[發(fā)明專利]半導(dǎo)體封裝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811201892.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110034077B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱詩(shī)家;呂彥儒;吳文洲;陳南誠(chéng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 聯(lián)發(fā)科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/31 | 分類號(hào): | H01L23/31;H01L23/66;H01Q1/22;H01Q15/00 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李慶波 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹市*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 | ||
1.一種半導(dǎo)體封裝,其特征在于,包括:
基板,所述基板上具有至少一個(gè)天線層和在天線層下面的接地反射層;
射頻晶粒,設(shè)置在所述基板上、所述基板中或所述基板下;
介質(zhì)層,設(shè)置在所述基板的所述天線層上;以及
頻率選擇表面結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述介質(zhì)層上;
多個(gè)支撐柱,在所述介質(zhì)層中;
其中,所述多個(gè)支撐柱至少圍繞所述天線層和所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)的一側(cè),所述天線層與所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)分別在所述介質(zhì)層的兩側(cè)并且所述多個(gè)支撐柱位于所述天線層與所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)之間的所述介質(zhì)層內(nèi),以及所述多個(gè)支撐柱用于調(diào)整天線場(chǎng)型。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述天線層電連接到所述射頻晶粒。
3.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)包括具有相同形狀和尺寸的金屬圖案的二維周期性數(shù)組。
4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述金屬圖案的二維周期性數(shù)組具有固定間距。
5.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述天線層上方,所述天線層至少有一部分與所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)重疊。
6.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)直接設(shè)置在所述介質(zhì)層的上表面上。
7.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述接地反射層是金屬層。
8.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述半導(dǎo)體封裝是扇出型晶圓級(jí)封裝,并且所述基板是重分布層基板。
9.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述半導(dǎo)體封裝是倒裝芯片芯片級(jí)封裝,并且所述基板是封裝基板。
10.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述半導(dǎo)體封裝是嵌入式晶粒封裝,并且所述基板是有機(jī)層壓基板。
11.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,還包括:多個(gè)焊球,設(shè)置在基板的下表面上。
12.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述介質(zhì)層包括填充材料或氣隙。
13.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,還包括:上基板,設(shè)置在所述介質(zhì)層上;所述頻率選擇表面結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述上基板上。
14.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其中所述支撐柱的為金屬材料或非金屬材料。
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