；以及

第二感測元件，設置在第二空間遮光罩之下，所述第二空間遮光罩配置成允許第二光量到達所述第二感測元件的感測區(qū)域，

其中所述第一光量與所述第二光量不同。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學成像設備，還包括所述光學傳感器陣列之上的濾光器層，其中所述濾光器層包括具有多個孔口的準直器、被設置在所述第一感測元件之上的第一孔口以及被設置在所述第二感測元件之上的第二孔口。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學成像設備，其中所述第一空間遮光罩設置在所述第一孔口內(nèi)，而所述第二空間遮光罩設置在所述第二孔口內(nèi)。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學成像設備，其中所述第一空間遮光罩和所述第二空間遮光罩設置在所述光學傳感器陣列之上以及所述濾光器層之下。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學成像設備，其中所述第一空間遮光罩包括形成第一間隙的阻擋材料以及所述第二空間遮光罩包括形成第二間隙的阻擋材料，所述第一間隙和所述第二間隙準許通過其的光的透射以及所述第二間隙比所述第一間隙更窄。

13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學成像設備，其中所述第一空間遮光罩和所述第二空間遮光罩包括過濾材料，所述過濾材料準許某些波長的光的透射以及阻擋其它波長的光的透射。

14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學成像設備，其中所述第一感測元件和所述第二感測元件接近于所述光學傳感器陣列的邊緣來設置。

15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學成像設備，其中所述第二感測元件接近于所述光學傳感器陣列的中心來設置。